【技术实现步骤摘要】
一种氟化钙烧结用坩埚及结构
本技术涉及晶体生长领域，特别涉及一种氟化钙烧结用坩埚及结构。
技术介绍
现有技术中，氟化物粉料烧结采用单层坩埚、单温区加热器的方式烧结，为了提高单次烧结产量，加热器高度通常较高，坩埚内顶部和底部温度差异较大，导致当坩埚底部原料熔化时，顶部原料挥发量过大，损失较多。同时单坩埚烧出的块料体积过大，给后期打磨加工造成不便。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种氟化钙烧结用坩埚及结构，增加了单次烧结产量的同时避免原料高温时挥发，烧结后的块料便于打磨及粉碎，有效提高了生产效率。为解决上述技术问题，本技术的实施方式提供了一种氟化钙烧结用坩埚，包括具有一开口的坩埚本体，坩埚本体呈开口宽、底部窄的柱状结构；坩埚本体的开口处设置一卡槽，坩埚本体的底部设置与卡槽形状、位置适配的卡块，或坩埚本体的开口处设置一卡块，坩埚本体的底部设置与卡块形状、位置适配的卡槽。为解决上述技术问题，本技术的实施方式还提供了一种氟化钙烧结用结构，包括如上所述的氟化钙烧结用坩埚。本技术实施方式相对于现有技术而言，通过层叠设置的坩埚本体，且坩埚本体之间的紧密贴合，增加了单次烧结产量的同时避...
【技术保护点】
1.一种氟化钙烧结用坩埚，其特征在于，包括具有一开口的坩埚本体，所述坩埚本体呈开口宽、底部窄的柱状结构；所述坩埚本体的开口处设置一卡槽，所述坩埚的底部设置与卡槽形状、位置适配的卡块，或所述坩埚本体的开口处设置一卡块，所述坩埚本体的底部设置与卡块形状、位置适配的卡槽。
【技术特征摘要】
1.一种氟化钙烧结用坩埚，其特征在于，包括具有一开口的坩埚本体，所述坩埚本体呈开口宽、底部窄的柱状结构；所述坩埚本体的开口处设置一卡槽，所述坩埚的底部设置与卡槽形状、位置适配的卡块，或所述坩埚本体的开口处设置一卡块，所述坩埚本体的底部设置与卡块形状、位置适配的卡槽。2.根据权利要求1所述的氟化钙烧结用坩埚，其特征在于，所述坩埚本体的内径为150～250mm，高100～150mm。3.根据权利要求1或2所述的氟化钙烧结用坩埚，其特征在于，所述坩埚本体的开口处的卡块的底壁与侧壁呈...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐超，刘晓阳，张钦辉，
申请(专利权)人：北京首量科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。