彩膜基板及其制作方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供了一种彩膜基板及其制作方法和显示装置。彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵、色阻层和公共电极层。黑矩阵设置于衬底基板的表面，并在衬底基板上限定出多个第一透光区域、多个第二透光区域和多个第三透光区域。色阻层包括第一色阻、第二色阻和第三色阻，第一色阻、第二色阻和第三色阻分别设置于第一透光区域、第二透光区域和第三透光区域，第一色阻覆盖相邻的两个第一透光区域之间的黑矩阵，第二色阻覆盖相邻的两个第二透光区域之间的黑矩阵，相邻的两个第三透光区域中的第三色阻通过黑矩阵间隔开。其中，第三色阻的透光率小于第一色阻的透光率以及第二色阻的透光率。

Color film substrate and its fabrication method and display device

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及其制作方法和显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法和显示装置。
技术介绍
目前LCD(LiquidCrystalDisplay,液晶显示)器是最广泛使用的显示器之一，LCD包括设置有场发生电极如像素电极和公共电极的一对基板以及设置在两个基板之间的液晶层，当施加电压到场发生电极从而在液晶层中产生电场，液晶分子在电场作用下进行偏转，由此可以控制光的透过情况使LCD显示图像。液晶显示装置中设置有R(Red,红色)像素单元、G(Green,绿色)像素单元和B(Blue,蓝色)像素单元。同一驱动电压下，B像素单元的透光率低于R像素单元和G像素单元的透光率，致使R和G混色亮度较大，显示画面偏黄。
技术实现思路
基于此，有必要针对画面偏黄的色偏问题，提供一种彩膜基板及其制作方法和显示装置。本专利技术提供了一种彩膜基板，包括：衬底基板；黑矩阵，设置于所述衬底基板的表面，并在所述衬底基板上限定出多个第一透光区域、多个第二透光区域和多个第三透光区域；色阻层，包括第一色阻、第二色阻和第三色阻，所述第一色阻、所述第二色阻和所述第三色阻分别设置于所述第一透光区域、所述第二透光区域和所述第三透光区域，所述第一色阻覆盖相邻的两个第一透光区域之间的黑矩阵，所述第二色阻覆盖相邻的两个第二透光区域之间的黑矩阵，相邻的两个第三透光区域中的第三色阻通过所述黑矩阵间隔开；其中，所述第三色阻的透光率小于所述第一色阻的透光率以及所述第二色阻的透光率；以及公共电极层，设置在所述色阻层背向所述黑矩阵的一侧。在其中一个实施例中，所述彩膜基板还包括保护层，所述黑矩阵、所述色阻层、所述公共电极层和所述保护层设置在所述衬底基板的同一侧，所述保护层设置于所述公共电极层面向阵列基板的一侧。在其中一个实施例中，所述彩膜基板还包括隔垫物，所述隔垫物设置于所述保护层面向所述阵列基板的一侧。在其中一个实施例中，所述隔垫物包括主隔垫物和副隔垫物，其中所述主隔垫物的高度大于所述副隔垫物的高度。在其中一个实施例中，所述第一色阻为红色色阻，所述第二色阻为绿色色阻，所述第三色阻为蓝色色阻。基于同一专利技术构思，本专利技术实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵，所述黑矩阵在所述衬底基板上限定出多个第一透光区域、多个第二透光区域和多个第三透光区域；在形成所述黑矩阵的衬底基板上形成色阻层，所述色阻层包括第一色阻、第二色阻和第三色阻，所述第一色阻、所述第二色阻和所述第三色阻分别设置于所述第一透光区域、所述第二透光区域和所述第三透光区域，所述第一色阻覆盖相邻的两个第一透光区域之间的黑矩阵，所述第二色阻覆盖相邻的两个第二透光区域之间的黑矩阵，相邻的两个第三透光区域中的第三色阻通过所述黑矩阵间隔开，其中，所述第三色阻的透光率小于所述第一色阻的透光率以及所述第二色阻的透光率；在形成所述色阻层的衬底基板上形成公共电极层。在其中一个实施例中，所述在形成所述黑矩阵的衬底基板上形成所述色阻层，包括：在形成所述黑矩阵的衬底基板上涂布第一色阻材料、第二色阻材料和第三色阻材料；通过曝光显影工艺，刻蚀掉相邻的两个第三透光区域之间的第三色阻。在其中一个实施例中，所述彩膜基板的制作方法还包括：在形成所公共电极层的衬底基板上形成保护层，所述黑矩阵、所述色阻层、所述公共电极层和所述保护层设置在所述衬底基板的同一侧，所述保护层设置于所述公共电极层面向阵列基板的一侧。在其中一个实施例中，所述彩膜基板的制作方法还包括：在形成所保护层的衬底基板上形成隔垫物，所述隔垫物设置于所述保护层面向所述阵列基板的一侧。基于同一专利技术构思，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括相对设置的彩膜基板和阵列基板，以及设置在所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层，其中，所述彩膜基板为上述任一实施例所述的彩膜基板。综上，本专利技术实施例提供了一种彩膜基板及其制作方法和显示装置。所述彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵、色阻层和公共电极层。所述黑矩阵设置于所述衬底基板的表面，并在所述衬底基板上限定出多个第一透光区域、多个第二透光区域和多个第三透光区域。所述色阻层包括第一色阻、第二色阻和第三色阻，所述第一色阻、所述第二色阻和所述第三色阻分别设置于所述第一透光区域、所述第二透光区域和所述第三透光区域，所述第一色阻覆盖相邻的两个第一透光区域之间的黑矩阵，所述第二色阻覆盖相邻的两个第二透光区域之间的黑矩阵，相邻的两个第三透光区域中的第三色阻通过所述黑矩阵间隔开。其中，所述第三色阻的透光率小于所述第一色阻的透光率以及所述第二色阻的透光率。所述公共电极层设置在所述色阻层背向所述黑矩阵的一侧。本专利技术中，由于所述第一色阻覆盖相邻的两个第一透光区域之间的黑矩阵，所述第二色阻覆盖相邻的两个第二透光区域之间的黑矩阵，而相邻的两个第三透光区域中的第三色阻通过所述黑矩阵间隔开，即第三色阻不覆盖相邻的两个第三透光区域之间的黑矩阵，所述相邻的两个第三透光区域之间的公共电极层与阵列基板中的栅线之间的距离增大，也就是说，栅线与彩膜基板侧的公共电极层之间的寄生电容变小，对彩膜基板和阵列基板之间的电场的影响减弱，使得所述彩膜基板侧的公共电极层与阵列基板侧的电极形成的电容的充电率增大，加速了与第三透光区域对应的区域内的液晶分子的偏转，进而提高第三透光区域的透光率，减少各透光区域之间的透光率的差异，从而达到改善画面偏黄的色偏问题的目的，提高了显示质量。附图说明图1为本专利技术实施例提供的一种彩膜基板的俯视图；图2为本专利技术实施例提供的一种彩膜基板的剖面结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的两个相邻的第一透光区之间的公共电极层、第三透光区之间的公共电极层与阵列基板的栅线之间的距离示意图；图4为本专利技术实施例提供的另一种彩膜基板的俯视图；图5为本专利技术实施例提供的一种彩膜基板的制作方法流程示意图；图6为本专利技术实施例提供的另一种彩膜基板的制作方法流程示意图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施的限制。本专利技术提供了一种彩膜基板，请参见图1、图2、图3和图4，所述彩膜基板包括衬底基板100、黑矩阵200、色阻层300和公共电极层400。所述黑矩阵200设置于所述衬底基板100的表面，并在所述衬底基板100上限定出多个第一透光区域、多个第二透光区域和多个第三透光区域。可以理解，将形成黑矩阵200的材料涂布与衬底基板100上，通过构图工艺限定出间隔设置的透光区和非透光区，其中非透光区即所述黑矩阵200区域，用于防止像素间的光串扰。所述色阻层300包括第一色阻310、第二色阻320和第三色阻330，所述第一色阻310、所述第二色阻320和所述第三色阻330分别设置于所述第一透光区域、所述第二透光区域和所述第三透光区域，所述第一色阻310覆盖相邻的两个第一透光区域之间的黑矩阵200，所述第二色阻320覆盖相邻的两个第二透光区域之间的黑矩阵200，相邻的两个第三透光区域中的第三色阻330通过所述黑矩阵本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板；黑矩阵，设置于所述衬底基板的表面，并在所述衬底基板上限定出多个第一透光区域、多个第二透光区域和多个第三透光区域；色阻层，包括第一色阻、第二色阻和第三色阻，所述第一色阻、所述第二色阻和所述第三色阻分别设置于所述第一透光区域、所述第二透光区域和所述第三透光区域，所述第一色阻覆盖相邻的两个第一透光区域之间的黑矩阵，所述第二色阻覆盖相邻的两个第二透光区域之间的黑矩阵，相邻的两个第三透光区域中的第三色阻通过所述黑矩阵间隔开，其中，所述第三色阻的透光率小于所述第一色阻的透光率以及所述第二色阻的透光率；以及公共电极层，设置在所述色阻层背向所述黑矩阵的一侧。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板；黑矩阵，设置于所述衬底基板的表面，并在所述衬底基板上限定出多个第一透光区域、多个第二透光区域和多个第三透光区域；色阻层，包括第一色阻、第二色阻和第三色阻，所述第一色阻、所述第二色阻和所述第三色阻分别设置于所述第一透光区域、所述第二透光区域和所述第三透光区域，所述第一色阻覆盖相邻的两个第一透光区域之间的黑矩阵，所述第二色阻覆盖相邻的两个第二透光区域之间的黑矩阵，相邻的两个第三透光区域中的第三色阻通过所述黑矩阵间隔开，其中，所述第三色阻的透光率小于所述第一色阻的透光率以及所述第二色阻的透光率；以及公共电极层，设置在所述色阻层背向所述黑矩阵的一侧。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括保护层，所述黑矩阵、所述色阻层、所述公共电极层和所述保护层设置在所述衬底基板的同一侧，所述保护层设置于所述公共电极层面向阵列基板的一侧。3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括隔垫物，所述隔垫物设置于所述保护层面向所述阵列基板的一侧。4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔垫物包括主隔垫物和副隔垫物，其中所述主隔垫物的高度大于所述副隔垫物的高度。5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一色阻为红色色阻，所述第二色阻为绿色色阻，所述第三色阻为蓝色色阻。6.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成黑矩阵，所述黑矩阵在所述衬底基板上限定...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨艳娜，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，重庆惠科金渝光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44