一种内腔上釉装置制造方法及图纸

一种内腔上釉装置，包括龙门框架、坯料抓取装置和喷釉装置；所述坯料抓取装置通过驱动装置滑动安装于所述龙门框架，所述喷釉装置位于所述龙门框架的下方；所述喷釉装置包括釉料回收箱、所述釉料回收箱内竖向设有喷口朝上的喷釉管。本发明专利技术的目的在于提出一种内腔上釉的装置，该装置能够提高上釉的效率。

A glazing device for inner cavity

【技术实现步骤摘要】
一种内腔上釉装置
本专利技术涉及上釉
，特别是一种内腔上釉装置。
技术介绍
杯状容器在上釉方面还没有使用人工操作设备的方式实现，这种方式对人工操作的依赖性较高。人工上釉的方式存在效率低，成本高，并且在上釉的工作中，对釉料的浪费比较大，需要开发一种对产品内壁进行上釉的设备，可以减少工作人员的工作量，提高上釉的效率。
技术实现思路
针对上述缺陷，本专利技术的目的在于提出一种内腔上釉的装置，该装置能够提高上釉的效率。为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：一种内腔上釉装置，包括龙门框架、坯料抓取装置和喷釉装置；所述坯料抓取装置通过驱动装置滑动安装于所述龙门框架，所述喷釉装置位于所述龙门框架的下方；所述喷釉装置包括釉料回收箱、所述釉料回收箱内竖向设有喷口朝上的喷釉管。较佳地，所述喷釉装置300还包括釉料擦拭装置；所述釉料擦拭装置包括放置板和坯料放置座，所述放置板盖设于所述釉料回收箱的上方，所述坯料放置座安装于所述放置板；所述坯料放置座的中心开设有釉管孔，所述喷釉管穿过所述釉管孔。较佳地，所述坯料放置座以釉管孔为中心转动安装于所述放置板；所述坯料放置座的上表面呈内凹状，所述坯料放置座的上表面绷设有纱网。较佳地，还包括残液擦拭装置，所述残液擦拭装置位于所述喷釉装置的下游位置；所述残液擦拭装置包括机架、辊筒组件和压紧辊，所述辊筒组件安装于所述机架的顶部，所述辊筒组件由驱动装置驱动，所述压紧辊和所述辊筒组件中最外侧的辊筒靠近；所述辊筒组件外部套设有吸水带，所述辊筒组件带动所述吸水带转动，所述辊筒组件将所述吸水带拉成平面。较佳地，还包括残液回收箱，所述残液回收箱位于所述辊筒组件和压紧辊的下方。进一步地，还包括坯料翻转装置，所述坯料翻转装置安装于所述龙门框架下游端的立柱；所述坯料翻转装置包括转轴、翻转杆和吸盘座，所述转轴横向旋转安装于所述龙门框架下游端的立柱，所述翻转杆包括垂直段和水平段，水平段安装有所述吸盘座。进一步地，所述转轴以导轨滑动结构安装于安装座，所述安装座和所述龙门框架之间设有高度升降装置。进一步地，所述坯料抓取装置包括平移机构、升降机构和抓取机构；所述升降机构安装于所述平移机构，所述抓取机构安装于所述升降机构的下端；所述平移机构沿所述龙门框架的上游和下游运动。进一步地，所述抓取机构230的分为自上游到下游分为前、中和后三个抓取位，三个不同位置的的抓取位都采用吸盘结构，不同位置的抓取位分别设有独立的气源。进一步地，所述龙门框架100的上游端和下游端均设有输送装置。本专利技术的有益效果：本方案通过设置坯料抓取装置和喷釉装置，对产品的内腔进行喷釉加工，使产品在受釉之后，多余的釉料可以收集之后再利用，在提高工作效率的同时，减少了釉料的损耗；2、坯料放置座能够相对于放置板旋转，在喷釉管喷釉之后，呈倒扣状的容器在坯料抓取装置夹持之后，坯料放置座旋转，即可使用纱网将残液珠抹掉，避免多余的釉料残留在坯料上；3、坯料放置座能够相对于放置板旋转，在喷釉管喷釉之后，呈倒扣状的容器在坯料抓取装置夹持之后，坯料放置座旋转，即可使用纱网将残液珠抹掉，避免多余的釉料残留在坯料上。附图说明图1是本专利技术的一个实施例的整体结构示意图；图2是图1中A处的局部放大图。其中：龙门框架100、坯料抓取装置200、平移机构210、升降机构220、抓取机构230、喷釉装置300、釉料回收箱310、喷釉管320、釉料擦拭装置330、放置板331、坯料放置座332、残液擦拭装置400、辊筒组件410、压紧辊420、吸水带430、坯料翻转装置500、转轴510、翻转杆520、吸盘座530。具体实施方式下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本专利技术的技术方案。如图1-2所示，一种内腔上釉装置，包括龙门框架100、坯料抓取装置200和喷釉装置300；所述坯料抓取装置200通过驱动装置滑动安装于所述龙门框架100，所述喷釉装置300位于所述龙门框架100的下方；所述喷釉装置300包括釉料回收箱310、所述釉料回收箱310内竖向设有喷口朝上的喷釉管320。本方案通过设置坯料抓取装置200和喷釉装置300，对产品的内腔进行喷釉加工，使产品在受釉之后，多余的釉料可以收集之后再利用，在提高工作效率的同时，减少了釉料的损耗。其中，所述喷釉装置300还包括釉料擦拭装置330；所述釉料擦拭装置330包括放置板331和坯料放置座332，所述放置板331盖设于所述釉料回收箱310的上方，所述坯料放置座332安装于所述放置板331；所述坯料放置座332的中心开设有釉管孔，所述喷釉管320穿过所述釉管孔。坯料放置座332用于放置坯料，通过设置坯料放置座332，可以使坯体在预设的位置上受釉。其中，所述坯料放置座332以釉管孔为中心转动安装于所述放置板331；所述坯料放置座332的上表面呈内凹状，所述坯料放置座332的上表面绷设有纱网。坯料放置座332能够相对于放置板331旋转，在喷釉管320喷釉之后，呈倒扣状的容器在坯料抓取装置200夹持之后，坯料放置座332旋转，即可使用纱网将残液珠抹掉，避免多余的釉料残留在坯料上。此外，还包括残液擦拭装置400，所述残液擦拭装置400位于所述喷釉装置300的下游位置；所述残液擦拭装置400包括机架、辊筒组件410和压紧辊420，所述辊筒组件410安装于所述机架的顶部，所述辊筒组件410由驱动装置驱动，所述压紧辊420和所述辊筒组件410中最外侧的辊筒靠近；所述辊筒组件410外部套设有吸水带430，所述辊筒组件410带动所述吸水带430转动，所述辊筒组件410将所述吸水带430拉成平面。本方案中的残液擦拭装置400是第二次擦拭残液的装置，在工作中，由坯料抓取装置200自喷釉装置300夹持来的，通过转动的吸水带430将坯料杯口的残液再次进行擦拭，吸水带430在吸收了釉料之后，转动到压紧辊420部位时，将吸水带430吸收的液体压榨出来，使吸水带始终处于能吸水的状态。此外，还包括残液回收箱，所述残液回收箱位于所述辊筒组件410和压紧辊420的下方。残液回收箱用于回收吸水带430压榨出来的釉料，可以将回收的釉料进行二次利用。此外，还包括坯料翻转装置500，所述坯料翻转装置500安装于所述龙门框架100下游端的立柱；所述坯料翻转装置500包括转轴510、翻转杆520和吸盘座530，所述转轴510横向旋转安装于所述龙门框架100下游端的立柱，所述翻转杆520包括垂直段和水平段，水平段安装有所述吸盘座530。坯料翻转装置500用于将开口朝下的容器翻转为开口朝上，以便于对其外壁进行浸釉处理，这样就使容器的内壁和外壁都进行了上釉。其中，所述转轴510以导轨滑动结构安装于安装座，所述安装座和所述龙门框架100之间设有高度升降装置。调整转轴510的高度，就是对整个坯料翻转装置500的高度进行了调整，高度升降装置用于升起或降下调整转轴510的高度。此外，所述坯料抓取装置200包括平移机构210、升降机构220和抓取机构230；所述升降机构220安装于所述平移机构210，所述抓取机构230安装于所述升降机构220的下端；所述平移机构210沿所述龙门框架100的上游和下游运动。设有多个抓取位，在一次升降就可以应多应对多个工艺，提高了工作效率。此外，所述抓取机构230的分为自上游到本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种内腔上釉装置，其特征在于，包括龙门框架、坯料抓取装置和喷釉装置；所述坯料抓取装置通过驱动装置滑动安装于所述龙门框架，所述喷釉装置位于所述龙门框架的下方；所述喷釉装置包括釉料回收箱、所述釉料回收箱内竖向设有喷口朝上的喷釉管。

【技术特征摘要】
1.一种内腔上釉装置，其特征在于，包括龙门框架、坯料抓取装置和喷釉装置；所述坯料抓取装置通过驱动装置滑动安装于所述龙门框架，所述喷釉装置位于所述龙门框架的下方；所述喷釉装置包括釉料回收箱、所述釉料回收箱内竖向设有喷口朝上的喷釉管。2.根据权利要求1所述的内腔上釉装置，其特征在于，所述喷釉装置300还包括釉料擦拭装置；所述釉料擦拭装置包括放置板和坯料放置座，所述放置板盖设于所述釉料回收箱的上方，所述坯料放置座安装于所述放置板；所述坯料放置座的中心开设有釉管孔，所述喷釉管穿过所述釉管孔。3.根据权利要求2所述的内腔上釉装置，其特征在于，所述坯料放置座以釉管孔为中心转动安装于所述放置板；所述坯料放置座的上表面呈内凹状，所述坯料放置座的上表面绷设有纱网。4.根据权利要求1所述的内腔上釉装置，其特征在于，还包括残液擦拭装置，所述残液擦拭装置位于所述喷釉装置的下游位置；所述残液擦拭装置包括机架、辊筒组件和压紧辊，所述辊筒组件安装于所述机架的顶部，所述辊筒组件由驱动装置驱动，所述压紧辊和所述辊筒组件中最外侧的辊筒靠近；所述辊筒组件外部套设有吸水带，所述辊筒组件带动所述吸水带转动，所述辊筒组件将所述吸水带拉成平面...

【专利技术属性】
技术研发人员：石百生，罗淮，胡笃志，林建安，刘金昌，甄活强，郑锋，
申请(专利权)人：佛山市南海鑫隆机工机械有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44