一种用于药敏试验测量抑菌圈半径的培养皿制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于药敏试验测量抑菌圈半径的培养皿，透明的皿盘，皿盘为圆柱形结构，且皿盘上端设有开口，其特征在于，还包括一透明的皿座，皿座的外周上设有向上延伸的环形的座壁，皿盘设在皿座上，且座壁套设于皿盘的外侧，皿盘的外壁与座壁的内壁滑动连接；皿座的内底壁设有一透明的测量板，测量板的下表面固定于皿座的内底壁上，测量板的上表面与皿盘的底壁抵接。皿座能够分别套设在皿盘的上下两端，能够测量培养皿内的抑菌圈大小，设置在皿盘的底部时能够起到对皿盘的支撑作用，同时将测量板精密的贴合在皿座的上壁和皿盘的底壁之间，这样测量板使用时测量的抑菌圈大小更加准确。

A Petri dish for measuring the radius of bacteriostasis circle in drug susceptibility test

【技术实现步骤摘要】
一种用于药敏试验测量抑菌圈半径的培养皿
本技术涉及实验器具
，尤其涉及一种用于药敏试验测量抑菌圈半径的培养皿。
技术介绍
培养皿是一种用于微生物或细胞培养的实验室器皿，在药敏试验过程中，常使用培养皿进行细菌药物敏感度的测定，在试验过程中需要测量抑菌圈的大小，以反馈细菌的药物敏感度。现有的测量抑菌圈大小的培养皿主要分为两类：一类是将测量刻度线设置在培养皿的底壁上，从正面读取透明抑菌圈的大小；第二类是在培养皿的皿盖上设置测量刻度线，读取抑菌圈的大小。这两类测量抑菌圈大小的培养皿存在如下问题：1、当培养皿内的细菌基液带颜色或不透明时，无法读取设置在培养皿底壁上的刻度线；2、设置在皿盖上的刻度线由于距离细菌基液表面距离过长，使用皿盖上的刻度线读取时会因为距离过长，读取抑菌圈半径产生误差；3、在药敏试验的时候，需要根据不同的细菌基液选择不同的培养皿，试验室内需要准备多种类型的培养皿，不利于试验室的管理；4、培养皿上设置的刻度线容易在清洗过程中被腐蚀、刮花，影响培养皿的使用寿命。
技术实现思路
本技术为了解决上述技术问题提供一种结构简单、能够测量抑菌圈半径且能够批量进行药敏试验的培养皿，以解决上述至少一项技术问题。本技术解决上述技术问题的技术方案如下：一种用于药敏试验测量抑菌圈半径的培养皿，包括：透明的皿盘，所述皿盘为圆柱形结构，且所述皿盘上端设有开口，还包括一透明的皿座，所述皿座的外周上设有向上延伸的环形的座壁，所述皿盘设在所述皿座上，且所述座壁套设于所述皿盘的外侧，所述皿盘的外壁与所述座壁的内壁滑动连接；所述皿座的内底壁设有一透明的测量板，所述测量板的下表面固定于所述皿座的内底壁上，所述测量板的上表面与所述皿盘的底壁抵接。本技术的有益效果是：皿座能够分别套设在皿盘的上下两端，能够测量培养皿内的抑菌圈大小，设置在皿盘的底部时能够起到对皿盘的支撑作用，同时将测量板精密的贴合在皿座的上壁和皿盘的底壁之间，这样测量板使用时测量的抑菌圈大小更加准确。在上述技术方案的基础上，本技术还可以做如下改进。进一步，所述皿座上设有向下延伸的环形的凹槽，所述皿盘的外侧的底壁边缘环向设有与所述凹槽配合的支撑凸起，所述支撑凸起设于所述凹槽内。采用上述进一步方案的有益效果是：在不使用皿座时，皿盘底部的支撑凸起可以对皿盘起到支撑作用；当皿座置于皿盘上端时，皿座内部的凹槽能够容纳皿盘的支撑凸起，避免皿盘与皿座时间由于存在的支撑凸起，而使测量板与皿盘底壁之间间隔而使测量结果有误差。进一步，所述座壁的内壁向下延伸至所述凹槽的底部，且所述凹槽的环向内侧壁的直径小于所述皿盘上侧的开口的直径。采用上述进一步方案的有益效果是：这样的凹槽可以使皿座当作皿盖使用，皿盘的开口边缘通过座壁的内壁滑入凹槽内，皿盘开口的顶端与凹槽的底壁抵接，这样可以使测量板较靠近皿盘内的培养液，这样也可以读取皿盘内的抑菌圈大小，这样可以适用于培养液不透明的情况下使用，提升了皿盘的使用范围。进一步，所述皿座的底壁设有用于导通所述底壁的气孔。采用上述进一步方案的有益效果是：气孔能够防止皿座与皿盘之间滑动时二者之间形成密闭空腔，影响培养皿的使用，设置气孔后能够滑动时更加方便。进一步，所述测量板上设有井形刻度和十字形刻度，所述井形刻度和十字形刻度的中心重合且位于所述皿盘的中心轴线上。采用上述进一步方案的有益效果是：井形刻度和十字形刻度能够分别用于对比试验和单个试验，在使用培养皿进行药敏研发试验时，使用十字形刻度测量更加准确；当进行对比试验时，使用进行刻度能够快速的测量单个抑菌圈的大小。进一步，所述十字形刻度的中心处设有标记A，所述井形刻度上设有四个标记B，四个所述标记B环向间隔设置于所述标记A的外侧。采用上述进一步方案的有益效果是：标记A和标记B能够便于标记药品的位置，便于药敏试验进行。附图说明图1为本技术结构剖视主视图；图2为本技术皿座结构俯视图；图3为本技术结构剖视爆炸图；图4为本技术结构一种工作示意图。附图中，各标号所代表的部件列表如下：1、皿盘，2、座壁，3、测量板，4、气孔，5、凹槽，6、标记A，7、标记B，8、井形刻度，9、十字形刻度，10、支撑凸起，11、皿座。具体实施方式以下结合附图对本技术的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本技术，并非用于限定本技术的范围。实施例如图1所示，包括：透明的玻璃皿盘1，皿盘1为圆柱形结构，皿盘的外径为104mm，高度为32mm，壁厚为2mm，皿盘1的上端设有圆柱形的培养基置放槽，培养基置放槽的开口向上，培养基置放槽的直径为100mm，深度为20mm；还包括一透明的玻璃皿座11，皿座11的外径为108mm，壁厚为2mm，皿座11的的外周上设有向上延伸的座壁2，皿盘设在皿座上，且座壁2套设于皿盘1的外侧，皿盘1的外壁与座壁2的内壁滑动连接。皿座11的内底壁设有一透明的测量板3，测量板3为透明的钢玻璃膜，测量板3为圆形，且测量板3的中心位于皿盘1的中心轴线上，测量板3的直径为95mm，厚度为0.5mm，测量板3的一侧固定于皿座11的内底壁上，测量板3的另一侧与皿盘1的底壁抵接；测量板3与皿座11的内底壁之间填充有一层透明的膜胶，测量板3的边缘与皿座11的内底壁之间环向设有透明的防水胶。皿座11上设有向下延伸的环形的凹槽5，皿盘1的外侧的底壁边缘环向设有与凹槽5配合的支撑凸起10，支撑凸起10设于凹槽5内；皿盘1的上端开口边缘能够滑入凹槽5内；凹槽2的底端距离测量板3远离皿座11底壁的一侧侧壁为10mm。在皿座的底壁设有用于导通底壁的气孔，气孔4设有四个，四个气孔4沿皿座11的轴心环向间隔设置。皿盘1的边缘上端截面为半圆形，支撑凸起10的下端的截面以及凹槽5的底壁的截面均为小于1803的弧面形，弧面形的半径与半圆形的半径相同。测量板3上设有井形刻度8和十字形刻度9，井形刻度8和十字形刻度9的中心重合且位于皿盘1的中心轴线上，十字刻度9和井形刻度8刻于测量板3朝向皿座的一侧；十字形刻度包括两条相互垂直的刻度线A；井形刻度包括两条平行的刻度线B以及两条平行的刻度线C，刻度线B和刻度线C垂直设置，且两条刻度线B和两条刻度线C结合成井形结构，两条刻度线B以及两条刻度线C之间的距离为35mm，两条刻度线A分别穿过刻度线B与刻度线C的交点；刻度线A长度为90mm，刻度距离为1mm。十字形刻度9的中心处设有标记A6，井形刻度8的上设有四个标记B7，四个标记B7环向间隔设置于标记A6的外侧，且四个标记B7分别设置在进行刻度8的交叉处，这样的井形刻度8能够较为准确的读取标记B7周围的抑菌圈大小；标记A6为圆形，直径为4mm，标记A6的圆形区域内为磨砂；标记B7为圆形，直径为3mm，标记B7的圆形区域内为磨砂。以上所述仅为本技术的较佳实施例，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于药敏试验测量抑菌圈半径的培养皿，包括：透明的皿盘(1)，所述皿盘(1)为圆柱形结构，且所述皿盘(1)上端设有开口，其特征在于，还包括一透明的皿座(11)，所述皿座(11)的外周上设有向上延伸的环形的座壁(2)，所述皿盘(1)设在所述皿座(11)上，且所述座壁(2)套设于所述皿盘(1)的外侧，所述皿盘(1)的外壁与所述座壁(2)的内壁滑动连接；所述皿座(11)的内底壁设有一透明的测量板(3)，所述测量板(3)的下表面固定于所述皿座(11)的内底壁上，所述测量板(3)的上表面与所述皿盘(1)的底壁抵接。

【技术特征摘要】
1.一种用于药敏试验测量抑菌圈半径的培养皿，包括：透明的皿盘(1)，所述皿盘(1)为圆柱形结构，且所述皿盘(1)上端设有开口，其特征在于，还包括一透明的皿座(11)，所述皿座(11)的外周上设有向上延伸的环形的座壁(2)，所述皿盘(1)设在所述皿座(11)上，且所述座壁(2)套设于所述皿盘(1)的外侧，所述皿盘(1)的外壁与所述座壁(2)的内壁滑动连接；所述皿座(11)的内底壁设有一透明的测量板(3)，所述测量板(3)的下表面固定于所述皿座(11)的内底壁上，所述测量板(3)的上表面与所述皿盘(1)的底壁抵接。2.根据权利要求1所述的一种用于药敏试验测量抑菌圈半径的培养皿，其特征在于，所述皿座(11)上设有向下延伸的环形的凹槽(5)，所述皿盘(1)的外侧的底壁边缘环向设有与所述凹槽(5)配合的支撑凸起(10)，所述支撑凸起(10)设于所述凹槽(5)内。3.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱子琦，张雪萍，贾丁，钟志军，彭广能，任志华，沈留红，曹随忠，马晓平，左之才，邓俊良，胡延春，王娅，余树民，刘海峰，周紫峣，
申请(专利权)人：四川农业大学，
类型：新型
国别省市：四川,51