一种具有微纳米形态模具的加工方法技术

本发明专利技术涉及模具加工技术领域，且公开了一种具有微纳米形态模具的加工方法，步骤一：硅母版制造，步骤二：光刻硅母版，步骤三：表面镀膜以及步骤四：高分子材料转印。该具有微纳米形态模具的加工方法，不仅使得加工微纳米形态的模具的周期缩短，提高了微纳米形态的模具的生产效率，而且提高了微纳米形态的模具的生产质量。

A processing method of mould with micro nano shape

【技术实现步骤摘要】
一种具有微纳米形态模具的加工方法
本专利技术涉及模具加工
，具体为一种具有微纳米形态模具的加工方法。
技术介绍
目前，许多的电子产品、汽车等的零件都是通过模具生产出来的，模具作为机械加工领域的重要元素，由于其在生产加工成本方面的优势，已经日益成为产品、零件加工生产的首选。模具，简单地说，就是用来成型产品或零件的工具。根据成型产品的不同，将模具分为金属模具和非金属模具。而根据制造所述模具使用的材料不同，将所述模具分为砂型模具、金属模具、石蜡模具、塑料模具等等。目前硅母版在加工成带有微纳米形态的模具时，加工步骤特别繁琐，而且加工成的微纳米形态的模具质量差，不能够满足现代工业的需求。为此，本专利技术提出了一种具有微纳米形态模具的加工方法。
技术实现思路
(一)解决的技术问题针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种具有微纳米形态模具的加工方法具备不仅使得加工微纳米形态的模具的周期缩短，提高了微纳米形态的模具的生产效率，而且提高了微纳米形态的模具的生产质量的优点，解决了市场上硅母版在加工成带有微纳米形态的模具时，加工步骤特别繁琐，而且加工成的微纳米形态的模具质量差，不能够满足现代工业的需求的问题。(二)技术方案为实现上述的目的，本专利技术提供如下技术方案：一种具有微纳米形态模具的加工方法，具体步骤如下：步骤一：硅母版制造，A.选取具备所需尺寸要求的基板，通过手动将基板的表面的毛刺进行打磨加工，然后再将基板通过清水进行清洗，清洗之后将基板放入在烘干箱的内部进行烘干处理，将基板从烘干箱的内部取出后放入在空气中自然冷却待用，B.将冷却后的基板放置在硅涂料的喷涂机上，在基板的各个表面上涂覆一层硅涂料，然后将喷涂硅涂料的基板放入在采用风扇的风箱中进行冷却，即制成硅母版；步骤二：光刻硅母版，根据模具的尺寸需求，A.首先在硅母版的表面通过标尺测量出模具的长度、宽度和深度并做出标记，然后将标记后的硅母版放置在光刻机上，由于硅母版的拐角处容易被光刻机的夹具直接损坏，因此此处应当在光刻机的夹具上加上防护垫，将硅母版待加工的面对准与光刻机的激光枪，打开光刻机工作，光刻机在硅母版上刻出模具，B.由于硅母版上的模具被初步光刻出后，其内壁的粗糙度较大，因此需要再将硅母版上在光刻机上进行细刻；步骤三：表面镀膜，将步骤二中光刻硅母版的过程中，会在硅母版的表面残留有大量的碎屑和灰尘，因此需要将步骤二加工得到硅母版模具的表面进行清理，清理之后再使用清水对硅母版模具进行冲洗，冲洗之后放入在烘干箱的内部进行烘干，烘干之后取出将其放入在喷涂机上喷涂一层六甲基二硅氮烷和氧化铝复合薄膜，喷涂后再将其放入在采用风扇的风箱中进行冷却；步骤四：高分子材料转印，向步骤三中得到的硅母版模具中加入高分子材料，高分子材料凝固后即制成模具，此处高分子材料在冷凝时，为了加快高分子材料的凝固速度，可在硅母版模具的一侧设立一台风扇，等待高分子材料完全凝固后即加工成带有微纳米形态模具。优选的，所述步骤一中的烘干箱具体采用旋转式烘干箱或者悬挂式烘干箱，且旋转式烘干箱或者悬挂式烘干箱均采用电阻丝加热。优选的，所述步骤二中的光刻机采用夹板式夹具，夹板式夹具的表面固定设有防护垫。优选的，所述步骤二中的光刻机上固定设有吸尘装置和吸烟装置。优选的，所述步骤一对基板打磨时采用手持电动打磨机。优选的，所述步骤四中微纳米形态模具的取出方式采用特制的尖嘴取模钳。优选的，所述步骤四中的高分子材料转印所处的环境为真空环境。(三)有益效果与现有技术相比，本专利技术提供了一种具有微纳米形态模具的加工方法，具备以下有益效果：1、该具有微纳米形态模具的加工方法，通过步骤一：硅母版制造，步骤二：光刻硅母版，步骤三：表面镀膜以及步骤四：高分子材料转印，不仅使得加工微纳米形态的模具的周期缩短，提高了微纳米形态的模具的生产效率，而且提高了微纳米形态的模具的生产质量。附图说明图1为本专利技术提出的一种具有微纳米形态模具的加工方法的流程图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1，一种具有微纳米形态模具的加工方法，具体步骤如下：步骤一：硅母版制造，A.选取具备所需尺寸要求的基板，通过手动将基板的表面的毛刺进行打磨加工，然后再将基板通过清水进行清洗，清洗之后将基板放入在烘干箱的内部进行烘干处理，将基板从烘干箱的内部取出后放入在空气中自然冷却待用，B.将冷却后的基板放置在硅涂料的喷涂机上，在基板的各个表面上涂覆一层硅涂料，然后将喷涂硅涂料的基板放入在采用风扇的风箱中进行冷却，即制成硅母版；步骤二：光刻硅母版，根据模具的尺寸需求，A.首先在硅母版的表面通过标尺测量出模具的长度、宽度和深度并做出标记，然后将标记后的硅母版放置在光刻机上，由于硅母版的拐角处容易被光刻机的夹具直接损坏，因此此处应当在光刻机的夹具上加上防护垫，将硅母版待加工的面对准与光刻机的激光枪，打开光刻机工作，光刻机在硅母版上刻出模具，B.由于硅母版上的模具被初步光刻出后，其内壁的粗糙度较大，因此需要再将硅母版上在光刻机上进行细刻；步骤三：表面镀膜，将步骤二中光刻硅母版的过程中，会在硅母版的表面残留有大量的碎屑和灰尘，因此需要将步骤二加工得到硅母版模具的表面进行清理，清理之后再使用清水对硅母版模具进行冲洗，冲洗之后放入在烘干箱的内部进行烘干，烘干之后取出将其放入在喷涂机上喷涂一层六甲基二硅氮烷和氧化铝复合薄膜，喷涂后再将其放入在采用风扇的风箱中进行冷却；步骤四：高分子材料转印，向步骤三中得到的硅母版模具中加入高分子材料，高分子材料凝固后即制成模具，此处高分子材料在冷凝时，为了加快高分子材料的凝固速度，可在硅母版模具的一侧设立一台风扇，等待高分子材料完全凝固后即加工成带有微纳米形态模具。步骤一中的烘干箱具体采用旋转式烘干箱或者悬挂式烘干箱，且旋转式烘干箱或者悬挂式烘干箱均采用电阻丝加热。步骤二中的光刻机采用夹板式夹具，夹板式夹具的表面固定设有防护垫。步骤二中的光刻机上固定设有吸尘装置和吸烟装置。步骤一对基板打磨时采用手持电动打磨机。步骤四中微纳米形态模具的取出方式采用特制的尖嘴取模钳。步骤四中的高分子材料转印所处的环境为真空环境。综上所述，该具有微纳米形态模具的加工方法，在使用时，通过步骤一：硅母版制造，步骤二：光刻硅母版，步骤三：表面镀膜以及步骤四：高分子材料转印，不仅使得加工微纳米形态的模具的周期缩短，提高了微纳米形态的模具的生产效率，而且提高了微纳米形态的模具的生产质量。需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。尽管已经示出和描述了本专利技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本专利技术的原理和精神的情况本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有微纳米形态模具的加工方法，其特征在于：具体步骤如下：步骤一：硅母版制造，A.选取具备所需尺寸要求的基板，通过手动将基板的表面的毛刺进行打磨加工，然后再将基板通过清水进行清洗，清洗之后将基板放入在烘干箱的内部进行烘干处理，将基板从烘干箱的内部取出后放入在空气中自然冷却待用，B.将冷却后的基板放置在硅涂料的喷涂机上，在基板的各个表面上涂覆一层硅涂料，然后将喷涂硅涂料的基板放入在采用风扇的风箱中进行冷却，即制成硅母版；步骤二：光刻硅母版，根据模具的尺寸需求，A.首先在硅母版的表面通过标尺测量出模具的长度、宽度和深度并做出标记，然后将标记后的硅母版放置在光刻机上，由于硅母版的拐角处容易被光刻机的夹具直接损坏，因此此处应当在光刻机的夹具上加上防护垫，将硅母版待加工的面对准与光刻机的激光枪，打开光刻机工作，光刻机在硅母版上刻出模具，B.由于硅母版上的模具被初步光刻出后，其内壁的粗糙度较大，因此需要再将硅母版上在光刻机上进行细刻；步骤三：表面镀膜，将步骤二中光刻硅母版的过程中，会在硅母版的表面残留有大量的碎屑和灰尘，因此需要将步骤二加工得到硅母版模具的表面进行清理，清理之后再使用清水对硅母版模具进行冲洗，冲洗之后放入在烘干箱的内部进行烘干，烘干之后取出将其放入在喷涂机上喷涂一层六甲基二硅氮烷和氧化铝复合薄膜，喷涂后再将其放入在采用风扇的风箱中进行冷却；步骤四：高分子材料转印，向步骤三中得到的硅母版模具中加入高分子材料，高分子材料凝固后即制成模具，此处高分子材料在冷凝时，为了加快高分子材料的凝固速度，可在硅母版模具的一侧设立一台风扇，等待高分子材料完全凝固后即加工成带有微纳米形态模具。...

【技术特征摘要】
1.一种具有微纳米形态模具的加工方法，其特征在于：具体步骤如下：步骤一：硅母版制造，A.选取具备所需尺寸要求的基板，通过手动将基板的表面的毛刺进行打磨加工，然后再将基板通过清水进行清洗，清洗之后将基板放入在烘干箱的内部进行烘干处理，将基板从烘干箱的内部取出后放入在空气中自然冷却待用，B.将冷却后的基板放置在硅涂料的喷涂机上，在基板的各个表面上涂覆一层硅涂料，然后将喷涂硅涂料的基板放入在采用风扇的风箱中进行冷却，即制成硅母版；步骤二：光刻硅母版，根据模具的尺寸需求，A.首先在硅母版的表面通过标尺测量出模具的长度、宽度和深度并做出标记，然后将标记后的硅母版放置在光刻机上，由于硅母版的拐角处容易被光刻机的夹具直接损坏，因此此处应当在光刻机的夹具上加上防护垫，将硅母版待加工的面对准与光刻机的激光枪，打开光刻机工作，光刻机在硅母版上刻出模具，B.由于硅母版上的模具被初步光刻出后，其内壁的粗糙度较大，因此需要再将硅母版上在光刻机上进行细刻；步骤三：表面镀膜，将步骤二中光刻硅母版的过程中，会在硅母版的表面残留有大量的碎屑和灰尘，因此需要将步骤二加工得到硅母版模具的表面进行清理，清理之后再使用清水对硅母版模具进行冲洗，冲洗之后放入在烘干箱的内部进行烘干，烘干之后取出将其放入在喷涂机上喷涂一层六甲基...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐杨，黄风立，聂曼，
申请(专利权)人：嘉兴学院，
类型：发明
国别省市：浙江,33