感光性转印材料、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法技术

技术编号:22311596 阅读:17 留言:0更新日期:2019-10-16 11:24
本发明专利技术提供一种感光性转印材料、使用该感光性转印材料的电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法,该感光性转印材料具有:临时支撑体;及感光性树脂层,其含有聚合物成分及光产酸剂,该聚合物成分中,包含含有具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的聚合物,具有上述酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的含量相对于聚合物成分的总质量为10质量%以上且30质量%以下,聚合物成分的基于有机概念图的无机性值I除以有机性值O的I/O值的平均值为0.5以上且0.7以下,玻璃化转变温度的平均值为90℃以下。

Manufacturing methods of photosensitive transfer materials, circuit wiring and touch panel

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性转印材料、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法
本公开涉及一种感光性转印材料、电路配线的制造方法及触摸面板的制造方法。
技术介绍
在静电电容型输入装置等具备触摸面板的显示装置(有机EL显示装置及液晶显示装置等)中,在触摸面板内部设置有相当于可见部的传感器的电极图案、周边配线部分及取出配线部分的配线等导电层图案。通常在形成已图案化的层时,用于得到所需的图案形状的工序数量少,因此广泛使用对使用感光性转印材料在任意基板上设置的感光性树脂组合物的层,隔着具有所期望的图案的掩模进行曝光后显影的方法。例如,日本特开2015-194715号公报中公开有厚膜用化学增幅型正型感光性树脂组合物,该厚膜用化学增幅型正型感光性树脂组合物含有:(A)通过活化光线或放射线的照射产生酸的产酸剂;(B)通过酸的作用增大对碱的溶解性的树脂;及(S)有机溶剂,上述(B)通过酸的作用增大对碱的溶解性的树脂包含含有由含有含(B-3)-SO2-的环式基团、或含内酯的环式基团的丙烯酸酯衍生的构成单元的丙烯酸树脂,相对于上述厚膜用化学增幅型正型感光性树脂组合物中所含的树脂成分的总质量,上述(B-3)丙烯酸树脂的质量比例为70质量%以上,且用于形成膜厚10μm以上的厚膜抗蚀剂图案。
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题本专利技术的一实施方式要解决的课题在于,提供一种层压适应性优异,曝光灵敏度高,即使在曝光后放置的情况下也可得到分辨率优异的图案的感光性转印材料。并且,本专利技术的另一实施方式要解决的课题在于,提供一种使用上述感光性转印材料的电路配线的制造方法或触摸面板的制造方法。用于解决技术课题的手段用于解决上述课题的方案包含以下方式。<1>一种感光性转印材料,其具有:临时支撑体;及感光性树脂层,其含有聚合物成分及光产酸剂,该聚合物成分中,包含含有具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的聚合物,上述具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的含量相对于聚合物成分的总质量为10质量%以上且30质量%以下,聚合物成分的基于有机概念图的无机性值I除以有机性值O的I/O值的平均值为0.5以上且0.7以下,玻璃化转变温度的平均值为90℃以下。<2>根据<1>所述的感光性转印材料,其中,上述具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元为由下述式A表示的构成单元。[化学式1]在式A中,R31及R32分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,R31及R32中的至少任一个为烷基或芳基,R33表示烷基或芳基,R31或R32任选地与R33连接而形成环状醚,R34表示氢原子或甲基,X0表示单键或2价的连接基团。<3>根据<1>或<2>所述的感光性转印材料,其中,上述具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的含量相对于聚合物成分的总质量为15质量%以上且25质量%以下。<4>根据<1>至<3>中任一项所述的感光性转印材料,其中,上述I/O值的平均值为0.55以上且0.7以下。<5>根据<1>至<4>中任一项所述的感光性转印材料,其中,上述含有具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的聚合物还包含具有酸基的构成单元。<6>根据<1>至<5>中任一项所述的感光性转印材料,其中,上述聚合物成分还包含具有酸基的聚合物。<7>根据<5>或<6>所述的感光性转印材料,其中,上述聚合物成分中所含的具有酸基的构成单元的含量相对于聚合物成分的总质量为0.5质量%以上且20质量%以下。<8>根据<1>至<7>中任一项所述的感光性转印材料,其中,上述聚合物成分的重均分子量为60,000以下。<9>一种电路配线的制造方法,以如下顺序包括:在基板上,使<1>至<8>中任一项所述的感光性转印材料的上述感光性树脂层与上述基板接触而贴合的工序;对上述贴合的工序后的上述感光性转印材料的上述感光性树脂层进行图案曝光的工序;对上述曝光的工序后的感光性树脂层显影而形成图案的工序;及对未配置上述图案的区域中的基板进行蚀刻处理的工序。<10>一种触摸面板的制造方法,其包括<9>所述的电路配线的制造方法。专利技术效果根据本专利技术的一实施方式,能够提供一种层压适应性优异,曝光灵敏度高,即使在曝光后放置的情况下也可得到分辨率优异的图案感光性转印材料。并且,根据本专利技术的另一实施方式,能够提供一种使用上述感光性转印材料的电路配线的制造方法或触摸面板的制造方法。附图说明图1为表示本公开的感光性转印材料的层结构的一例的概略图。图2为表示使用本公开的感光性转印材料的触摸面板用电路配线的制造方法的一例的概略图。图3为表示图案A的概略图。图4为表示图案B的概略图。具体实施方式以下,对本公开的内容进行说明。另外,参考附图进行说明,但有时省略符号。并且,在本说明书中使用“~”表示的数值范围表示将记载于“~”的前后的数值作为下限值及上限值而包含在内的范围。并且,在本说明书中,“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸这两者或其中任一者,“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者或其中任一者。另外,在本说明书中,组合物中存在多个与各成分相当的物质的情况下,只要没有特别的限定,组合物中的各成分的量是指存在于组合物中的该多个物质的合计量。在本说明书中“工序”一词不仅表示独立的工序,即使在无法与其他工序明确区分的情况下,只要能够实现工序的预期目的,则包含于本用语中。在本说明书中的基团(原子团)的标记中,未标有取代及未取代的标记包含不具有取代基的基团和具有取代基的基团。例如“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未取代的烷基),还包含具有取代基的烷基(取代的烷基)。并且,本说明书中的化学结构式有时会记载成省略了氢原子的简略结构式。在本公开中,“质量%”与“重量%”的含义相同,“质量份”与“重量份”的含义相同。并且,在本公开中,2个以上的优选方式的组合为更优选的方式。(感光性转印材料)本实施方式的感光性转印材料具有:临时支撑体;及感光性树脂层,其包括聚合物成分及光产酸剂,该聚合物成分中,包含含有具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的聚合物,具有上述酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的含量相对于聚合物成分的总质量为10质量%以上且30质量%以下,聚合物成分的基于有机概念图的无机性值I除以有机性值O的I/O值的平均值为0.5以上且0.7以下,玻璃化转变温度的平均值为90℃以下。触摸面板用等的电路配线中,从提高生产率等的观点考虑,优选例如以卷对卷(RolltoRoll)方式输送的同时贴合用于形成电路配线的基板及感光性转印材料,并进行曝光、显影等。作为感光性转印材料,从精度良好地制造更微细的图案的观点考虑,优选图案形成的电路配线的分辨率较高。并且,作为感光性转印材料,从节能性及工序的高速化的观点考虑,优选能够进行基于低温的贴合的材料。尤其,使用不耐热的树脂膜等基材作为基材的情况下,更优选能够进行基于低温的贴合的材料。采用基于上述卷对卷的工序的情况下,有时设为例如分别独立地配置转印、曝光及显影的各工序,在各工序的前后加入拉出及卷绕的工序。如上所述,在曝光与显影的工序之间加入卷绕及拉出的情况下,有时导致从感光性转印材料中的曝光至显影的时间成为长时间。如此,使用感光性转印材料来进行图案形成的情况下,有时感光性转印材料曝光之后放置长时间(例如,几小时~几天)本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种感光性转印材料,其具有:临时支撑体;及感光性树脂层,其含有聚合物成分及光产酸剂,该聚合物成分中,包含含有具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的聚合物,所述具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的含量相对于聚合物成分的总质量为10质量%以上且30质量%以下,聚合物成分的基于有机概念图的无机性值I除以有机性值O的I/O值的平均值为0.5以上且0.7以下,玻璃化转变温度的平均值为90℃以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.02.22 JP 2017-0315261.一种感光性转印材料,其具有:临时支撑体;及感光性树脂层,其含有聚合物成分及光产酸剂,该聚合物成分中,包含含有具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的聚合物,所述具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的含量相对于聚合物成分的总质量为10质量%以上且30质量%以下,聚合物成分的基于有机概念图的无机性值I除以有机性值O的I/O值的平均值为0.5以上且0.7以下,玻璃化转变温度的平均值为90℃以下。2.根据权利要求1所述的感光性转印材料,其中,所述具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元为由下述式A表示的构成单元,在式A中,R31及R32分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,R31及R32中的至少任一个为烷基或芳基,R33表示烷基或芳基,R31或R32任选地与R33连接而形成环状醚,R34表示氢原子或甲基,X0为单键或2价的连接基团。3.根据权利要求1或2所述的感光性转印材料,其中,所述具有酸基以缩醛的形式被保护的基团的构成单元的含量相对于聚合物成分的总质量为15质量%以上且25质量%以下。4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光性转印材料,其中,所述I/O值的平均值为0.55以上且0.7以下。5.根据权利要求1至4中任一项所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:松田知树片山晃男铃木正弥山田悟
申请(专利权)人:富士胶片株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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