【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】馈通设备和信号导体路径装置
本专利技术涉及一种馈通设备、一种包括至少一个这种馈通设备的信号导体路径装置、以及一种包括这种信号导体路径装置的真空室和处理系统,其中信号导体包括例如光纤和电导体,其中电导体被布置在印刷电路板中。
技术介绍
在包括各种类型的半导体处理和制造设备的半导体工业中,越来越希望以高精度和可靠性制造更小的结构。光刻通常是这种制造工艺的关键部分。在光刻曝光或其他类型的处理期间,目标(例如,半导体晶片)可能需要位于与周围环境(例如,与大气条件)气密密封的高真空环境中,以降低污染的可能性。在应用这种真空环境来操作无掩模光刻系统的特定情况下,带电粒子小束可以用于将图案转印到目标上。小束可以是可以单独控制的,以获得期望的图案。为了在商业上可行,无掩模光刻系统需要满足对晶片生产量和误差容限的挑战性要求。通过使用更多的小束可以获得更高的生产量。在不损害必要的真空条件或显著增加所需要的制造空间(即,由处理单元覆盖的区域)的情况下,处理更多数目的小束需要更复杂的控制设备和电路系统。在减小的可用体积中布置更多过程控制设备和/或电路系统同时保持光刻系统的各个部分之间的气密密封的任务变得越来越具有挑战性。为了控制光刻系统,包括控制用于曝光目标的大量小束以及各种其他控制设备和电路系统,各种类型的信号(包括电源信号、各种电信号和/或光学信号)必须被传输或传递通过真空环境的边界。关于从一个环境或隔室到另一环境或隔室的信号或电功率的馈通的技术主题,1990年3月的MechanicalEngineering第112卷第46页的W.D.Wood和W.L.Wood的出版物“He ...
【技术保护点】
1.一种馈通设备(50;150),用于在多个信号导体(61;161)周围形成气密密封,所述信号导体彼此并排延伸以形成具有组宽度的信号导体组(60;160),其中所述馈通设备包括:‑开槽构件(52;152),由第一表面(53;153)、第二表面(54;154)以及侧表面(55,56;155,156)界定,所述第一表面(53;153)主要面向馈通方向(X),所述第二表面(54;154)主要背对所述馈通方向,所述侧表面(55,56;155,156)互连所述第一表面和所述第二表面并且在不平行于所述馈通方向的方向上朝外面对;‑具有孔(65)的基部(62;162),所述孔(65)沿着所述馈通方向完全延伸穿过所述基部,其中所述孔被适配为容纳所述开槽构件;其中所述开槽构件还包括至少一个狭槽(59;159),所述至少一个狭槽(59;159)沿着所述馈通方向延伸穿过所述开槽构件并且通向所述第一表面和所述第二表面,以允许所述信号导体组从所述第一表面穿过所述开槽构件到达所述第二表面,其中所述狭槽沿着所述侧表面进一步通向纵向开口(59;159),并且沿着深度方向(Z;Y)从所述侧表面延伸到所述开槽构件中直到狭槽 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.27 US 15/390,7771.一种馈通设备(50;150),用于在多个信号导体(61;161)周围形成气密密封,所述信号导体彼此并排延伸以形成具有组宽度的信号导体组(60;160),其中所述馈通设备包括:-开槽构件(52;152),由第一表面(53;153)、第二表面(54;154)以及侧表面(55,56;155,156)界定,所述第一表面(53;153)主要面向馈通方向(X),所述第二表面(54;154)主要背对所述馈通方向,所述侧表面(55,56;155,156)互连所述第一表面和所述第二表面并且在不平行于所述馈通方向的方向上朝外面对;-具有孔(65)的基部(62;162),所述孔(65)沿着所述馈通方向完全延伸穿过所述基部,其中所述孔被适配为容纳所述开槽构件;其中所述开槽构件还包括至少一个狭槽(59;159),所述至少一个狭槽(59;159)沿着所述馈通方向延伸穿过所述开槽构件并且通向所述第一表面和所述第二表面,以允许所述信号导体组从所述第一表面穿过所述开槽构件到达所述第二表面,其中所述狭槽沿着所述侧表面进一步通向纵向开口(59;159),并且沿着深度方向(Z;Y)从所述侧表面延伸到所述开槽构件中直到狭槽深度(ΔZs;ΔYsa),所述深度方向横向于所述馈通方向,其中所述狭槽深度等于或大于所述组宽度(ΔZs≥Wf;ΔYsa≥Wf),其中所述基部(62;162)限定直接围绕所述孔(65)的内表面(66),其中所述内表面(66)在被容纳在所述孔中时覆盖所述侧表面(55,56;155,156)的至少一部分和所述开槽构件(52;152)的纵向开口(59;159)。2.根据权利要求1所述的馈通设备(50;150),其中当所述开槽构件(52;152)被容纳在所述孔中时,所述开槽构件(52;152)的第一表面(53;153)相对于直接围绕所述孔(65)的所述基部的表面(63;163)沿着所述馈通方向(X)凹陷,使得至少所述开槽构件的所述第一表面和所述基部的所述内表面(66)形成容器(69),所述容器(69)能够容纳密封体(71;171)。3.根据权利要求1或2所述的馈通设备(50;150),其中所述开槽构件的所述侧表面(55,56;155,156)具有类似于体育场或圆角矩形的横截面形状,并且其中围绕所述通孔的所述基部的所述内表面(66)具有被适配为以形状配合的方式容纳所述开槽构件的横截面形状。4.根据前述权利要求中任一项所述的馈通设备(50;150),其中所述开槽构件的所述侧表面(55,156;155,156)限定平坦表面部分(57),所述平坦表面部分(57)以平移对称的方式沿着垂直于所述馈通方向(X)的方向(Y)延伸,其中所述纵向开口(59;159)位于所述平坦表面部分处,并且其中所述至少一个狭槽(58;158)沿着所述深度方向延伸并且垂直于所述平坦表面部分延伸到所述开槽构件中。5.根据前述权利要求中任一项所述的馈通设备(50;150),其中所述开槽构件的所述侧表面(55,56;155,156)限定第一侧表面区段(55;155),所述第一侧表面区段(55;155)沿着所述馈通方向朝向轴线(A1)向内锥化,并且其中所述基部(62;162)的所述内表面与所述第一侧表面区段相一致地向内锥化。6.根据权利要求5所述的馈通设备(50;150),其中所述开槽构件的侧表面(55,56;155,156)包括第二外表面区段(56;156),所述第二外表面区段(56;156)沿着所述馈通方向(X)朝向所述轴线(A1)但是与所述第一侧表面区段(55;155)相对地向内锥化、圆角或倒角,和/或其中所述基部(62;162)的所述内表面包括从所述轴线向外锥化、圆角或倒角的内表面区段,使得所述第二侧表面区段和/或所述内表面区段限定向内周边凹槽(70;170),所述向内周边凹槽(70;170)直接邻接所述开槽构件中的至少一个所述纵向开口,所述凹槽被配置成容纳所述密封体(71;171)的一部分。7.根据前述权利要求中任一项所述的馈通设备(50;150),其中所述多个信号导体(61;161)被提供作为多个光纤(61)、多个电导体、和/或印刷电路板(160)中的导体(161)。8.一种信号导体路径装置(40),包括:-根据前述权利要求中任一项所述的馈通设备(50;150),其中所述开槽构件(52;152)被容纳在所述基部(62;162)的所述孔中;-多个信号导体(61;161),所述多个信号导体(61;161)彼此并排延伸以形成具有组宽度(Wf)的信号导体组(60;160),其中所述信号导体组在所述开槽构件的狭槽(58;158)内布置有纵向部分,以在所述开槽构件的所述第一表面和所述第二表面(53,54;153;154)之间在馈通方向(X)上延伸通过所述馈通设备,以及-密封体(71;171),覆盖所述开槽构件的所述第一表面(53;153)以及所述狭槽(58;158)的由所述信号导体组离开该狭槽处的至少一部分,以包封所述信号导体组并且在第一区域和第二区域(21,22)之间提供密封屏障,所述第一区域和所述第二区域(21,22)位于所述开槽构件外部并且分别...
【专利技术属性】
技术研发人员:J·P·斯普伦格斯,C·奥滕,
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司,
类型:发明
国别省市:荷兰,NL
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。