速率监控装置、蒸镀设备及蒸镀方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种速率监控装置、蒸镀设备及蒸镀方法。本发明专利技术的速率监控装置，包括挡板组件、膜厚检测组件和多个晶振片，挡板组件包括本体、开设于本体上的第一开口和第二开口，以及设置于本体上的用于封闭和暴露所述第二开口的第一挡板，所述本体遮挡所述多个晶振片，所述第一开口暴露一所述晶振片，所述第二开口暴露所述另一所述晶振片，所述膜厚检测组件用于检测所述第一开口暴露出的所述晶振片上所沉积蒸镀材料层的膜厚，以确定所述蒸镀速率。本发明专利技术蒸镀时的生产效率较高。

Rate Monitoring Device, Steaming Equipment and Steaming Method

【技术实现步骤摘要】
速率监控装置、蒸镀设备及蒸镀方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种速率监控装置、蒸镀设备及蒸镀方法。
技术介绍
目前，在通过真空蒸镀工艺制备有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)的过程中，常利用晶振系统监控蒸镀腔室内蒸发源的蒸发速率，再通过调节蒸发源的蒸发速率，控制蒸镀所形成有机发光材料膜层的厚度。目前的晶振系统中具有多个晶振片，晶振片上沉积材料时，晶振片的振动频率会随晶振片的质量改变而变化，以实现监控蒸发源的蒸发速率。具体的，晶振系统具有多个隐藏在挡板后的晶振片，每次通过移动晶振座暴露出一个晶振片来进行材料沉积以实现检测蒸发速率，在这个晶振片沉积至一定程度后，切换使用另一晶振片，以使得晶振系统能够长时间监控蒸发速率。然而，进行蒸镀时，镁、镱等待蒸镀的金属材料在晶振片上附着性不好，所以要在连续生产前对所有晶振片逐个进行预沉积，每个晶振片的预沉积需耗时十几分钟，这导致晶振系统需等待很长时间才能应用至真空蒸镀工艺中，严重降低了真空蒸镀效率。
技术实现思路
本专利技术提供一种速率监控装置、蒸镀设备及蒸镀方法，蒸镀时的生产效率较高。第一方面，本专利技术提供一种速率监控装置，用于监控蒸镀设备的蒸镀速率，所述速率监控装置包括挡板组件、膜厚检测组件和多个晶振片，挡板组件包括本体，开设于本体上的第一开口和第二开口，以及设置于本体上的用于封闭和暴露第二开口的第一挡板，本体遮挡多个晶振片，第一开口暴露一晶振片，第二开口暴露另一晶振片，膜厚检测组件用于检测第一开口暴露出的晶振片上所沉积蒸镀材料层的膜厚，以确定蒸镀速率。第二方面，本专利技术提供一种蒸镀设备，包括蒸镀源和如上所述的速率监控装置，速率监控装置内第一开口和第二开口面对蒸镀源。第三方面，本专利技术提供一种蒸镀方法，该方法通过上述蒸镀设备进行蒸镀，该方法包括以下步骤：先启动蒸镀源进行蒸镀；然后通过膜厚检测组件检测第一开口暴露出的晶振片上所沉积蒸镀材料层的膜厚，以确定蒸镀速率；再通过第一挡板暴露出第二开口，以使得第二开口所暴露出的另一晶振片进行预沉积；最后在另一晶振片预沉积膜厚满足预设预沉积标准时，通过第一挡板封闭第二开口。本专利技术的速率监控装置、蒸镀设备及蒸镀方法，速率监控装置用于监控蒸镀设备的蒸镀速率，速率监控装置包括挡板组件、膜厚检测组件和多个晶振片，挡板组件包括本体，开设于本体上的第一开口和第二开口，以及设置于本体上的用于封闭和暴露第二开口的第一挡板，本体遮挡多个晶振片，第一开口暴露一晶振片，第二开口暴露另一晶振片，膜厚检测组件用于检测第一开口暴露出的晶振片上所沉积蒸镀材料层的膜厚，以确定蒸镀速率。这样第二开口可以在晶振片切换前的预设时间段开启，以使待切换晶振片在切换前进行材料膜层的预沉积，待切换的晶振片切换至检测位置后，就可以直接进行蒸镀速率监控任务，而不需要再等待膜层的预沉积过程，因而节省了工序时间，提高了生产效率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例一提供的速率监控装置所在的蒸镀设备的结构示意图；图2是本专利技术实施例一提供的速率监控装置在第二开口关闭时的结构示意图；图3是本专利技术实施例一提供的速率监控装置在第二开口打开时的结构示意图；图4是本专利技术实施例一提供的速率监控装置和蒸镀源的相对位置示意图；图5是本专利技术实施例一提供的一种速率监控装置的控制元件连接示意图；图6是本专利技术实施例一提供的另一种速率监控装置的控制元件连接示意图；图7是本专利技术实施例三提供的蒸镀方法的流程示意图。附图标记说明：1、11、12—晶振片；2—挡板组件；21—第一开口；22—第二开口；23—第一挡板；24—本体；25—第二挡板；251—缺口；3—第一控制器；4—膜厚检测仪；5—计时器；6—第二控制器；7—驱动元件；10—蒸镀设备；20—蒸镀源；30—速率监控装置；40—基板。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在生产和制造OLED显示面板时，为了在基板等部件表面镀上膜层，需要用到真空蒸镀工艺。在进行真空蒸镀时，具体为将待成膜的部件设置在真空环境中，并通过加热使蒸镀源的蒸镀材料发生蒸发或者升华后，再让气化的蒸镀材料沉积至待成膜的表面，从而完成镀膜。其中，用于蒸镀的蒸镀设备一般会包括有蒸发腔室和位于蒸发腔室内的坩埚等蒸镀源。在进行蒸镀操作时，可将基板等部件放置在蒸发腔室内，并通过加热坩埚等蒸发源，让坩埚内的蒸镀材料从坩埚内喷出，并沉积在基板表面。其中，为了对进行蒸镀时的蒸镀速率进行监控，蒸镀设备还包括有速率监控装置，速率监控装置包括有晶振座以及设置在晶振座上的晶振片，晶振片所处的位置同样位于蒸镀设备的蒸发腔室中，或者与蒸发腔室连通，这样当蒸镀设备对待蒸镀部件，例如是基板进行蒸镀操作时，蒸镀材料不仅会沉积在基板表面并形成目标膜层，同时也会沉积在蒸镀设备的晶振片的表面并形成膜层。当晶振片因沉积膜层而发生质量、体积上的变化时，晶振片在压电谐振的作用下会产生较大且易于检测的振幅变化，这样速率监控装置即可通过对振幅等参数的变化，检测晶振片上的膜层厚度变化，从而对晶振片上的膜层的蒸镀速率进行监控，并进一步监控整个蒸镀设备的蒸镀速率以及目标膜层的厚度。其中，为了对蒸镀速率实现较为准确的检测，晶振片在沉积一定时间，让其上的膜层达到一定厚度后，就会切换至另一个晶振片进行沉积。然而，当速率监控装置利用晶振片进行蒸镀速率的检测和监控时，镁、镱等蒸镀材料在晶振片表面的附着性较差，因而连续生产前对所有晶振片逐个进行预沉积，以保证正常速率监控，每个晶振片需要15-20分钟，10个晶振片需要150分钟以上，影响生产效率，且由于预沉积时间和使用时间间隔较长或者其它方面原因，存在已预沉积好的晶振片在使用时失效的问题，导致切换晶振片后无法正常监控速率，影响生产。为此，本专利技术提供一种速率监控装置，用在蒸镀设备中并监控蒸镀设备的蒸镀速率，本专利技术的速率监控装置能够提高蒸镀效率。图1是本专利技术实施例一提供的速率监控装置所在的蒸镀设备的结构示意图。如图1所示，速率监控装置设置在蒸镀设备10中，用于监控蒸镀设备10的蒸镀速率，此外蒸镀设备10还包括蒸镀源20。具体的，蒸镀设备10的蒸镀源20和待蒸镀的部件，例如是基板40均位于蒸镀设备10的腔室内部，且速率监控装置30设置在蒸镀源20附近。这样蒸镀设备10对待蒸镀部件，例如是基板40进行蒸镀操作时，可以利用速率监控装置30进行蒸镀速率的监控。图2是本专利技术实施例一提供的速率监控装置在第二开口关闭时的结构示意图。图3是本专利技术实施例一提供的速率监控装置在第二开口打开时的结构示意图。图4是本专利技术实施例一提供的速率监控装置和蒸镀源的相对位置示意图。如图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种速率监控装置，用于监控蒸镀设备的蒸镀速率，其特征在于，所述速率监控装置包括挡板组件、膜厚检测组件和多个晶振片，所述挡板组件包括本体、开设于所述本体上的第一开口和第二开口以及设置于所述本体上的用于封闭和暴露所述第二开口的第一挡板，所述本体遮挡所述多个晶振片，所述第一开口暴露一所述晶振片，所述第二开口暴露另一所述晶振片，所述膜厚检测组件用于检测所述第一开口暴露出的所述晶振片上所沉积蒸镀材料层的膜厚，以确定所述蒸镀速率。

【技术特征摘要】
1.一种速率监控装置，用于监控蒸镀设备的蒸镀速率，其特征在于，所述速率监控装置包括挡板组件、膜厚检测组件和多个晶振片，所述挡板组件包括本体、开设于所述本体上的第一开口和第二开口以及设置于所述本体上的用于封闭和暴露所述第二开口的第一挡板，所述本体遮挡所述多个晶振片，所述第一开口暴露一所述晶振片，所述第二开口暴露另一所述晶振片，所述膜厚检测组件用于检测所述第一开口暴露出的所述晶振片上所沉积蒸镀材料层的膜厚，以确定所述蒸镀速率。2.根据权利要求1所述的速率监控装置，其特征在于，所述速率监控装置还包括连接所述膜厚检测组件的第一控制器，所述第一控制器用于控制所述第一挡板暴露所述第二开口，并在所述膜厚检测组件所检测到所述第二开口暴露的晶振片的膜厚超出预设膜厚阈值时，封闭所述第二开口。3.根据权利要求1所述的速率监控装置，其特征在于，所述速率监控装置包括第二控制器以及连接所述第二控制器的计时器，所述控制器用于从所述计时器获取计时数据，并控制所述第一挡板以第一预设时长暴露所述第二开口后，封闭所述第二开口。4.根据权利要求1-3任一项所述的速率监控装置，其特征在于，所述挡板组件还包括连接所述本体的第二挡板，所述第二挡板用于以...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈海涛，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32