像素界定层及其制备方法、显示基板技术

本申请公开了像素界定层及其制备方法、显示基板。该方法包括：第一疏液材料层，其设置在衬底基板上方，第一疏液材料层包括二氧化硅Janus纳米粒子，在对第一疏液材料层进行烘烤时，第一疏液材料层分离形成亲液表面和疏液表面，亲液表面远离衬底基板，疏液表面靠近衬底基板。根据本申请实施例的技术方案，通过包含二氧化硅Janus纳米粒子的第一疏液材料层在光刻工艺的烘烤时，自然分离形成亲液表面和疏液表面，有效地防止喷墨打印材料的墨水攀爬，提升溶液在像素区域内成膜均匀性。

【技术实现步骤摘要】
像素界定层及其制备方法、显示基板
本申请一般涉及显示
，尤其涉及像素界定层及其制备方法、显示基板。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示面板包括阳极、空穴注入层、空穴传输层、有机材料膜层、电子传输层、电子注入层和阴极等。在使用喷墨打印技术制造有机材料膜层时，需要先在衬底基板上形成像素界定层，然后将溶解有机发光材料的溶液喷到形成有像素界定层的衬底基板上，以形成有机材料膜层。在喷墨打印时，像素界定层亲水性材料对溶解有机发光材料的溶液有吸引作用，使得像素区域内形成厚度均匀的有机材料膜层，疏水性材料对溶解有机发光材料的溶液有排斥作用，可以抑制溶液在像素界定层的攀爬。
技术实现思路
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种像素界定层及其制备方法、显示基板，来解决像素界定层制备工艺繁琐，且有效控制喷墨打印墨水攀爬。第一方面，本申请实施例提供了一种像素界定层，其包括：第一疏液材料层，其设置在衬底基板上方，第一疏液材料层包括二氧化硅Janus纳米粒子，在对第一疏液材料层进行烘烤时，第一疏液材料层分离形成亲液表面和疏液表面，亲液表面远离衬底基板，疏液表面靠近衬底基板。优选地，第二疏液材料层，其设置在第一疏液材料层的上方，第二疏液材料层的疏液能力大于第一疏液材料层的疏液能力。可选地，第一疏液材料层的厚度为0.2-1微米。可选地，第一疏液材料层的纵截面远离衬底基板的一侧大于靠近衬底基板的一侧。第二方面，本申请实施例提供了一种像素界定层制备方法，该方法包括：在衬底基底上形成第一疏液材料层，第一疏液材料层包括二氧化硅Janus纳米粒子；在对第一疏液材料层进行烘烤时，第一疏液材料层分离形成亲液表面和疏液表面，亲液表面远离衬底基板，疏液表面靠近衬底基板；在对第一疏液材料层进行光刻工艺之后，形成像素界定层的第一图案。可选地，第一图案的纵截面为倒梯形。可选地，在第一疏液材料层上形成第二疏液材料层，第二疏液材料层的疏液能力大于第一疏液材料层的疏液能力；对第二疏液材料层进行光刻工艺，形成像素界定层的第二图案，第二图案与第一图案不同。可选地，第一图案的厚度为0.2-1微米。第三方面，本申请实施例提供了一种显示基板，显示基板包括：衬底基板以及设置在衬底基板上的像素界定层，像素界定层为第一方面描述的像素界定层。本申请实施例提供像素界定层及其制备方法、显示基板，包含二氧化硅Janus纳米粒子的第一疏液材料层在光刻工艺的烘烤时，自然分离形成亲液表面和疏液表面，其工艺步骤相对于现有技术进一步简化了，提供制备效率。进一步地，通过将第一疏液材料层通过光刻工艺的曝光、显影等工艺形成倒梯形结构，以及进一步设置第二疏液材料层可以有效地防止喷墨打印材料的墨水攀爬，提升溶液在像素区域内成膜均匀性。附图说明通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：图1示出了本申请实施例提供的一种像素界定层的结构示意图；图2示出了本申请实施例提供的又一种像素界定层的结构示意图；图3示出了本申请实施例提供的又一种像素界定层的结构示意图；图4示出了本申请实施例提供的具备亲/疏性能的第一疏液材料层的分离示意图；图5示出了本申请实施例提供的像素界定层制备方法的流程示意图；图6示出了本申请又一实施例提供的像素界定层制备方法的流程示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关公开，而非对该公开的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与公开相关的部分。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。请参考图1，图1示出了本申请实施例提供的一种像素界定层的结构示意图。像素界定层12可以包括第一疏液材料层121，其设置在衬底基板11上方。第一疏液材料层包括二氧化硅Janus纳米粒子，在对第一疏液材料层进行烘烤时，第一疏液材料层分离形成亲液表面121-1和疏液表面121-2，亲液表面远离衬底基板11，疏液表面靠近衬底基板11。Janus纳米粒子是指具有不对称化学组成的一类纳米粒子。利用Janus纳米粒子的特性，其可以被分离形成上表面为亲液，下表面为疏液的像素界定材料层，然后通过光刻工艺形成图案，从而制备成像素界定层。疏液材料具有低表面能，在涂布完成后，经过干燥、前烘和曝光过程，具有低表面能的疏液材料向远离衬底基板的方向移动，Janus纳米粒子具有亲液/疏液特性，Janus纳米粒子亲液部分与低表面能的疏液材料相排斥作用，Janus纳米粒子的亲液面向远离疏液材料的低表面能方向继续移动，形成亲液表面。由于疏液材料本身具有疏液特性，且曝光显影后，薄膜为固态，Janus纳米粒子不能再运动，所以在靠近衬底基板的方向形成疏液表面。如图4所示，图4示出了本申请实施例提供的具备亲疏性能的第一疏液材料层的分离示意图。在第一疏液材料中添加具备亲疏性能二氧化硅Janus纳米粒子，通过涂覆工艺将其涂覆在衬底基板之上。随着第一疏液材料层的光刻工艺的操作，第一疏液材料逐渐分离成上层为亲液表面，下层为疏液表面。第一疏液材料层121的材料具有低疏液性能，其可以是二氧化硅、氮化硅等材料。可以在第一疏液材料层121中加入具备亲液/疏液特性的二氧化硅Janus纳米粒子，从而使得第一疏液材料层在烘烤步骤中，可以自然分离形成亲液表面和疏液表面。通过一步工艺即可形成像素界定层，有效地减少了工艺程序，提高了制备效率。还可以通过在第一疏液材料层121中增加光刻胶，从而不需要再次涂布光刻胶层，可以直接对第一疏液材料层121进行曝光、显影，进一步简化工艺步骤。在制备第一疏液材料层121时，其厚度可以是0.2-1微米。考虑到制备完成像素界定层之后，形成阴极工艺过程，如果第一疏液材料层的厚度较大，会导致出现断裂现象。因此，优选地，将其厚度设置为0.2-1微米。进一步地，为了更好地减少溶液在像素界定层的斜面上的攀爬，对像素区域内成膜均匀性的影响，通过光刻工艺将第一疏液材料层图案化处理形成远离衬底基板的表面大于靠近衬底基板的表面。如图1所示，第一疏液材料层可以制备成倒梯形结构，倒梯形结构有利于防止溶液在像素界定层的斜面上的攀爬。请参考图2，图2示出了本申请实施例提供的又一种像素界定层的结构示意图。如图2所示，像素界定层12可以包括靠近衬底基板11上表面的第一疏液材料层121，和远离衬底基板11上表面的第二疏液材料层122。第一疏液材料层的材料可以是低疏液性能的材料，例如可以是二氧化硅、氮化硅等。与图1描述的第一疏液材料层121相同。第二疏液材料层122的材料可以是高疏液性能，例如可以是氟化聚甲基丙烯酸甲酯，氟化聚酰亚胺、聚硅氧烷等有机疏液材料的任意一种。通过光刻工艺将第一疏液材料层121制成倒梯形结构，再将第二疏液材料层122制成正梯形结构。通过第二疏液材料层122的排斥作用，可以减小溶液在像素界定层的斜面上的攀爬的高度。还可以通过在第一疏液材料层中增加光刻胶，从而不需要再次涂布光刻胶层，可以直接对第一疏液材料层进行曝光、显影，进一步简化工艺步骤。在制备第一疏液材料层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种像素界定层，其特征在于，其包括：第一疏液材料层，其设置在衬底基板上方，所述第一疏液材料层包括二氧化硅Janus纳米粒子，在对所述第一疏液材料层进行烘烤时，所述第一疏液材料层分离形成亲液表面和疏液表面，所述亲液表面远离所述衬底基板，所述疏液表面靠近所述衬底基板。

【技术特征摘要】
1.一种像素界定层，其特征在于，其包括：第一疏液材料层，其设置在衬底基板上方，所述第一疏液材料层包括二氧化硅Janus纳米粒子，在对所述第一疏液材料层进行烘烤时，所述第一疏液材料层分离形成亲液表面和疏液表面，所述亲液表面远离所述衬底基板，所述疏液表面靠近所述衬底基板。2.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，其还包括：第二疏液材料层，其设置在所述第一疏液材料层的上方，所述第二疏液材料层的疏液能力大于所述第一疏液材料层的疏液能力。3.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，所述第一疏液材料层的厚度为0.2-1微米。4.根据权利要求1所述的像素界定层，其特征在于，所述第一疏液材料层的纵截面远离所述衬底基板的一侧大于靠近所述衬底基板的一侧。5.一种像素界定层制备方法，其特征在于，该方法包括：在衬底基底上形成第一疏液材料层，所述第一疏液材料层包括二氧化硅Janus纳米粒子；在对所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯文军，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11