自动化衬底支架承载装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及待用于无尘室中的衬底支架承载装置及含有此类衬底支架承载装置的无尘室处理装置。此外，本发明专利技术涉及承载具有第一衬底、更优选地具有第一及第二衬底的衬底支架的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】自动化衬底支架承载装置
本专利技术涉及一种自动化衬底支架承载装置及一种含有此类衬底支架承载装置的无尘室处理装置，优选地用于电镀。此外，本专利技术涉及一种自动地承载双侧衬底支架的方法。
技术介绍
衬底支架的使用在所属领域中为我们所知。在本文中，将通常提供极敏感的表面的衬底放置于衬底支架中，以尤其允许经由至少一个处理步骤来较容易地输送及处理所述衬底。使用此类衬底支架会高度地缩减损坏衬底的风险且甚至允许自动地加工高度敏感的衬底。举例来说，WO2014053300A1及WO2016096946A1涉及此类衬底支架及其效益。然而，此类衬底承载元件提供衬底的平缓处置与衬底在衬底支架中的准确放置的平衡。在例如在将衬底交递至衬底支架期间将衬底牢固地附接至夹持器及衬底支架的状况下，极准确的放置是可能的。如果前述附接中的一或两者减弱，那么放置至少在长期运行时变得较不准确。已注意到，将高质量涂层涂覆于提供高度增加的敏感度的新种类的衬底上会需要准确放置与平缓处置的新平衡。当前系统似乎未能提供所需平衡或成本显著地增加。在本文中，已提到多个问题。减慢放置或多次校正位置会高度地缩减产出率，这是因为此步骤已经表示加工的瓶颈。考虑到经处理衬底的高价值以及构建及维持无尘室生产的成本，接受使用较大衬底的较不准确的放置且忽略衬底的损耗的未经处理的外部部件表示显著的损耗。接受使用正常尺寸的衬底的较不准确的放置且接纳电触点的不正确的放置会提供不规则的电接触，这通常会产生对于高质量要求是不可接受的显著非均质涂层。因此，必须测试对应衬底，且必须预期到，大量衬底不满足市场所需求的要求。此外，基于电子器械在现代社会中的稳定增加的重要性，生产系统应有益地提供不同衬底及衬底支架的灵活处置，以快速地适应于当前需求且尽可能地使用无尘室中的最小量的工作空间来适应生产。本专利技术的目标因此，需要提供一种改进式衬底支架承载装置以提供平缓而准确的处置的改进式平衡，以准备好用于新种类的衬底，优选地灵活地使用且仍允许高频率的衬底加工。
技术实现思路
前述问题由本专利技术解决，如独立权利要求及具体实施方式中所揭示。提供额外效益的另外修改包含于附属权利要求及以下具体实施方式中。然而，本文中未明确地陈述但从本文中所论述的联系直接可导出或可辨别的甚至另外效益由本专利技术及本文中所揭示的其实施例解决。本专利技术涉及一种用于衬底至无尘室内部的衬底支架中的自动化水平承载的衬底支架承载装置，其中衬底支架承载装置含有衬底支架导引元件、驱动单元、移动机构、衬底支架处置元件及张开机构，其中驱动单元连接至移动机构，其中移动机构连接至衬底支架处置元件，其中移动机构适应于将来自驱动单元的推进传输至衬底支架处置元件以提供衬底支架处置元件围绕基本上平行于衬底的表面的轴线的旋转，其中衬底支架处置元件适应于旋转达约180°，其中衬底支架处置元件适应于可逆地紧固衬底支架且其中衬底支架处置元件含有张开机构，其中张开机构适应于自动地张开及闭合衬底支架，且其中移动机构含有步进齿轮及/或其中驱动单元为步进电机，优选地其中移动机构含有步进齿轮。已注意到，尤其优选的是移动机构含有步进齿轮。此类移动机构允许提供衬底支架处置元件的可靠移动且允许使用提供高能效及高可靠性的基本驱动单元。如本文中所使用的短语“约180°”优选地是指选自160°至200°、更优选地为170°至190°、甚至更为175°至185°的范围的角度。尤其，优选的是约180°是指180°的角度。在本文中，必须理解，旋转可能会中断，或其可能会旋转达大于约180°的角度且进一步含有在相反方向上的另一旋转以提供达约180°的总旋转。然而，通常优选的是衬底支架处置元件直接旋转达约180°。自然地，所述衬底支架处置元件还可旋转达小于指定角度。此类旋转可能例如用以在将经承载衬底支架从衬底支架承载装置送至无尘室处理装置的处理槽或电镀腔室之前使衬底支架竖直地定向。此外，所述衬底支架处置元件还可适应于旋转达较大角度。然而，已注意到，由于装置需求的增加，提供适应于提供较大旋转的衬底支架承载装置通常较不有益，所述装置需求通常未由对应效益补偿。在此上下文中，已注意到，举例来说，可靠地提供约180°的此类旋转而不增加安全性风险、避免衬底污染且保障尤其是衬底支架处置元件的电管线及真空管线在旋转期间的连接相当有挑战性且产生了本专利技术。虽然在无尘室外部所属领域的技术人员可依赖于标准手段来解决这些问题，但无尘室的高需求会消除许多可能性，而同时需要找到最佳平衡解决方案以用于保障安全生产而无长久的停工时间。此外，本专利技术涉及一种用于湿式处理、优选地为电镀的无尘室处理装置，其中无尘室处理装置含有至少一个本专利技术衬底支架承载装置。此外，本专利技术涉及一种使用本专利技术衬底支架承载装置来承载具有第一衬底的衬底支架的方法。如本文中所使用的短语“自动地张开及闭合衬底支架”是指衬底支架的自动化张开及闭合，其可被预编程或从远处触发。举例来说，处理装置可经编程以基于过程步骤而自动地张开及闭合引入至衬底支架承载装置中的衬底支架，以提供在所述处理装置中处理的衬底的平稳且快速的加工。此外，其可例如由操作者在手动地运行处理装置以逐步地审阅处理过程或用于故障诊断期间从所述装置外部触发。附图说明为了更完全地理解本专利技术，参考结合附图所考虑的本专利技术的以下具体实施方式，图中：图1展示本专利技术衬底支架承载装置的示意性透视图。图2展示图1的衬底支架承载装置的衬底支架处置元件内部的示意性透视图，其中施压工具张开。图3展示图1的衬底支架承载装置的衬底支架处置元件内部的示意性透视图，其中施压工具降低。具体实施方式根据一方面，本专利技术涉及用于衬底至无尘室内部的衬底支架中的自动化水平承载的衬底支架承载装置，其中衬底支架承载装置含有衬底支架导引元件、驱动单元、移动机构、衬底支架处置元件及张开机构，其中驱动单元连接至移动机构，其中移动机构连接至衬底支架处置元件，其中移动机构适应于将来自驱动单元的推进传输至衬底支架处置元件以提供衬底支架处置元件围绕基本上平行于衬底的表面的轴线的旋转，其中衬底支架处置元件适应于旋转达约180°，其中衬底支架处置元件适应于可逆地紧固衬底支架且其中衬底支架处置元件含有张开机构，其中张开机构适应于自动地张开及闭合衬底支架，且其中移动机构含有步进齿轮及/或其中驱动单元为步进电机，优选地其中移动机构含有步进齿轮。待使用如本文中所揭示的衬底支架承载装置而承载至衬底支架中的衬底的实例为板状衬底，比如晶片及印刷电路板，优选地为晶片。通常，优选的是驱动单元与衬底支架处置元件之间的距离及/或移动机构的长度保持尽可能地短。尤其，通常优选的是驱动单元及/或步进齿轮与衬底支架处置元件之间的距离小于50cm，更优选地小于30cm，甚至更优选地小于20cm。通常，尤其优选的是移动机构含有步进齿轮。此类移动机构允许提供衬底支架处置元件的可靠移动且允许使用提供高能效及高可靠性的基本驱动单元。如本文中所使用的短语“围绕基本上平行于衬底的表面的轴线旋转”是指在衬底支架承载装置中的承载过程期间基于仅略微偏离平行于放置至衬底支架中的衬底的表面的轴线的轴线的旋转。优选地，所述轴线与此平行轴线偏离小于10°、更优选地小于5°、甚至更优选地小于2°。通常，尤其优选的是轴线平行于表面。如本文中所使本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于衬底至无尘室内部的衬底支架中的自动化水平承载的衬底支架承载装置(1)，其中所述衬底支架承载装置(1)含有衬底支架导引元件、驱动单元(2)、移动机构(6)、衬底支架处置元件(7)及张开机构，其中所述驱动单元(2)连接至所述移动机构(6)，其中所述移动机构(6)连接至所述衬底支架处置元件(7)，其中所述移动机构(6)适应于将来自所述驱动单元(2)的推进传输至所述衬底支架处置元件(7)以提供所述衬底支架处置元件(7)沿着基本上平行于所述衬底的表面的轴线的旋转，其中所述衬底支架处置元件(7)适应于旋转达约180°，其中所述衬底支架处置元件(7)适应于可逆地紧固所述衬底支架且其中所述衬底支架处置元件(7)含有所述张开机构，其中所述张开机构适应于自动地张开及闭合所述衬底支架，且其中所述移动机构(6)含有步进齿轮(3)及/或其中所述驱动单元(2)为步进电机。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.03.16 EP 17161434.01.一种用于衬底至无尘室内部的衬底支架中的自动化水平承载的衬底支架承载装置(1)，其中所述衬底支架承载装置(1)含有衬底支架导引元件、驱动单元(2)、移动机构(6)、衬底支架处置元件(7)及张开机构，其中所述驱动单元(2)连接至所述移动机构(6)，其中所述移动机构(6)连接至所述衬底支架处置元件(7)，其中所述移动机构(6)适应于将来自所述驱动单元(2)的推进传输至所述衬底支架处置元件(7)以提供所述衬底支架处置元件(7)沿着基本上平行于所述衬底的表面的轴线的旋转，其中所述衬底支架处置元件(7)适应于旋转达约180°，其中所述衬底支架处置元件(7)适应于可逆地紧固所述衬底支架且其中所述衬底支架处置元件(7)含有所述张开机构，其中所述张开机构适应于自动地张开及闭合所述衬底支架，且其中所述移动机构(6)含有步进齿轮(3)及/或其中所述驱动单元(2)为步进电机。2.根据权利要求1所述的衬底支架承载装置(1)，其中所述至少一个衬底支架导引元件是选自以下各者的群组：限止器，其适应于接触所述衬底支架的边缘；及突出元件，其适应于装配至所述衬底支架的对应物中。3.根据权利要求1或2所述的衬底支架承载装置(1)，其中所述张开机构是基于机械、压力或磁性构件。4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的衬底支架承载装置(1)，其中所述步进齿轮(3)的输入轴件、所述步进齿轮(3)的输出轴件或两者含有球状蜗轮。5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的衬底支架承载装置(1)，其中所述衬底支架处置元件(7)含有真空夹持器以在将所述衬底放置于所述衬底支架的不同部件中时可逆地附接至所述衬底支架的部件。6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的衬底支架承载装置(1)，其中所述衬底支架承载装置(1)含有施压工具(5)，所述施压工具(5)适应于在所述张开机构起作用时将所述衬底支架的至少两个部件施压在一起。7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的衬底支架承载装置(1)，其中所述施压工具(5)含有至少一个...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·普雷切尔，D·布赫贝格尔，
申请(专利权)人：德国艾托特克公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE