显微镜防撞结构制造技术

本发明专利技术提供一种显微镜防撞结构，可于显微镜操作而调整物镜与待观察物的距离时，判断物镜与待观察物的距离是否过于接近，且于物镜过于接近待观察物时主动停止物镜的下降，以防止人员的误操作让物镜与待观察物因过于接近而发生碰撞，以减少物镜或待观察物发生碰撞毁损而造成损失的机会。

Microscopic anti-collision structure

【技术实现步骤摘要】
显微镜防撞结构
本专利技术是有关于一种防撞结构，详而言之，是关于一种用于显微镜的防撞结构。
技术介绍
显微镜(microscope)的主要功能是放大影像及解析影像，可将微小不可观察或难以观察的待观察物的物像放大，以供肉眼或其他成像仪器显微观察而进行解析。显微镜操作时，需要调整物镜与待观察物的相对距离，上下调整焦距而使目镜中待观察物的物像清析。然尔，物镜与待观察物相对距离的调整过程中，经常会因人为的误操作而发生物镜与待观察物的碰撞，使得物镜或待观察物发生毁损而造成损失。因此，如何避免物镜与待观察物之间发生碰撞，而确保显微镜的正常操作，目前已经成为现在业界亟欲挑战克服的技术问题。
技术实现思路
于上述先前技术之缺点，本专利技术提供一种用于显微镜的显微镜防撞结构，显微镜可将待观察物的物像放大而供显微观察待观察物，显微镜具有在取像区域内撷取待观察物物像的物镜。本专利技术的显微镜防撞结构包括：测距仪、操作模块与处理模块。测距仪设置于取像区域的外围，于取像区域内的测量点测量物镜与待观察物的距离，而测量点与所述物镜隔开有一安全距离。操作模块可执行上升操作或下降操作，以令物镜与测距仪同步进行升降移动，以调整物镜与待观察物的距离，使待观察物进入取像区域让待观察物的物像清楚而供显微观察。处理模块接收测距仪的测量结果，并据以判断物镜与待观察物的距离是否小于安全距离，当操作模块执行下降操作，且物镜与待观察物的距离小于安全距离时，处理模块令操作模块停止执行下降操作，以防止物镜与待观察物因过于接近而发生碰撞。可选择性地，于本专利技术的一实施例中，物镜的焦距大于或等于安全距离。可选择性地，于本专利技术的一实施例中，测距仪为雷射测距仪或红外线测距仪；测距仪倾斜设置于所述取像区域的外围侧边，而测距仪的倾斜角度与安全距离相关。可选择性地，于本专利技术的一实施例中，还包括升降机构，升降机构用于升降物镜，测距仪设置于升降机构，以能跟随物镜同步地进行升降移动；操作模块藉由升降机构，使物镜与测距仪同步进行升降移动。可选择性地，于本专利技术的一实施例中，还包括载台、X轴移动机构与Y轴移动机构，载台设置于物镜的下方用于承载待观察物，X、Y轴移动机构令载台分别在X轴与Y轴上移动，使待观察物进入取像区域。可选择性地，于本专利技术的一实施例中，还包括蜂鸣器，所述蜂鸣器设置于所述显微镜，当物镜与待观察物的距离小于安全距离时，处理模块还令蜂鸣器鸣叫以藉由声响提示物镜与待观察物彼此接近而可能发生碰撞。可选择性地，于本专利技术的一实施例中，操作模块由电力或人力提供动能。可选择性地，于本专利技术的一实施例中，待观察物为测试晶圆上各芯片电性功能是否正常的探针卡。可选择性地，于本专利技术的一实施例中，当物镜与待观察物的距离小于安全距离时，处理模块令操作模块执行上升操作，使物镜上升而朝背离待观察物的方向移动，以防止物镜与待观察物因过于接近而发生碰撞。可选择性地，于本专利技术的一实施例中，物镜与测量点可连成第一直线，测距仪与测量点可连成第二直线，第一、第二直线相交且交角小于九十度。相较于先前技术，本专利技术的显微镜防撞结构，可于显微镜操作而调整物镜与待观察物(例如、探针卡)的距离时，判断物镜与待观察物的距离是否过于接近，而于物镜过于接近待观察物时主动停止物镜的下降，从而防止物镜与待观察物因过于接近而彼此发生碰撞，以降低物镜或待观察物发生碰撞毁损而造成损失的机会，因此，本专利技术的防撞显微镜应用于观察探针卡时，可有效避免物镜与造价昂贵的探针卡因过于接近而发生碰撞，使得物镜或探针卡发生毁损而蒙受重大损失。附图说明图1为本专利技术的显微镜防撞结构的构件示意图。图2为本专利技术的显微镜防撞结构的第一操作状态示意图。图3为本专利技术的显微镜防撞结构的第二操作状态示意图。元件标号说明1显微镜11物镜12载台13测距仪14操作模块15处理模块16升降机构171X轴移动机构172Y轴移动机构18蜂鸣器2待观察物Z取像区域MP测量点SD安全距离θ1交角θ2倾斜角度D1焦距D2焦距具体实施方式以下内容将搭配图式，藉由特定的具体实施例说明本专利技术之
技术实现思路
，熟悉此技术之人士可由本说明书所揭示之内容轻易地了解本专利技术之其他优点与功效。本专利技术亦可藉由其他不同的具体实施例加以施行或应用。本说明书中的各项细节亦可基于不同观点与应用，在不背离本专利技术之精神下，进行各种修饰与变更。尤其是，于图式中各个组件的比例关系及相对位置仅具示范性用途，并非代表本专利技术实施的实际状况。为使揭露内容更为简洁而容易明了，以下针对相同或近似功能的组件将采用相同的符号进行说明，且省略相同或均等特征的描述。本专利技术提供一种显微镜防撞结构，用于在对显微镜操作而调整物镜与待观察物的距离时，判断物镜与待观察物的距离是否过于接近，而于物镜过于接近待观察物时主动停止物镜的下降，而防止物镜与待观察物因过于接近而彼此发生碰撞，以降低物镜或待观察物发生碰撞毁损而造成损失的机会。另外，本专利技术的显微镜防撞结构还可以应用于半导体产业的显微镜，所述显微镜用于显微观察例如为探针卡(ProbeCard)的待观察物。针对探针卡而言，在晶圆的制造过程中，往往会在晶圆测试机台上透过探针卡上的探针接触晶圆上的各芯片，以对晶圆上的各芯片传送测试讯号，藉以测试晶圆上各芯片的集成电路的电性功能是否正常，以在晶圆上各芯片封装前汰除电性功能不良的不良品，以减少对不良品投入不必要的封装成本，并增加成品的良率。由于晶圆上各芯片的集成电路的密集度，会随着集成电路制程技术的进步而增加，为确保探针卡的探针能够顺利接触晶圆上各芯片的集成电路，使得探针卡上的探针有愈来愈细的趋势，导致探针卡的造价昂贵。此外，探针卡的探针在经过多次使用后其针头会有磨耗或污染的情况发生，探针卡的探针针头若存在磨耗及污染后容易跟晶圆上各芯片的集成电路接触不良，而让探针卡处于不堪使用的状态，以使检测结果的可靠度大幅降低，如此，可知探针卡之检测性能会随着使用的次数而逐渐降低。对此，可利用显微镜来观察探针卡的探针针头的外形，而判断探针针头受到磨耗及污染的程度，以供掌握探针卡是否处于堪于使用的状态，以提升探针卡检测结果的可靠度。然尔，显微镜的操作，经常会因人员的误操作让物镜与待观察物过于接近而发生碰撞，而本专利技术的显微镜防撞结构用于显微镜上时，可有效避免人员对于显微镜的误操作，而防止显微镜的物镜与待观察物发生碰撞，故本专利技术应用于观察探针卡的显微镜时，还可避免物镜与造价昂贵的探针卡因过于接近而发生碰撞，使得物镜或探针卡发生毁损而蒙受重大损失。针对本专利技术显微镜防撞结构的技术思想，请一并参考本案图式中各图的揭露以及下文的说明：如图1所示，本专利技术的显微镜防撞结构，用于显微镜1，所述显微镜1可将待观察物2的物像放大而供显微观察待观察物2，其中，显微镜1具有物镜11与载台12。物镜11由光学组件(包含透镜)所构成，而可在取像区域Z内撷取待观察物2(例如为探针卡)的物像，以将微小不可观察或难以观察的待观察物2的物像放大，以供肉眼或其他成像仪器显微观察待观察物2，进而判断待观察物2的状态。载台12设置于物镜11的下方用于承载待观察物2，以对待观察物2提供支撑。于本专利技术中，可选择性地，显微镜1还具有X轴移动机构171与Y轴移动机构172，X、Y轴移动机构171、172可受驱动而令载台12分别在X轴与Y轴上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显微镜防撞结构，用于一显微镜，所述显微镜可将一待观察物的物像放大而供显微观察所述待观察物，所述显微镜具有一物镜，所述物镜在一取像区域内撷取所述待观察物的物像，所述显微镜防撞结构包括：一测距仪，所述测距仪设置于所述取像区域的外围，于所述取像区域内的一测量点测量所述物镜与所述待观察物的距离，所述测量点与所述物镜隔开有一安全距离；一操作模块，所述操作模块可执行一上升操作或一下降操作，以令所述物镜与所述测距仪同步进行升降移动，以调整所述物镜与所述待观察物的距离，使所述待观察物进入所述取像区域让所述待观察物的物像清楚而供显微观察；以及一处理模块，所述处理模块接收所述测距仪的测量结果，并据以判断所述物镜与所述待观察物的距离是否小于所述安全距离，当所述操作模块执行所述下降操作，且所述物镜与所述待观察物的距离小于所述安全距离时，所述处理模块令所述操作模块停止执行所述下降操作，以防止所述物镜与所述待观察物因过于接近而发生碰撞。

【技术特征摘要】
2018.03.28 TW 1071108031.一种显微镜防撞结构，用于一显微镜，所述显微镜可将一待观察物的物像放大而供显微观察所述待观察物，所述显微镜具有一物镜，所述物镜在一取像区域内撷取所述待观察物的物像，所述显微镜防撞结构包括：一测距仪，所述测距仪设置于所述取像区域的外围，于所述取像区域内的一测量点测量所述物镜与所述待观察物的距离，所述测量点与所述物镜隔开有一安全距离；一操作模块，所述操作模块可执行一上升操作或一下降操作，以令所述物镜与所述测距仪同步进行升降移动，以调整所述物镜与所述待观察物的距离，使所述待观察物进入所述取像区域让所述待观察物的物像清楚而供显微观察；以及一处理模块，所述处理模块接收所述测距仪的测量结果，并据以判断所述物镜与所述待观察物的距离是否小于所述安全距离，当所述操作模块执行所述下降操作，且所述物镜与所述待观察物的距离小于所述安全距离时，所述处理模块令所述操作模块停止执行所述下降操作，以防止所述物镜与所述待观察物因过于接近而发生碰撞。2.如权利要求1所述的显微镜防撞结构，其特征在于，其中，所述物镜的焦距大于或等于所述安全距离。3.如权利要求1所述的显微镜防撞结构，其特征在于，其中，所述测距仪为雷射测距仪或红外线测距仪；所述测距仪倾斜设置于所述取像区域的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张毓勋，
申请(专利权)人：浮雕精密有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71