操作真空处理系统的方法技术方案

描述一种操作真空处理系统(100、200、300)的方法，所述真空处理系统具有主要传输路径(50)，基板可沿着主要传输路径(50)在主要传输方向(Z)上传输。方法包括：(1a)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至第一沉积模块(D1)中以在基板(10)上沉积第一材料；(1b)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至第二沉积模块(D2)中以在基板(10)上沉积第二材料；和(1c)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至一个或多个沉积模块以在基板(10)上沉积一种或多种材料。此外，描述了操作真空处理系统的一个或多个旋转模块的多种方法，所述真空处理系统经构造以在多个基板上沉积两种或更多种材料。

Method of Operating Vacuum Processing System

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】操作真空处理系统的方法
本公开内容的实施方式涉及操作真空处理系统的方法，特别是在多个基板上沉积两种、三种或更多种不同材料。实施方式特别涉及操作真空处理系统的方法，其中被基板载体保持的基板在真空处理系统中沿着基板传输路径传输例如被进入各种沉积模块和离开各种沉积模块。
技术介绍
使用有机材料的光电装置出于多个原因而变得越来越普遍。用于制造上述装置的许多材料是相对廉价的，因此有机光电装置相较于无机装置具有成本优势的潜力。有机材料的固有特性(例如柔性)有利于诸如用于在柔性或非柔性基板上进行沉积的应用。有机光电装置的例子包括有机发光装置、有机光电晶体管(organicphototransistors)、有机光伏电池(organicphotovoltaiccells)与有机光电检测器(organicphotodetectors)。有机发光二极管(OLED)装置的有机材料相较于传统材料可具有性能优势。例如，在有机发射层发射的光的波长可容易地通过适合的掺杂剂来调整。OLED装置使用在电压被施加至装置时发光的薄有机膜。OLED装置变成用于诸如平板显示器、照明和背光的应用中的越来越令人感兴趣的技术。材料，特别是有机材料，通常在次大气压(sub-atmosphericpressure)下沉积在真空处理系统中的基板上。在沉积期间，掩模装置可被布置在基板的前方，其中掩模装置可具有限定开口图案的至少一个开口或多个开口，开口图案对应于待沉积(例如通过蒸发)于基板上的材料图案。基板在沉积期间通常布置在掩模装置之后，并相对于掩模装置对准。例如，掩模载体可用于将掩模装置传输至真空处理系统的沉积腔室中，基板载体可用于将基板传输至沉积腔室中以将基板布置在掩模装置之后。通常，两种、三种、五种、十种或更多种材料可随后被沉积在基板上，例如用来制造彩色显示器。处理包括用于在多个基板上沉积不同材料的多个沉积模块的真空处理系统可能是困难的。特别地，在用于沉积不同材料的大型真空处理系统中处理基板传输(substratetraffic)与掩模传输(masktraffic)可能是具有挑战的。因此，提供可靠操作用于在多个基板上来沉积材料的真空处理系统的方法是有益的。特别地，简化和加速经构造以用于在基板上进行掩模沉积的真空处理系统中的基板与掩模的传输与交换是有益的。
技术实现思路
鉴于上述，提出操作真空处理系统的多种操作方法与用于在多个基板上沉积不同材料的真空处理系统。根据本公开内容的一个方面，提出一种操作真空处理系统的方法，所述真空处理系统具有主要传输路径，基板可沿着所述主要传输路径传输。方法包括：从主要传输路径输送出基板至第一沉积模块中以在基板上沉积第一材料；从主要传输路径输送出基板至第二沉积模块以在此基板上沉积第二材料；与从主要传输路径输送出基板至一个或多个沉积模块以在基板上沉积一种或多种材料。根据本公开内容的一个方面，提出一种操作真空处理系统的方法，所述真空处理系统具有旋转模块。方法包括，在时间段期间，在第一方向上将第一轨道上的承载基板或掩模装置的第一载体移动至旋转模块中；与在此时间段期间，在与第一方向相反的第二方向上将第二轨道上的第二载体移动进入此旋转模块和移动离开此旋转模块。根据本公开内容的一个方面，提出一种操作真空处理系统的方法，所述真空处理系统具有旋转模块。方法包括；在时间段期间，在第一方向上将第一轨道上的承载第一基板的第一载体移动离开旋转模块；与在此时间段期间，在第一方向上将第一轨道上的承载第二基板的第二载体移动至旋转模块中。根据本公开内容的一个方面，提出一种操作真空处理系统的方法，所述真空处理系统具有旋转模块。方法包括：将第一轨道上的承载第一基板或第一掩模装置的第一载体移动至旋转模块中，同时承载第二基板的第二载体被布置在旋转模块中的第二轨道上，和/或同时承载第二掩模装置的第三载体被布置在旋转模块中的第三轨道上。根据本公开内容的一个方面，提出一种操作真空处理系统的方法，所述真空处理系统具有旋转模块。方法包括移动第一轨道上的承载基板的第一载体至旋转模块中，移动邻近第一轨道的第二轨道上的承载掩模装置的第二载体至旋转模块中；与同时旋转在旋转模块的中的第一载体与第二载体。根据本公开内容的一方面，提出一种真空处理系统的操作方法，所述真空处理系统具有旋转模块与沉积区域。方法包括：在第一时间段期间，从沉积区域移动经涂布的基板与已使用的掩模装置至旋转模块中，接着在第二时间段期间，旋转在旋转模块中的经涂布的基板与已使用的掩模装置；和/或在第三时间段期间，从主要传输路径移动待涂布的基板与待使用的掩模装置至旋转模块中，接着在第四时间段期间，旋转在旋转模块中的待涂布的基板与待使用的掩模装置。根据本公开内容的一个方面，提出一种真空处理系统。真空处理系统包括沿着主要传输路径设置的一个或多个传输模块和第一旋转模块；载体传输系统，经构造以用于沿着主要传输路径来传输载体；用于沉积第一材料的第一沉积模块，从第一沉积模块邻近第一旋转模块而布置在主要传输路径的第一侧上；与用于沉积第二材料的第二沉积模块，次第二沉积模块邻近第一旋转模块而布置在主要传输路径的与第一沉积模块相对的第二侧上。根据本公开内容的一个方面，提出一种真空处理系统。真空处理系统包括沿着主要传输路径设置的一个或多个传输模块与第一旋转模块；载体传输系统，经构造以用于沿着主要传输路径传输载体；用于沉积第一材料的第一沉积模块，第一沉积模块邻近第一旋转模块而被布置在主要传输路径的第一侧上；用于沉积第一材料的第二线路(second-line)第一沉积模块，第二线路第一沉积模块邻近第一旋转模块而布置在主要传输路径的与第一侧相对的第二侧上；用于沉积第二材料的第二沉积模块，第二沉积模块邻近第一旋转模块而布置在主要传输路径的第二侧上；与用于沉积第二材料的第二线路第二沉积模块，第二线路第二沉积模块邻近第一旋转模块而布置在主要传输路径的第一侧上。根据本公开内容的一个方面，提出一种真空处理系统。真空处理系统包括沿着主要传输路径设置的一个或多个传输模块、第一旋转模块与第二旋转模块；载体传输系统，经构造以用于沿着主要传输路径传输载体；用于沉积第一材料的第一沉积模块，第一沉积模块邻近第一旋转模块而布置在主要传输路径的第一侧上；用于沉积第二材料的第二沉积模块，次第二沉积模块邻近第二旋转模块而布置在主要传输路径的第一侧上；用于沉积第一材料的第二线路第一沉积模块，第二线路第一沉积模块邻近第一旋转模块而布置在主要传输路径的与第一沉积模块相对的第二侧上；与用于沉积第二材料的第二线路第二沉积模块，第二线路第二沉积模块邻近第二旋转模块而布置在主要传输路径的与第二沉积模块相对的第二侧上。可选择地，可沿着主要传输路径来布置另外的旋转模块，并且另外的沉积模块可布置在另外的旋转模块附近并位于主要传输路径的第一侧上和/或第二侧上，邻近相应的旋转模块。另外的沉积模块可用于在基板上沉积另外的材料，例如第三材料、第四材料和/或另外的材料。材料堆叠(诸如包括十种或更多种不同的材料)可在根据本文所述的一些实施方式的真空处理系统中被沉积在基板上。本公开内容的进一步方面、优点与特征从说明书和附图中是显而易见的。附图说明以可详细地理解本公开内容的上述特征的方式，可参照实施方式来获本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种操作真空处理系统(100、200、300)的操作方法，所述真空处理系统具有主要传输路径(50)，基板可沿着所述主要传输路径(50)在主要传输方向(Z)上传输，所述方法包括：(1a)从所述主要传输路径(50)输送出基板(10)至第一沉积模块(D1)中以在所述基板(10)上沉积第一材料；(1b)从所述主要传输路径(50)输送出所述基板(10)至第二沉积模块(D2)中以在所述基板(10)上沉积第二材料；和(1c)从所述主要传输路径(50)输送出所述基板(10)至一个或多个沉积模块中以在所述基板(10)上沉积一种或多种材料。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种操作真空处理系统(100、200、300)的操作方法，所述真空处理系统具有主要传输路径(50)，基板可沿着所述主要传输路径(50)在主要传输方向(Z)上传输，所述方法包括：(1a)从所述主要传输路径(50)输送出基板(10)至第一沉积模块(D1)中以在所述基板(10)上沉积第一材料；(1b)从所述主要传输路径(50)输送出所述基板(10)至第二沉积模块(D2)中以在所述基板(10)上沉积第二材料；和(1c)从所述主要传输路径(50)输送出所述基板(10)至一个或多个沉积模块中以在所述基板(10)上沉积一种或多种材料。2.如权利要求1所述的方法，其中在预定的时间间隔之后，后续基板重复地开始序列(1a)-(1b)-(1c)，特别是在对应于所述真空处理系统的节拍间隔的恒定时间间隔之后，更特别是在约60秒的恒定节拍间隔之后。3.如权利要求2所述的方法，其中在奇数节拍间隔时开始的序列的阶段(1a)中，基板被输送至所述第一沉积模块(D1)中的第一沉积区域中以在所述基板(10)上沉积所述第一材料，以及其中在偶数节拍间隔时开始的序列的阶段(1a)中，基板被输送至所述第一沉积模块(D1)中的第二沉积区域中以在所述基板(10)上沉积所述第一材料。4.如权利要求1所述的方法，包括：(2a)在阶段(1a)之后的一个节拍间隔，从所述主要传输路径(50)输送出后续基板至第二线路第一沉积模块(D1’)中以在所述后续基板上沉积所述第一材料；和(2b)在阶段(1b)之后的一个节拍间隔，从所述主要传输路径(50)输送出所述后续基板至第二线路第二沉积模块(D2’)中以在所述后续基板上沉积所述第二材料。5.如权利要求4所述的方法，其中在预定的时间间隔之后，所述后续基板交替地开始序列(1a)-(1b)与序列(2a)-(2b)，特别是在对应于所述真空处理系统的节拍间隔的恒定的时间间隔之后，更特别是在约60秒的恒定节拍间隔时。6.如权利要求1至5任一项所述的方法，其中在阶段(1a)中，所述基板(10)从第一旋转模块(R1)移动至所述第一沉积模块(D1)中，并且其中在沉积所述第一材料之后，所述基板(10)移动回所述第一旋转模块(R1)中；和/或其中所述阶段(1b)中，所述基板(10)从所述第一旋转模块(R1)或从第二旋转模块(R2)移动至所述第二沉积模块(D2)中，并且其中在沉积所述第二材料之后，所述基板(10)移动回所述第一旋转模块(R1)中或所述第二旋转模块(R2)中。7.如权利要求6所述的方法，其中在阶段(1a)中，在所述基板(10)被移动出所述第一旋转模块(R1)的时间段期间，第三基板(12)从第二沉积模块(D2)移动至所述第一旋转模块(R1)中。8.如权利要求6或7所述的方法，其中在阶段(1a)中，在所述基板(10)从所述第一旋转模块(R1)的第一轨道(X1)移动出所述第一旋转模块(R1)的时间段期间，第二基板(11)被布置于所述第一旋转模块(R1)的第二轨道(X2)上。9.如权利要求1至8任一项所述的方法，包括：(1a-1)沿着所述主要传输路径(50)移动所述基板(10)至第一旋转模块(R1)的第一轨道(X1)上，(1a-2)以第一角度来旋转所述第一旋转模块(R1)；(1a-3)从所述第一沉积模块(D1)移动第二基板(11)至所述第一旋转模块(R1)的第二轨道(X2)上；(1a-4)以第二角度来旋转所述第一旋转模块(R1)，特别是以180°进行旋转；和在阶段(1a)中，从所述第一旋转模块(R1)的所述第一轨道(X1)移动所述基板(10)至所述第一沉积模块(D1)中。10.如权利要求9所述的方法，其中在阶段(1a)中，第三基板(12)从所述第二沉积模块(D2)移动至所述第一旋转模块(R1)的所述第一轨道(X1)上，同时或随后从所述第一轨道(X1)移动所述基板(10)至所述第一沉积模块(D1)中。11.如权利要求9或10所述的方法，进一步包括：(1a-5)以第三角度来旋转所述第一旋转模块(R1)，特别是以180°进行旋转；(1a-6)从所述第一旋转模块(R1)的所述第二轨道(X2)移动所述第二基板(11)至所述第二沉积模块(D2)中；(1a-7)以第四角度来旋转所述第一旋转模块(R1)；和(1a-8)沿着所述主要传输路径(50)移动所述第三基板(12)离开所述第一旋转模块(R1)。12.如权利要求9至11任一项所述的方法，其中所述第一角度与所述第四角度是以下角度中的一个：约+90°、约-90°、约+60°、约-60°、约+120°或约-120°。13.如权利要求1至12任一项所述的方法，其中所述主要传输路径(50)包括彼此平行布置的第一基板载体轨道(31)与第二基板载体轨道(32)，特别是其中当基板被载体保持时，基板沿着所述第一基板载体轨道(31)在所述主要传输方向(Z)上移动，和/或空的载体沿着所述第二基板载体轨道(32)在相反方向上返回。14.如权利要求1至13任一项所述的方法，其中所述真空处理系统(100)包括：沿着所述主要传输路径(50)设置的一个或多个传输模块(T1、T2)与第一旋转模块(R1)，其中所述第一沉积模块(D1)邻近所述第一旋转模...

【专利技术属性】
技术研发人员：塞巴斯蒂安·巩特尔·臧，安德烈亚斯·索尔，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US