一种阵列基板及显示面板制造技术

本发明专利技术提供一种阵列基板及显示面板，阵列基板包括衬底、位于衬底上方的第二金属层、设置于第二金属层上的钝化层、设置在钝化层上的色阻层以及设置在色阻层上的平坦层；其中，色阻层包括多个色阻单元，至少部分相邻色阻单元部分重叠，相邻色阻单元的重叠部分形成重叠单元；第二金属层包括间隔分布的数据走线，重叠单元在衬底上的正投影至少覆盖数据走线在衬底上的部分正投影。阵列基板中利用相邻色阻单元部分重叠形成的重叠单对数据走线起到遮光效果，从而在即使不采用电学遮光的前提下，也能实现阵列基板中数据走线处的遮光设计，有利于在显示面板的弯折情况下达到良好的遮光效果，防止漏光和混色的发生。

An array substrate and display panel

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及显示面板
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及显示面板。
技术介绍
在柔性显示面板中，BPS技术是将黑色矩阵和支撑柱合成一道工艺做在下基板，上基板上只有一层无图形的ITO，能够有效防止由于上下基板错位产生的漏光现象。行业内的液晶模式一般分为VA模式和IPS模式，由于BPS技术采用VA模式的液晶，在采用BPS技术的显示面板中，数据走线采用透明导电金属薄膜遮光，令公共电极的电位与上基板上ITO的电位一致，则液晶不反转，没有光通过，可以对数据走线进行很好的遮光。VA模式的液晶面板在弯折过程中容易出现液晶分布不均导致显示效果变差，而IPS模式的液晶更利于制备柔性显示屏。然而，在采用BPS技术的显示面板中，采用IPS模式的液晶时，上基板无ITO，无法实现电性遮光，数据走线处有混色和漏光风险。
技术实现思路
本专利技术提供一种阵列基板，以解决采用IPS模式的液晶时，上基板无ITO，无法实现电性遮光，数据走线处有混色和漏光风险的技术问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：一种阵列基板，其包括：衬底；设置在所述衬底上方的第二金属层；设置于所述第二金属层上的钝化层；设置在所述钝化层上的色阻层；设置在所述色阻层上的平坦层；其中，所述色阻层包括多个色阻单元，至少部分相邻所述色阻单元部分重叠，相邻所述色阻单元的重叠部分形成重叠单元；所述第二金属层包括间隔分布的数据走线，所述重叠单元在所述衬底上的正投影至少覆盖所述数据走线在所述衬底上的部分正投影。进一步的，所述重叠单元在所述衬底上的正投影完全覆盖所述数据走线在所述衬底上的正投影。进一步的，所述色阻单元按阵列排布，沿所述数据走线长度方向排布且相邻的所述色阻单元部分重叠以形成所述重叠单元。进一步的，所述色阻单元包括第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元；其中，所述第一色阻单元、所述第二色阻单元和所述第三色阻单元的色阻颜色互不相同，且分别对应红色、绿色和蓝色中的其中一者。进一步的，所述重叠单元包括第一重叠单元、第二重叠单元和第三重叠单元；其中，所述第一重叠单元包括所述第一色阻单元和所述第二色阻单元的重叠部分，所述第二重叠单元包括所述第二色阻单元和所述第三色阻单元的重叠部分，所述第三重叠单元包括所述第三色阻单元和所述第一色阻单元的重叠部分。进一步的，所述平坦层上还设置有像素电极，所述像素电极在所述衬底上的正投影与所述数据走线在所述衬底上的正投影互不重合。进一步的，所述阵列基板还包括：设置于所述衬底上方的第一金属层；设置于所述第一金属层上的绝缘层；设置于所述绝缘层上的有源层；其中，所述第二金属层设置于所述绝缘层上，所述钝化层覆盖所述第二金属层和所述有源层；所述平坦层上设置有光阻层，所述光阻层在所述衬底上的正投影与所述数据走线在所述衬底上的正投影互不重合。进一步的，所述第一金属层包括栅极金属层，所述第二金属层还包括与所述有源层电性连接且位置与所述栅极金属层相对应的源漏金属层，所述光阻层包括位置与所述源漏金属层相对应的主支撑柱和副支撑柱。进一步的，所述主支撑柱与所述源漏金属层之间也设置有重叠单元，所述重叠单元在所述衬底上的正投影至少覆盖所述源漏金属层在所述衬底上的部分正投影。本专利技术还提供一种显示面板，所述显示面板包括彩膜基板以及如上述的阵列基板，所述彩膜基板与所述阵列基板之间设置有液晶层。进一步的，所述显示面板的液晶层采用IPS模式。本专利技术的有益效果为：显示面板使用BPS架构设计，能够有效防止显示面板弯折过程中由于阵列基板和彩膜基板发生错位引起的遮光不良，同时显示面板的液晶层采用IPS模式，能够有效的防止在弯折过程中液晶盒不均导致显示面板显示效果变差，而阵列基板中利用相邻色阻单元部分重叠形成的重叠单对数据走线起到遮光效果，从而在即使不采用电学遮光的前提下，也能实现阵列基板中数据走线处的遮光设计，有利于在显示面板的弯折情况下达到良好的遮光效果，防止漏光和混色的发生。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术具体实施方式中阵列基板沿第一方向的纵截面示意图；图2为本专利技术具体实施方式中阵列基板沿第二方向的纵截面示意图；图3为本专利技术具体实施方式中显示面板的结构示意图。附图标记：10、阵列基板；11、衬底；12、缓冲层；13、第一金属层；131、栅极金属层；132、扫描走线；14、绝缘层；15、第二金属层；151、数据走线；152、源漏金属层；16、有源层；17、钝化层；18、色阻层；181、色阻单元；1811、重叠单元；19、平坦层；20、液晶层；30、彩膜基板；40、光阻层；41、黑色光阻层；42、主支撑柱；43、副支撑柱；50、像素电极。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。本专利技术针对现有的采用IPS模式的液晶显示面板中，上基板无ITO，无法实现电性遮光，数据走线处有混色和漏光风险的技术问题。本专利技术可以解决上述问题。一种阵列基板，如图1所示，所述阵列基板10包括衬底11、第二金属层15、钝化层17、色阻层18以及平坦层19。其中，所述衬底11包括柔性衬底，所述柔性衬底的制备材料包括聚酰亚胺。其中，所述第二金属层15设置在所述衬底11的上方，所述第二金属层15包括间隔分布的数据走线151以及源漏金属层152，所述数据走线151的长度方向为第一方向，所述源漏金属层152用以进行信号传输。其中，所述钝化层17设置在所述第二金属层15上，所述钝化层17用以保护所述第二金属层15，防止所述第二金属层15与其它金属接触导致短路。在一种实施方式中，所述钝化层17的制作材料包括氮化硅和氧化硅中的至少一者。其中，所述色阻层18设置在所述钝化层17上，所述平坦层19设置于所述钝化层17上且覆盖所述色阻层18，所述色阻层18用以将穿过所述色阻层18的光过滤为目标颜色的光。具体的，所述色阻层18包括多个色阻单元181，至少部分相邻所述色阻单元181部分重叠，相邻所述色阻单元181的重叠部分形成重叠单元1811，所述重叠单元1811在所述衬底11上的正投影至少覆盖所述数据走线151在所述衬底11上的部分正投影。利用相邻色阻单元181部分重叠形成的重叠单元1811对数据走线151起到遮光效果，利用物理光学特性进行遮光，从而在即使不采用电学遮光的前提下，也能实现阵列基板10中数据走线151处的遮光设计，防止数据走线151处产生混色和漏光。进一步的，所述重叠单元1811在所述衬底11上的正投影完全覆盖所述数据走线151在所述衬底11上的正投影。进一步的，所述色阻单元181按阵列排布，沿所述数据走线151长度方向排布且相邻的所述色阻单元181部分重叠以形成所述重叠单元1811，即沿第一方向排布本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：衬底；设置在所述衬底上方的第二金属层；设置于所述第二金属层上的钝化层；设置在所述钝化层上的色阻层；设置在所述色阻层上的平坦层；其中，所述色阻层包括多个色阻单元，至少部分相邻所述色阻单元部分重叠，相邻所述色阻单元的重叠部分形成重叠单元；所述第二金属层包括间隔分布的数据走线，所述重叠单元在所述衬底上的正投影至少覆盖所述数据走线在所述衬底上的部分正投影。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：衬底；设置在所述衬底上方的第二金属层；设置于所述第二金属层上的钝化层；设置在所述钝化层上的色阻层；设置在所述色阻层上的平坦层；其中，所述色阻层包括多个色阻单元，至少部分相邻所述色阻单元部分重叠，相邻所述色阻单元的重叠部分形成重叠单元；所述第二金属层包括间隔分布的数据走线，所述重叠单元在所述衬底上的正投影至少覆盖所述数据走线在所述衬底上的部分正投影。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述重叠单元在所述衬底上的正投影完全覆盖所述数据走线在所述衬底上的正投影。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述色阻单元按阵列排布，沿所述数据走线长度方向排布且相邻的所述色阻单元部分重叠以形成所述重叠单元。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述色阻单元包括第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元；其中，所述第一色阻单元、所述第二色阻单元和所述第三色阻单元的色阻颜色互不相同，且分别对应红色、绿色和蓝色中的其中一者。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述重叠单元包括第一重叠单元、第二重叠单元和第三重叠单元；其中，所述第一重叠单元包括所述第一色阻单元和所述第二色阻单元的重叠部分，所述第二重叠单元包括所述第二色阻单元和所述第三色阻单元的重叠部分，所述第三重叠单元包括所述第三...

【专利技术属性】
技术研发人员：张翼鹤，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44