基板处理装置、基板处理方法以及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，能够缩短装置的停机时间。基板处理装置(10)具备：处理单元(16)，其对晶圆(W)进行处理；罐(102、202)，其贮存处理液；处理液供给部(103、203)，其将罐内的处理液供给至处理单元；排出部(110、210)，其将罐内的处理液排出；补充部(112、212)，其将处理液补充至罐；以及控制部(18)，其中，控制部构成为执行以下控制：控制处理液供给部并且控制处理单元来实施处理工作；以及当在处理工作的实施期间规定的液更换实施条件成立时，控制排出部并且控制补充部，以使液更换处理与处理工作并行地实施。

Substrate processing device, substrate processing method and storage medium

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置、基板处理方法以及存储介质
本公开涉及基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。
技术介绍
在专利文献1中记载有一种对旋转的基板供给处理液来对基板进行清洗或蚀刻等处理的装置。在这样的装置中，使用泵等送液机构将罐中贮存的处理液供给至基板。专利文献1：日本特开2006-269743号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题定期地将罐中贮存的处理液更换为新的处理液(进行液交换)。在此，例如在正实施处理工作的情况下，即使到了液更换定时也不实施液更换处理，直到该处理工作结束为止。即，通常在处理工作完成之后实施液更换处理。在正实施液更换处理的期间不能实施处理工作，因此，由于在完成处理工作之后实施液更换处理而导致装置的停机时间(装置无法实施处理工作的时间)变长。因此，本公开的目的在于缩短装置的停机时间。用于解决问题的方案本公开的一个观点所涉及的基板处理装置具备：基板处理部，其利用处理液对基板进行处理；贮存部，其贮存处理液；处理液供给部，其将贮存部内的处理液供给至基板处理部；排出部，其将贮存部内的处理液排出；补充部，其将处理液补充至贮存部；以及控制部，其中，控制部构成为执行以下控制：控制处理液供给部以向基板处理部供给处理液，并且控制基板处理部以利用处理液对基板进行处理，由此实施处理工作；以及当在处理工作的实施期间规定的液更换实施条件成立时，控制排出部以将贮存部内的处理液排出，并且控制补充部以向贮存部内补充新的处理液，使液更换处理与处理工作并行地实施。本公开的其它观点所涉及的基板处理方法包括以下工序：第一工序，实施利用处理液对基板进行处理的处理工作；以及第二工序，当在处理工作中规定的液更换实施条件成立的情况下，与处理工作并行地实施液更换处理，该液更换处理是将用于贮存处理液的贮存部内的处理液排出并且向贮存部内补充新的处理液的处理。专利技术的效果根据本公开，能够缩短装置的停机时间。附图说明图1是示意性地表示基板处理系统的俯视图。图2是表示基板处理系统所包括的基板处理装置的概要结构的图。图3是表示处理单元的概要结构的图。图4是表示控制部的功能块的图。图5是表示处理工作的时间图的一例的图。图6是用于说明液更换处理过程的流程图。图7是用于说明其它实施方式所涉及的液更换处理的图。具体实施方式以下说明的本公开所涉及的实施方式是用于说明本专利技术的例示，因此本专利技术不应限定于以下的内容。在以下的说明中，对相同要素或具有相同功能的要素使用相同标记，并且省略重复的说明。[基板处理系统的结构]图1是表示本实施方式所涉及的基板处理系统的概要结构的图。在下文中，为了明确位置关系，规定彼此正交的X轴、Y轴以及Z轴，将Z轴正方向设为铅垂向上方向。如图1所示，基板处理系统1具备搬入搬出站2和处理站3。搬入搬出站2和处理站3以邻接的方式设置。搬入搬出站2具备载体载置部11和搬送部12。在载体载置部11载置有多个载体C，所述多个载体C用于将多张基板、在本实施方式中为半导体晶圆(以下称为晶圆W)以水平状态收纳。搬送部12与载体载置部11邻接地设置，在搬送部12的内部具备基板搬送装置13和交接部14。基板搬送装置13具备用于保持晶圆W的晶圆保持机构。另外，基板搬送装置13能够在水平方向和铅垂方向上移动并以铅垂轴为中心进行旋转，该基板搬送装置13使用晶圆保持机构在载体C与交接部14之间搬送晶圆W。处理站3与搬送部12邻接地设置。处理站3具备搬送部15和多个处理单元16。多个处理单元16以排列在搬送部15的两侧的方式设置。搬送部15在内部具备基板搬送装置17。基板搬送装置17具备用于保持晶圆W的晶圆保持机构。另外，基板搬送装置17能够在水平方向和铅垂方向上移动并以铅垂轴为中心进行旋转，该基板搬送装置17使用晶圆保持机构在交接部14与处理单元16之间搬送晶圆W。处理单元16根据后述的控制装置4的控制部18来对由基板搬送装置17搬送的晶圆W进行规定的基板处理。另外，基板处理系统1具备控制装置4。控制装置4例如是计算机，具备控制部18和存储部19。在存储部19中保存用于对在基板处理系统1中执行的各种处理进行控制的程序。控制部18通过读取并执行存储部19中存储的程序来控制基板处理系统1的动作。此外，所述程序可以是被存储到可由计算机读取的存储介质中并且从该存储介质安装到控制装置4的存储部19中的程序。作为可由计算机读取的存储介质，例如有硬盘(HD)、软盘(FD)、光盘(CD)、光磁盘(MO)、存储卡等。在如上述那样构成的基板处理系统1中，首先，搬入搬出站2的基板搬送装置13将晶圆W从载置于载体载置部11的载体C取出，并将取出的晶圆W载置于交接部14。被载置于交接部14的晶圆W被处理站3的基板搬送装置17从交接部14取出并搬入到处理单元16。被搬入到处理单元16的晶圆W在由处理单元16进行处理之后，被基板搬送装置17从处理单元16搬出并载置于交接部14。然后，被载置于交接部14的处理完成后的晶圆W被基板搬送装置13送回到载体载置部11的载体C。[基板处理装置的结构]接着，参照图2～图5来说明基板处理系统1所包括的基板处理装置10的结构。如图2所示，基板处理装置10具有：多个处理单元16(基板处理部)，其利用处理液对晶圆W进行处理(进行液处理)；供给机构70，其向处理单元16供给处理液；以及控制装置4，其控制以上各部(参照图1和图4。在后文中详细地进行叙述)。(供给机构)供给机构70具有第一供给机构71和第二供给机构72。第一供给机构71具有处理液供给部103、排出部110、补充部112、以及贮存第一处理液的罐102(第一贮存部)。第一处理液为被用于晶圆W的液处理的处理液，例如为DHF(DilutedHydrofluoricacid：稀氢氟酸)。处理液供给部103根据控制装置4的控制部18的控制来将罐102内的第一处理液供给至多个处理单元16。处理液供给部103具有从罐102出发且返回罐102的循环线路104、从循环线路104朝向各处理单元16延伸的分支线路105、以及设置于循环线路104的泵106和过滤器108。分支线路105将在循环线路104中流动的第一处理液供给至对应的处理单元16。在各分支线路105上，能够根据需要来设置流量控制阀等流量调整机构以及过滤器等。泵106形成从罐102出发后通过循环线路104且返回罐102的循环流。过滤器108设置在泵106的下游侧，用于去除处理液中包含的微粒等污染物质。根据需要，还可以在循环线路104上设置辅助设备(例如加热器等)。排出部110和补充部112为用于进行罐102内的第一处理液的液更换的结构。排出部110根据控制部18的控制将罐102内的第一处理液排出(废弃)。排出部110例如构成为包括用于控制第一处理液向与罐102相连的排液配管的流通的导通和截止的阀(未图示)。补充部112根据控制部18的控制来向罐102补充新的第一处理液。补充部112例如构成为包括补充用处理液罐(未图示)、对来自补充用处理液罐的第一处理液进行加压输送的泵(未图示)、用于控制第一处理液向与罐102相连的供给用配管的流通的导通和截止的阀(未图示)。第二供给机构72具有处理液供给部203、排出部210、补充部212、以及贮存第二处理液的罐202(第二贮存部本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，具备：基板处理部，其利用处理液对基板进行处理；贮存部，其贮存所述处理液；处理液供给部，其将所述贮存部内的所述处理液供给至所述基板处理部；排出部，其将所述贮存部内的所述处理液排出；补充部，其将所述处理液补充至所述贮存部；以及控制部，其中，所述控制部构成为执行以下控制：控制所述处理液供给部以向所述基板处理部供给所述处理液，并且控制所述基板处理部以利用所述处理液对所述基板进行处理，由此实施处理工作；以及当在所述处理工作的实施期间规定的液更换实施条件成立时，控制所述排出部以将所述贮存部内的处理液排出，并且控制所述补充部以向所述贮存部内补充新的所述处理液，使液更换处理与所述处理工作并行地实施。

【技术特征摘要】
2018.04.02 JP 2018-0707621.一种基板处理装置，具备：基板处理部，其利用处理液对基板进行处理；贮存部，其贮存所述处理液；处理液供给部，其将所述贮存部内的所述处理液供给至所述基板处理部；排出部，其将所述贮存部内的所述处理液排出；补充部，其将所述处理液补充至所述贮存部；以及控制部，其中，所述控制部构成为执行以下控制：控制所述处理液供给部以向所述基板处理部供给所述处理液，并且控制所述基板处理部以利用所述处理液对所述基板进行处理，由此实施处理工作；以及当在所述处理工作的实施期间规定的液更换实施条件成立时，控制所述排出部以将所述贮存部内的处理液排出，并且控制所述补充部以向所述贮存部内补充新的所述处理液，使液更换处理与所述处理工作并行地实施。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制部对于满足与所述贮存部中贮存的所述处理液的劣化状态有关的第一条件并且满足与所述处理工作的实施状况有关的第二条件的所述处理液，判定为所述规定的液更换实施条件成立。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制部对于在所述处理工作中已结束使用的所述处理液，判定为满足所述第二条件。4.根据权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制部...

【专利技术属性】
技术研发人员：绫部刚，诧间康司，真锅陵，尹钟源，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP