基板处理装置及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于提供能够抑制向基板循环供给的处理液的浓度降低的基板处理装置及基板处理方法。本发明专利技术的解决手段为：根据由配置于显影槽(21)的底面(2B)上的第1浓度计(M1)测得的显影液的浓度，利用分隔板移动机构(12)而使分隔板(11)沿搬送方向移动，由此，对从沿水平方向搬送的基板(S)的上表面流下的显影液(DL)的回收范围进行变更。结果，能够抑制在向显影喷嘴(22)循环供给的显影液中混入在水洗槽(31)中被供给至基板(S)的纯水。

Substrate Processing Device and Substrate Processing Method

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及基板处理方法
本专利技术涉及例如在对液晶显示装置等FPD(FlatPanelDisplay(平板显示器))用玻璃基板等基板进行显影处理之后进行水洗处理的基板处理装置及基板处理方法。
技术介绍
例如，专利文献1中记载了一种基板处理装置，其中，在显影处理槽内，向利用多个搬送辊而被水平地支承并且沿水平方向搬送的基板的上表面供给显影液。通过使显影液在基板的上表面进行积液，从而实施了所谓的旋覆浸没(puddle)式显影处理。作为用于使显影液积液的喷嘴，可使用例如专利文献2中记载的喷嘴。在上述基板处理装置中，利用多个搬送辊而将基板从显影处理槽搬入水洗槽。在该水洗槽中，水洗用水被供给至所搬送的基板从而将残留于基板上的显影液冲掉。另外，在显影处理槽中，被供给至基板并从基板流下的显影液被回收。上述被回收的显影液被循环供给至喷嘴而得以再利用。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-64312号公报(例如图1)专利文献2：日本特开2002-324751号公报(例如图4)
技术实现思路
专利技术要解决的课题当基板从显影处理槽进入水洗槽时，存在水洗用水沿着基板的上表面而向显影处理槽逆流的情况。上述逆流的水洗用水混入显影液中。结果，经回收而向喷嘴循环供给的显影液的浓度因水洗用水而变稀。若将像上述那样浓度变稀的显影液供给至基板，则会发生显影能力降低这样的问题。虽然针对处理液为显影液的情况进行了说明，但上述问题在处理液使用蚀刻液、剥离液等其他处理液的情况下也同样会发生。鉴于上述方面，本专利技术的目的在于提供能够抑制向基板循环供给的处理液的浓度降低的基板处理装置及基板处理方法。用于解决课题的手段方案1涉及的第1专利技术(基板处理装置)具备：搬送部，其在水平地支承基板的同时将所述基板沿水平方向搬送；第1供给部，其向由搬送部搬送的基板供给第1处理液；第1回收部，其对由第1供给部供给并从基板流下的第1处理液进行回收；循环供给部，其将由第1回收部回收的第1处理液向第1供给部循环供给；除去部，其将附着于由第1供给部供给第1处理液并由搬送部搬送的基板上的第1处理液除去；第2供给部，其在比除去部更靠搬送部的搬送方向的下游侧，供给与第1处理液种类不同的第2处理液；第2回收部，其对由第2供给部供给并从基板流下的第2处理液进行回收；第1浓度测定部，其对第1回收部至循环供给部中的第1处理液的浓度进行测定；和回收范围变更部，其根据由第1浓度测定部得到的测定结果，对利用第1回收部进行的、所述搬送方向上的回收范围进行变更。方案2涉及的第2专利技术如第1专利技术所述，其中还具备：第1处理槽，其形成利用搬送部进行搬送、并且利用第1供给部供给第1处理液的第1处理室；和第2处理槽，其形成利用搬送部进行搬送、并且利用第2供给部供给第2处理液的第2处理室，第1回收部包含第1处理槽的第1底面，并且第2回收部包含第2处理槽的第2底面，所述回收范围变更部具有：分隔部件，其将第1底面与第2底面分隔；和分隔部件移动机构，其根据由第1浓度测定部得到的测定结果而使分隔部件沿搬送方向移动。方案3涉及的第3专利技术如第2专利技术所述，其中，利用分隔部件移动机构进行的、分隔部件的移动范围为从除去部的配置位置至第2供给部的配置位置的范围内。方案4涉及的第4专利技术如第1专利技术所述，其中还具备：第1处理槽，其形成利用搬送部进行搬送、并且利用第1供给部供给第1处理液的第1处理室；和第2处理槽，其形成利用搬送部进行搬送、并且利用第2供给部供给第2处理液的第2处理室，第1回收部包含第1处理槽的第1底面，并且第2回收部包含第2处理槽的第2底面，所述回收范围变更部具有：多个分隔部件，其将第1底面与第2底面分隔并且沿搬送方向设置；预回收配管，其将配置于搬送方向下游侧的分隔部件的上游侧与循环供给部进行流路连接；和阀，其根据由第1浓度测定部得到的测定结果而将预回收配管的流路开闭。方案5涉及的第5专利技术如第4专利技术所述，其中，多个分隔部件中的从配置于最上游侧的分隔部件至配置于最下游侧的分隔部件的范围为从除去部的配置位置至第2供给部的配置位置的范围内。方案6涉及的第6专利技术(基板处理方法)包括下述工序：第1供给工序，从第1供给部向在被水平地支承的同时沿水平方向搬送的基板供给第1处理液；第1回收工序，对利用第1供给工序而被供给并从基板流下的第1处理液进行回收；循环供给工序，将利用第1回收工序而被回收的第1处理液向第1供给部循环供给；除去工序，在第1供给工序之后，将附着于在被水平地支承的同时沿水平方向搬送的基板上的第1处理液除去；第2供给工序，在除去工序之后，向在被水平地支承的同时沿水平方向搬送的基板供给与第1处理液种类不同的第2处理液；第2回收工序，对利用第2供给工序而被供给并从基板流下的第2处理液进行回收；第1浓度测定工序，对从第1回收工序至循环供给工序中的第1处理液的浓度进行测定；和回收范围变更工序，根据由第1浓度测定工序得到的测定结果，对利用第1回收部进行的、所述搬送方向上的回收范围进行变更。专利技术效果根据方案1至方案6中任一方案涉及的专利技术，能够抑制向基板循环供给的处理液的浓度降低。附图说明[图1]为示出作为本专利技术的第1实施方式的基板处理装置的概略侧视图。[图2]为用于对分隔部件移动机构的动作进行说明的概略俯视图。[图3]为示出第1实施方式的电连接关系的框图。[图4]为示出第1实施方式的动作的流程图。[图5]为示出作为第2实施方式的基板处理装置的概略侧视图。[图6]为示出第2实施方式的电连接关系的框图。[图7]为示出第2实施方式的动作的流程图。[图8]为示出第2实施方式的变形例的概略侧视图。附图标记说明2显影部3水洗部6搬送部11、11a～11d分隔板(分隔部件)12分隔板移动机构(分隔部件移动机构)21显影槽(第1处理槽)22显影喷嘴(第1供给部)23排液配管24循环罐25返回配管27气刀(除去部)31水洗槽(第2处理槽)32液刀(第2供给部)100、100a基板处理装置S基板M1第1浓度计具体实施方式以下，参照附图，对本专利技术的实施方式进行说明。图1为示出作为本专利技术的第1实施方式的基板处理装置100的概略侧视图。该基板处理装置100为下述装置，其中，针对利用搬送部6而在以水平姿态被支承的同时沿顺着其表面的Y方向(水平方向)搬送的基板S，利用显影部2、水洗部3及排液部4分别实施处理。另外，基板处理装置100具备用于统筹地对装置进行控制的控制部5。基板S为例如俯视下呈矩形的液晶显示装置用玻璃基板。另外，基板S也可以是有机EL(ElectroLuminescence(电致发光))显示装置用玻璃基板、太阳能电池用面板基板、PDP(PlasmaDisplayPanel(等离子体显示面板))用玻璃基板或半导体制造装置用掩模基板等。搬送部6具备彼此平行地沿Y方向排列的多个搬送辊61。多个搬送辊61被分别配设在显影部2的显影槽21、水洗部3的水洗槽31及排液部4的排液槽41内。另外，虽省略了图示，但在显影槽21的搬送方向上的上游侧(-Y侧)及排液槽41的下游侧(+Y侧)也分别设置有多个搬送辊61。利用未图示的驱动部使得多个搬送辊61分别被绕其轴心而旋转驱动。显影部2对基板S实施显影处理。更具体而言，显影部2形成于基板S的上表面，针对经规定本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.基板处理装置，其具备：搬送部，所述搬送部在水平地支承基板的同时将所述基板沿水平方向搬送；第1供给部，所述第1供给部向由搬送部搬送的基板供给第1处理液；第1回收部，所述第1回收部对由第1供给部供给并从基板流下的第1处理液进行回收；循环供给部，所述循环供给部将由第1回收部回收的第1处理液向第1供给部循环供给；除去部，所述除去部将附着于由第1供给部供给第1处理液并由搬送部搬送的基板上的第1处理液除去；第2供给部，所述第2供给部在比除去部更靠搬送部的搬送方向的下游侧，供给与第1处理液种类不同的第2处理液；第2回收部，所述第2回收部对由第2供给部供给并从基板流下的第2处理液进行回收；第1浓度测定部，所述第1浓度测定部对第1回收部至循环供给部中的第1处理液的浓度进行测定；和回收范围变更部，所述回收范围变更部根据由第1浓度测定部得到的测定结果，对利用第1回收部进行的、所述搬送方向上的回收范围进行变更。

【技术特征摘要】
2018.03.12 JP 2018-0439341.基板处理装置，其具备：搬送部，所述搬送部在水平地支承基板的同时将所述基板沿水平方向搬送；第1供给部，所述第1供给部向由搬送部搬送的基板供给第1处理液；第1回收部，所述第1回收部对由第1供给部供给并从基板流下的第1处理液进行回收；循环供给部，所述循环供给部将由第1回收部回收的第1处理液向第1供给部循环供给；除去部，所述除去部将附着于由第1供给部供给第1处理液并由搬送部搬送的基板上的第1处理液除去；第2供给部，所述第2供给部在比除去部更靠搬送部的搬送方向的下游侧，供给与第1处理液种类不同的第2处理液；第2回收部，所述第2回收部对由第2供给部供给并从基板流下的第2处理液进行回收；第1浓度测定部，所述第1浓度测定部对第1回收部至循环供给部中的第1处理液的浓度进行测定；和回收范围变更部，所述回收范围变更部根据由第1浓度测定部得到的测定结果，对利用第1回收部进行的、所述搬送方向上的回收范围进行变更。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其还具备：第1处理槽，所述第1处理槽形成利用搬送部进行搬送、并且利用第1供给部供给第1处理液的第1处理室；和第2处理槽，所述第2处理槽形成利用搬送部进行搬送、并且利用第2供给部供给第2处理液的第2处理室，第1回收部包含第1处理槽的第1底面，并且第2回收部包含第2处理槽的第2底面，所述回收范围变更部具有：分隔部件，所述分隔部件将第1底面与第2底面分隔；和分隔部件移动机构，所述分隔部件移动机构根据由第1浓度测定部得到的测定结果而使分隔部件沿搬送方向移动。3.如权利要求2所述的基板处理装置，其中，利用分隔部件移动机构进行的、分隔部件的移动范围为从除去部的配置位置至第2供给...

【专利技术属性】
技术研发人员：富藤幸雄，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP