图案放置校正的方法技术

提供了用于校正基板上的图案放置的方法和设备。在一些实施方式中，一种用于校正基板上的图案放置的方法，包括：检测基板的三个参考点；检测多组三个裸片位置点，每组指示裸片的取向，所述多组三个裸片位置点包括与第一裸片相关联的第一组和与第二裸片相关联的第二组；计算所述第一裸片和所述第二裸片在所述基板上的所述取向的局部变换；从所述多组三个裸片位置点中选择三个取向点，其中所述取向点不是同一组的成员；从来自所述一组点的选定的所述三个取向点计算所述基板的第一全局变换；以及存储所述基板的所述第一全局变换和所述局部变换。

Method of pattern placement correction

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图案放置校正的方法
本公开内容的实施方式一般涉及用于处理一个或多个基板的方法，并且更具体地涉及用于执行光刻工艺的方法。
技术介绍
一般采用微光刻技术来产生作为形成在基板上的裸片的一部分而引入的电特征。根据该技术，通常将光敏光刻胶施加到基板的表面。然后，图案发生器用光曝光作为图案的一部分的光敏光刻胶的选定区域，以致使选定区域中的光刻胶发生化学变化，从而产生掩模。该掩模用于在最终构成裸片的电特征的产生期间转移图案。然而，由于在电特征的形成中涉及多个操作，因此需要对形成各个裸片的掩模的高放置准确度来对准连接。放置准确度的要求限制了产量并增加了成本。除了其它问题之外，基板的翘曲也可能会导致各个裸片中的连接错位。在拾取放置操作期间的过量裸片漂移也会导致良率损失。因此，当使用传统光刻时，使扣合芯片错位以形成模制面板可能导致在构建工艺中的图案重叠困难。因此，需要一种用于光刻的改善的系统和方法。
技术实现思路
在本专利技术的一个实施方式中，公开了一种用于校正基板上的图案放置的方法。所述方法通过检测基板的三个参考点开始。检测多组三个裸片位置点，每组指示裸片结构的取向，所述多组三个裸片位置点包括与第一裸片相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于校正基板上的图案放置的方法，所述方法包括：检测基板的三个参考点；检测多组三个裸片位置点，每组指示裸片的取向，所述多组三个裸片位置点包括与第一裸片相关联的第一组和与第二裸片相关联的第二组；计算所述第一裸片和所述第二裸片在所述基板上的所述取向的局部变换；从所述多组三个裸片位置点选择三个取向点，其中所述取向点不是同一组的成员；从来自所述一组点的选定的所述三个取向点计算所述基板的第一全局变换；以及存储所述基板的所述第一全局变换和所述局部变换。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.02.03 US 15/424,3661.一种用于校正基板上的图案放置的方法，所述方法包括：检测基板的三个参考点；检测多组三个裸片位置点，每组指示裸片的取向，所述多组三个裸片位置点包括与第一裸片相关联的第一组和与第二裸片相关联的第二组；计算所述第一裸片和所述第二裸片在所述基板上的所述取向的局部变换；从所述多组三个裸片位置点选择三个取向点，其中所述取向点不是同一组的成员；从来自所述一组点的选定的所述三个取向点计算所述基板的第一全局变换；以及存储所述基板的所述第一全局变换和所述局部变换。2.如权利要求1所述的方法，进一步包括：将所述基板定位在光刻工具中；检测所述三个参考点；从所述三个参考点计算第二全局变换；将所述第二全局变换与所述局部变换组合以计算所述基板的有效变换；以及在扫描期间将所述有效变换作为校正施加到数字掩模。3.如权利要求2所述的方法，进一步包括：通过施加所述有效变换来校正所述裸片的所述取向，以产生每一裸片数字掩模对准校正；以及在所述裸片上印刷再分布光刻层。4.如权利要求3所述的方法，进一步包括：将所述每一裸片数字掩模与基于模型的图案放置校正对准；以及校正基板的翘曲和所述裸片的所述取向。5.如权利要求1所述的方法，其中计算所述基板的所述第一全局变换的步骤包括：(a)测量所述基板的x/y旋转的值，(b)测量所述基板的扩展的值；(c)测量所述基板上的所述裸片的所述取向的值；以及(d)从(a)、(b)和(c)处测量的值计算全局变换。6.如权利要求5所述的方法，其中对有限数量的裸片执行所述测量。7.如权利要求1所述的方法，其中从所述一组点选择三个点的步骤包括：选择三个对准标记。8.一种系统，包括：处理器；以及存储器，其中所...

【专利技术属性】
技术研发人员：塔纳·科斯坤，建峰·陈，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US