用于清洁材料沉积源的部件的方法、用于制造材料沉积源的方法和用于清洁材料沉积源的部件的设备技术

本公开内容提供一种用于清洁材料沉积源(400)的部件(20)的方法(100)。所述方法(100)包括：将所述部件(20)插入(110)清洁液(201)中；将超声源(220)插入(120)所述部件(20)的内部中；和操作(130)所述超声源(220)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于清洁材料沉积源的部件的方法、用于制造材料沉积源的方法和用于清洁材料沉积源的部件的设备
本公开内容的实施方式涉及一种用于清洁材料沉积源的部件的方法、一种用于制造材料沉积源的方法和一种用于清洁材料沉积源的部件的设备。本公开内容的实施方式特别涉及用于制造有机发光二极管(OLED)器件的方法和设备。
技术介绍
用于在基板上进行层沉积的技术包括例如热蒸发、物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。可以在若干应用和若干
中使用经涂覆的基板。例如，可以在有机发光二极管(OLED)器件领域中使用经涂覆的基板。可以使用OLED制造电视机屏幕、计算机监视器、移动电话、其它手持装置和类似物以用于显示信息。OLED器件，诸如OLED显示器，可以包括置于两个电极之间的一个或多个有机材料层，这些有机材料层全都沉积在基板上。OLED器件可以包括若干有机材料的堆叠结构，这些有机材料的堆叠结构例如在处理设备的真空腔室中蒸发。使用蒸发源使有机材料通过阴影掩模以连续的方式沉积在基板上。真空腔室内的真空条件对于所沉积的材料层和使用这些材料层制造的OLED器件的质量是至关重要的。因此，需要可改善真空腔室内的真空条件的方法和设备。本公开内容特别旨在改善真空腔室内的部件的清洁度，使得可以改善沉积在基板上的有机材料层的质量。
技术实现思路
鉴于上述，提供一种用于清洁材料沉积源的部件的方法、一种用于制造材料沉积源的方法和一种用于清洁材料沉积源的部件的设备。本公开内容的其他方面、益处和特征从权利要求书、说明书和附图中显而易见。根据本公开内容的一个方面，提供一种用于清洁材料沉积源的部件的方法。所述方法包括：将所述部件插入清洁液中；将超声源插入所述部件的内部中；和操作所述超声源。根据本公开内容的另一个方面，提供一种用于制造材料沉积源的方法。所述方法包括：通过将超声源插入一个或多个部件的内部中来清洁所述材料沉积源的所述一个或多个部件；和使用所述一个或多个部件组装所述材料沉积源。根据本公开内容另外的方面，提供一种用于清洁材料沉积源的部件的设备。所述设备包括：罐，所述罐被配置为容纳所述部件；和超声源，所述超声源被配置为插入所述部件的内部中。根据本公开内容再另外的方面，提供一种用于清洁材料沉积源的部件的设备。所述设备包括：罐，所述罐被配置为容纳所述部件；第一超声源，所述第一超声源被配置为清洁所述部件的所述内部；和第二超声源，所述第二超声源被配置为清洁所述部件的外部。实施方式还涉及用于执行所公开的方法的设备并且包括用于执行每个所描述的方法方面的设备部分。这些方法方面可以通过硬件部件、由适当软件编程的计算机、通过两者的任何组合、或以任何其它方式来执行。此外，根据本公开内容的实施方式还涉及用于操作所描述的设备的方法。用于操作所描述的设备的方法包括用于执行设备的每个功能的方法方面。附图说明可以通过参考实施方式获得上面简要地概述的本公开的更具体描述，这样能够详细理解本公开内容的上述特征的方式。附图涉及本公开内容的实施方式，并且在下文中描述：图1示出根据本文所述的实施方式的用于清洁在OLED器件的制造中使用的材料沉积源的部件的方法的流程图；图2示出根据本文所述的实施方式的用于清洁材料沉积源的部件的设备的示意图；图3示出根据本文所述的实施方式的用于制造材料沉积源的方法的流程图；图4示出根据本文所述的实施方式的在OLED器件的制造中使用的材料沉积源的示意图；并且图5显示根据本文所述的实施方式的用于制造具有有机材料的器件的系统的示意图。具体实施方式现将详细参考本公开内容的各种实施方式，在图中示出实施方式的一个或多个示例。在以下对图片的描述中，相同的参考数字表示相同的部件。一般来说，仅描述相对于个别实施方式的差异。每个示例是以解释本公开内容的方式提供，并且不意味着对本公开内容的限制。此外，作为一个实施方式的部分图示或描述的特征可以在其它实施方式上使用或与其它实施方式结合使用，以产生再另外的实施方式。本说明书旨在包括这样的修改和变化。真空腔室内的真空条件对于沉积在基板上的材料层的质量至关重要。特别地，对于OLED批量生产，所有真空部件的清洁度都是重要的。即使是电抛光的表面和其它光滑金属表面对于OLED器件制造来说也可能太脏，并且需要专门的清洁程序来实现UCV(超清洁真空)。本公开内容使用插入材料沉积源的部件(诸如蒸发源的分配管)中的超声源，以从内部有效地清洁部件。可以从具有例如内部焊接、边缘区域和/或重叠部分的中空部分去除污染。可以显著地提高清洁度水平，并且可以改善沉积在基板上的层的质量。这对于在真空腔室中生产/制造的OLED器件的寿命特别有益。图1示出根据本文所述的实施方式的用于清洁例如在OLED器件的制造中使用的材料沉积源的部件的方法100的流程图。方法100包括将部件插入或浸没在清洁液中(框110)，将超声源(诸如超声发生器(sonotrode))插入部件的内部中(框120)，并且操作超声源(框130)。可以显著地提高部件(诸如在OLED制造中使用的蒸发源的分配管)的清洁度，并且可以改善使用所清洁的部件制造的OLED器件的质量。本公开内容可以实现高的烃(HC)和/或增塑剂清洁度值(例如，amu＝45至100和amu＝101至200)，这有益于OLED制造。例如，可以实现RGA等级B1或B2：B1(纯度)：·总解吸包括水，在1小时之后：＜5E-8mbarl/(s*cm2)，或在10小时之后＜5E-9mbarl/(s*cm2)·质量＜＝100的烃，在10小时之后：＜5E-12mbarl/(s*cm2)·可选的RGA证明amu1至200：第一次制品清洁必须提供(每批可选的数量)B2(纯度)：·总解吸包括水，在1小时之后：＜lE-8mbarl/(s*cm2)，或在10小时后或＜lE-9mbarl/(s*cm2)·质量＜＝100的烃，在10小时之后：＜4E-12mbarl/(s*cm2)·质量>100和质量＜＝200的烃，在10小时之后：＜3E-13mbarl/(s*cm2)不必进行长时间(例如，24小时)的真空退火或在高温(诸如500℃或更高)下烘烤。特别地，RGA(残余气体分析)表明可以在短时间内(诸如5至10分钟)并且以降低的成本实现高清洁度水平(UCV)。因此，可以改善真空条件并且因此改善沉积在基板上的有机材料的纯度，从而改善所制造的OLED器件的寿命。0018根据可与本文所述的其它实施方式组合的一些实施方式，可以操作超声源以进行一个或多个清洁循环。可以进行一个或多个清洁循环达预定持续时间(即，预定时间段)。持续时间可以被选择为使得可以在完成清洁过程之后提供例如amu＝101至200(300)的amu＝(40)45至100的清洁度值(使用RGA测量)。清洁度值“amu”可以定义为RGA测量的分压质量(AMU)的和(40)45至100和101至200(300)。在一些实施方式中，每个清洁循环的持续时间可以在60s与240s之间的范围内，特别是在100s与200s之间的范围内，并且可以特别地是约240s。根据一些实施方式，可以重复操作超声源以执行两个或更多个清洁循环，例如三个或更多个(例如，六个)清洁循环。每个清洁循环的持续时间可以在60s与240s之间本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于清洁材料沉积源的部件的方法，包括：将所述部件插入清洁液中；将超声源插入所述部件的内部中；和操作所述超声源。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于清洁材料沉积源的部件的方法，包括：将所述部件插入清洁液中；将超声源插入所述部件的内部中；和操作所述超声源。2.如权利要求1所述的方法，其中所述材料沉积源的所述部件选自由以下项组成的组：分配管、蒸发坩埚和以上项的组合。3.如权利要求1或2所述的方法，其中重复操作所述超声源以进行两个或更多个清洁循环。4.如权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述两个或更多个清洁循环中的每个清洁循环具有在60秒与240秒之间的范围内的持续时间。5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述超声源提供在0.2kW与2kW之间的范围内的功率。6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述清洁液具有在50℃与70℃之间的范围内的温度。7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，进一步包括以下中的至少一个：去除工艺，所述去除工艺用于从所述部件去除残余的清洁液；干燥工艺，所述干燥工艺用于干燥所述部件；和在所述部件的所述内部中移动所述超声源。8.如权利要求1至7中任一项所述的方法，进一步包括：使用一个或多个间隔件使所述超声源以...

【专利技术属性】
技术研发人员：托马斯·格比利，迈克尔·雷因弗思，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US