基板支承单元和具有该基板支承单元的基板处理装置制造方法及图纸

技术编号:22332071 阅读:31 留言:0更新日期:2019-10-19 12:39
本发明专利技术构思涉及一种基板支承单元。所述基板支承单元包括:具有由底表面和侧壁限定的内部空间的卡盘台、设置在所述内部空间中的加热单元,所述加热单元包括具有在中心有开口的盘形状的底板和安装在所述底板上且具有发射光能的加热光源的热生成部件、覆盖所述内部空间且具有其上放置所述基板的上表面的石英窗、以及反射构件,所述反射构件将在所述卡盘台的横向方向损失的光能向所述基板反射。

【技术实现步骤摘要】
基板支承单元和具有该基板支承单元的基板处理装置相关申请的交叉引用本申请要求于2018年4月6日提交韩国工业产权局、申请号为10-2018-0040544的以及2019年3月15日提交韩国工业产权局、申请号为10-2019-0030155的韩国专利申请的优先权和权益,其全部内容通过引用结合在本申请中。
在此描述的本专利技术构思的实施方案涉及一种基板处理装置,更具体地,涉及一种用于在基板处理期间在加热基板时执行工艺的基板处理装置。
技术介绍
通常,在制造平板显示设备或半导体的工艺中,执行诸如光刻胶涂覆工艺、显影工艺、蚀刻工艺和灰化工艺等的各种工艺,以处理玻璃基板或晶圆。在各工艺中,执行使用化学品或去离子水的湿法清洁工艺和用于干燥残留在基板表面上的化学品或去离子水的干燥工艺,以去除粘附在基板上的各种污染物。近年来,已经使用了在高温下通过使用诸如硫酸或磷酸的化学溶液来选择性地移除氮化硅膜和氧化硅膜的蚀刻工艺。用于使用IR灯具加热基板的基板加热装置被应用于使用高温化学溶液的基板处理装置,以改进蚀刻速率。然而,常规的基板加热装置的IR灯具以等间距设置,其中考虑中心喷嘴最外侧的灯具具有比基板更小的尺寸,且最内侧的灯具具有特定尺寸。因此,如图1的曲线图所描述的,基板边缘和中心区域上的光强分布迅速下降。
技术实现思路
本专利技术构思的实施方案提供了一种用于在基板处理期间均匀地加热基板的基板加热单元,以及具有该基板加热单元的基板处理装置。本专利技术构思的实施方案提供了一种用于在基板处理期间增加基板边缘和中心区域上的光的集中度的基板加热单元,以及具有该基板加热单元的基板处理装置。本专利技术构思所要解决的技术问题不限于上述问题,且本专利技术构思所属领域的技术人员将从以下描述中清楚地理解本文中未提及的其他任何技术问题。根据示例性实施方案,一种用于支承基板的装置包括具有由底表面和侧壁限定的内部空间的卡盘台,设置在所述内部空间中的加热单元,所述加热单元包括具有在中心有开口的盘形状的基板和安装在所述基板上且具有发射光能的加热光源的热生成部件,覆盖所述内部空间且具有其上放置所述基板的上表面的石英窗,以及将在所述卡盘台的横向方向上损失的光能向所述基板反射的反射构件。所述反射构件可设置在围绕所述热生成部件的所述石英窗的边缘的内表面上。所述石英窗的边缘的内表面可以是倾斜的从而从顶部到底部更靠近所述石英窗的中心。所述石英窗的边缘的内表面可形成为凹向所述基板的边缘。所述反射构件可由反射板或反射涂膜形成。所述装置还可包括:旋转部件,其具有中空形状且与所述卡盘台结合以旋转所述卡盘台,和后喷嘴,其插入穿过所述旋转部件,并位于所述卡盘台的上部的中心,且所述后喷嘴将处理液喷射到所述基板的后表面上。所述加热光源可由在相对于所述底板的中心以不同半径同心地设置的环形灯具形成。所述底板可由将所述灯具的光能向上反射的反射器形成。所述底板可包括反射突起,所述反射突起位于所述灯具下方,且以突起形状突出以发散从所述灯具发射的光能。各所述反射突起可具有三角形横截面,所述三角形横截面远离相应灯具逐渐变宽。所述底板还可包括设置在所述底板的中心部位上的倾斜反射表面,以增加所述基板的中心区域的光的集中度。所述底板还可包括设置在所述底板的中心部位的凸形反射表面,以增加所述基板的中心区域的光的集中度。所述反射构件可设置在围绕所述热生成部件的所述石英窗的边缘的内表面上,且可包括弯曲反射表面,以将所述加热光源的光能聚集在所述基板的边缘区域中的预定位置处的靶位上。所述反射构件的所述弯曲反射表面可具有部分椭圆的形状。所述弯曲反射表面的纵向截面可以是具有以所述加热光源的发光点和所述靶位作为椭圆的两个焦点的部分椭圆形截面。所述靶位可位于所述基板的边缘区域中的图案化部分的中心附近,而不是其边缘区域中的未图案化部分。根据示例性实施方案,一种用于处理基板的装置包括在顶部敞开的处理容器,位于所述处理容器中并支承所述基板的基板支承单元,将处理液供应至放置在所述基板支承单元上的所述基板的处理液供应单元;以及设置在所述基板支承单元中并发射用于加热所述基板的光能的加热单元。所述基板支承单元包括具有由底表面和侧壁限定的内部空间的卡盘台;覆盖所述内部空间并具有其上放置所述基板的上表面的石英窗;以及将在所述卡盘台的横向方向损失的光能朝向所述基板反射的反射构件。所述反射构件可设置在围绕所述热生成部件的所述石英窗的边缘的内表面上。所述石英窗的边缘的内表面可以是倾斜的从而从顶部到底部更靠近所述石英窗的中心,或可形成为凹向所述基板的边缘。所述加热单元可包括设置在所述基板支承单元中并具有相对于所述基板支承单元的中心以不同半径同心地设置的环形灯具;以及具有反射突起的反射板,所述反射突起位于所述灯具下方,且以突起形状突出以发散从所述灯具发射的光能。所述基板支承单元还可包括旋转部件,其具有中空形状且与所述卡盘台结合以旋转所述卡盘台;和后喷嘴,其插入穿过所述旋转部件并位于所述卡盘台的上部的中心,且所述后喷嘴将处理液喷射到所述基板的后表面上。各所述反射突起可形成为环形,所述环形具有与相应的灯具相同的直径,且可具有远离相应灯具逐渐变宽的三角形横截面。所述反射板还可包括设置在所述反射板的中心部位的反射表面,以增加所述基板的中心区域的光的集中度。所述反射构件可设置在围绕所述热生成部件的所述石英窗的边缘的内表面上,且可具有弯曲反射表面,以将光能聚集在所述基板的边缘区域中的预定位置处的靶位上。所述靶位可位于所述基板的边缘区域中的图案化部分的中心附近,而不是其边缘区域中的未图案化部分。附图说明参照附图,上述和其他目的和特征将从以下描述中变得显而易见,其中除非另有说明,否则相同的附图标记在各个附图中指代相同的部分,并且其中:图1为描绘了根据相关技术的基板加热装置中光强度分布的曲线图;图2为示出了包括根据本专利技术构思的实施方案的基板处理装置的基板处理设备的平面示意图;图3为示出了图2的基板处理装置的平面图;图4为示出了图2的基板处理装置的剖面图;图5为示出了图3的基板支承单元和加热单元的剖面图;图6为图5的加热单元的部分的放大图;图7为示出了基板支承单元的修改的实施例的视图;图8A和图8B为示出了设计如图7所示的反射构件的方法的示意图;图9为示出了光聚集的靶位的位置的视图;以及图10为示出了反射构件的修改的实施例的视图。具体实施方式由于本专利技术构思允许各种改变和众多实施方案,因此示例性实施方案将在附图中示出并在书面描述中详细描述。然而,这并非旨在将本专利技术构思限制于实践的特定方式,且应当领会的是,不脱离本专利技术构思的精髓和范围的所有改变、等同物和替代物都包含在本专利技术构思中。在描述本专利技术构思中,当已知功能或配置可能使本专利技术构思的主题内容模糊时,将省略与其相关的详细描述。本文中使用的术语仅出于描述特定实施方案的目的,而不旨在限制本专利技术构思的范围。除非另有说明,否则单数形式的术语可包括复数形式。应当理解的是,诸如“包括”、“包含”和“具有”的术语在本文中使用时,指定所述特征、数量、步骤、操作、组件、部件或其组合的存在,但不排除一个或多个其他特征、数量、步骤、操作、组件、部件或其组合的存在或添加。可使用诸如第一和第二等的术语来描述各种组件,但组件不应受限于术语。这些术语可仅用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于支承基板的装置,所述装置包括:卡盘台,其具有由底表面和侧壁限定的内部空间;加热单元,其设置在所述内部空间中,其中,所述加热单元包括底板,所述底板具有在中心有开口的盘形状,和热生成部件,所述热生成部件安装在所述底板上且具有配置成发射光能的加热光源;石英窗,其配置成覆盖所述内部空间,所述石英窗具有其上放置所述基板的上表面;以及反射构件,其配置成将在所述卡盘台的横向方向损失的光能向所述基板反射。

【技术特征摘要】
2018.04.06 KR 10-2018-0040544;2019.03.15 KR 10-2011.一种用于支承基板的装置,所述装置包括:卡盘台,其具有由底表面和侧壁限定的内部空间;加热单元,其设置在所述内部空间中,其中,所述加热单元包括底板,所述底板具有在中心有开口的盘形状,和热生成部件,所述热生成部件安装在所述底板上且具有配置成发射光能的加热光源;石英窗,其配置成覆盖所述内部空间,所述石英窗具有其上放置所述基板的上表面;以及反射构件,其配置成将在所述卡盘台的横向方向损失的光能向所述基板反射。2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述反射构件设置在围绕所述热生成部件的所述石英窗的边缘的内表面上。3.根据权利要求2所述的装置,其中,所述石英窗的边缘的内表面是倾斜的从而从顶部到底部更靠近所述石英窗的中心。4.根据权利要求2所述的装置,其中,所述石英窗的边缘的内表面形成为凹向所述基板的边缘。5.根据权利要求1所述的装置,其中,所述反射构件由反射板或反射涂膜形成。6.根据权利要求1所述的装置,其还包括:旋转部件,其与所述卡盘台结合以旋转所述卡盘台,所述旋转部件具有中空形状;和后喷嘴,其插入穿过所述旋转部件并位于所述卡盘台的上部的中心,所述后喷嘴被配置成将处理液喷射到所述基板的后表面上。7.根据权利要求2所述的装置,其中,所述加热光源由在相对于所述底板的中心以不同半径同心地设置的环形灯具形成。8.根据权利要求7所述的装置,其中,所述底板由配置成将所述灯具的光能向上反射的反射器形成。9.根据权利要求8所述的装置,其中,所述底板包括反射突起,所述反射突起位于所述灯具下方,且以突起形状突出以发散从所述灯具发射的光能。10.根据权利要求9所述的装置,其中,各所述反射突起具有三角形横截面,所述三角形横截面远离相应的所述灯具逐渐变宽。11.根据权利要求1或8所述的装置,其中,所述底板还包括设置在所述底板的中心部位的倾斜反射表面,以增加所述基板的中心区域的光的集中度。12.根据权利要求1或8所述的装置,其中,所述底板还包括设置在所述底板的中心部位的凸形反射表面,以增加所述基板的中心区域上的光的集中度。13.根据权利要求1所述的装置,其中,所述反射构件设置在围绕所述热生成部件的所述石英窗的边缘的内表面上,且包括弯曲反射表面,以将所述加热光源的光能聚集在所述基板的边缘区域中的预定位置处的靶位上。14.根据权利要求13所述的装置,其中,所述弯曲反射表面的纵向截面具有部分椭圆的形状。15.根据权利要求13所述的装置,其中,所述弯曲反射表面的纵向截面是具有以所述加热光源的发光点和所述靶位作为椭圆的两个...

【专利技术属性】
技术研发人员:金贤秀
申请(专利权)人:细美事有限公司
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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