用于测量衬底上的结构的方法和设备技术

光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。随着使用数目增加的具体材料沉积到衬底上的层的数目增加，变得越来越难以准确地检测对准标记，这部分地是由于在一个或更多个层中使用的一种或更多种材料对于用于检测对准标记的辐射是完全或部分不透明的。在第一步骤中，用激发辐射照射衬底。在第二步骤中，以适当的方式测量与由埋入的结构散射的反射材料效应相关联的至少一种效应。在一个示例中，该效应可以包括衬底表面的物理移位。在第三步骤中，基于所测量的效应导出所述结构的至少一个特性。

A method and apparatus for measuring the structure on a substrate

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于测量衬底上的结构的方法和设备相关申请的交叉引用本申请要求于2017年1月25日递交的欧洲申请17153017.3和于2017年11月20日递交的欧洲申请17202511.6的优先权，它们的全部内容通过引用并入本专利技术中。
本专利技术涉及用于测量衬底上的结构的方法和设备，尤其是用于测量位于沉积在衬底表面上的至少一个层下方的结构的方法和设备。
技术介绍
光刻设备为将所期望的图案施加至衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在那种情况下，图案形成装置(其替代地被称作掩模或掩模版)可以用以产生待形成于IC的单层上的电路图案。可以将该图案转印至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的部分、一个管芯或几个管芯)上。通常经由成像至提供于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行图案的转印。一般而言，单个衬底将包括依次图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，其中一次性将整个图案曝光至目标部分上来辐照每一目标部分；和所谓的扫描器，其中在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案同时平行或反向平行于所述方向同步地扫描衬底本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于测量衬底上的结构的方法，所述结构位于沉积在所述衬底上的至少一个层下方，所述方法包括：在激发时间用激发辐射照射衬底的激发区域，其中激发辐射引起材料效应以与衬底相互作用，并且其中激发辐射在衬底的表面上形成空间图案；测量与由所述结构散射的散射材料效应相关联的至少一种效应；以及基于所测量的至少一种效应导出所述结构的至少一个特性。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.01.25 EP 17153017.3;2017.11.20 EP 17202511.61.一种用于测量衬底上的结构的方法，所述结构位于沉积在所述衬底上的至少一个层下方，所述方法包括：在激发时间用激发辐射照射衬底的激发区域，其中激发辐射引起材料效应以与衬底相互作用，并且其中激发辐射在衬底的表面上形成空间图案；测量与由所述结构散射的散射材料效应相关联的至少一种效应；以及基于所测量的至少一种效应导出所述结构的至少一个特性。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述测量步骤包括：用测量辐射照射所述衬底；和接收由所述衬底散射的散射测量辐射，其中所述散射测量辐射表示所述至少一种效应。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中接收散射测量辐射包括使用检测器，其中所述检测器是下述中的一个：干涉仪；暗场检测器；差分检测器；无透镜检测系统；单像素检测器；相位对比度检测器；或CCD检测器。4.根据权利要求1、2或3所述的方法，其中所述激发辐射包括至少第一激发束，并且其中用激发辐射照射所述衬底的步骤包括：使用辐射形成元件，以便使所述至少第一激发束在所述衬底的表面上形成所述空间图案。5.根据任一前述权利要求所述的方法，其中所述衬底的表面上的至少一种效应包括以下中的至少一种：所述衬底的表面的物理移位；或所述衬底的表面的至少一个光学属性的变化，或所述衬底的表面的至少一个物理量的变化。6.根据权利要求5所述的方法，其中所述至少一种效应形成为所述衬底的表面上的空间周期性图案。7.根据权利要求5或6所述的方法，其中所述至少一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·M·维特，A·安东琴赛奇，S·爱德华，P·C·M·普兰肯，K·S·E·艾克玛，塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩，S·R·胡伊斯曼，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL