曝光装置、曝光方法和制造物品的方法制造方法及图纸

公开了曝光装置、曝光方法和制造物品的方法。提供了曝光基板的曝光装置。曝光装置包括：台，被配置成保持并且移动基板；和控制器，被配置成基于为了针对基板上的投射区域的台的聚焦驱动而取得的测量值和校正值来控制台的聚焦驱动。控制器被配置成根据曝光时的视角来确定校正值。

Exposure device, exposure method and method of making articles

【技术实现步骤摘要】
曝光装置、曝光方法和制造物品的方法
本专利技术涉及曝光装置、曝光方法和制造物品的方法。
技术介绍
作为在半导体器件等的制造处理(光刻处理)中使用的装置，存在将掩模图案转移到基板的曝光装置。在这种曝光装置中，基板的表面需要准确地布置在投影光学系统的像面(焦平面)上使得掩模图案将以高精度与基板上的投射区域(shotregion)重叠。日本专利特许公开No.2015-130407对于通过扫描基板执行曝光处理的扫描曝光装置提出了校正基板表面的未对准的方法，未对准是由于控制系统的制造误差、测量设备的测量误差、控制系统的控制误差等造成的。日本专利特许公开No.2004-111995对于采用步进重复(step-and-repeat)方法的曝光装置提出了校正基板表面在与投影光学系统的光轴平行的方向(Z方向)上的未对准的方法，未对准是由于在与光轴垂直的方向(X-Y方向)上驱动基板台而造成的。日本专利特许公开No.2000-208391对于采用步进重复方法的曝光装置提出了在到达曝光区域之前准确地执行聚焦测量的方法。一般而言，在曝光装置中，通过反馈控制执行在焦平面上布置基板表面的聚焦操作以增大精度。另一方面，提高聚焦操作的速度是提高吞吐量的重要需求。为了提高吞吐量，能够考虑使用诸如增大基板台移动的加速度、通过放松基板台的稳定容差而提前执行聚焦测量等之类的方法。但是，在这种情况下，由于将在相对于目标位置存在基板台的偏差的状态下执行聚焦测量，因此测量误差会增大。因此，需要更有效的校正。
技术实现思路
本专利技术例如提供有利于提高聚焦精度的曝光装置。本专利技术的第一方面提供一种曝光基板的曝光装置，包括：台，被配置成保持并且移动基板；和控制器，被配置成基于为了针对基板上的投射区域的台的聚焦驱动而取得的测量值和校正值来控制台的聚焦驱动，其中，控制器被配置成根据曝光时的视角(angleofview)来确定校正值。本专利技术的第二方面提供一种通过使用被配置成保持并且移动基板的台来曝光基板的曝光方法，该方法包括：执行取得用于针对基板上的投射区域的台的聚焦驱动的测量值的聚焦测量；在对台的指令值上反映出作为偏移量的对通过焦点测量而取得的测量值的校正值之后执行聚焦驱动；和在完成聚焦驱动之后对投射区域进行曝光，其中，校正值是根据曝光时的视角而确定的。本专利技术的第三方面提供一种制造物品的方法，包括：通过使用在第一方面中定义的曝光装置来对基板进行曝光；以及对在所述曝光中曝光的基板进行显影，其中，物品是由显影的基板制造的。根据对示例性实施例的以下描述(参考附图)，本专利技术的其它特征将变得清楚。附图说明图1是示出根据实施例的曝光装置的布置的视图；图2是示出布置在目标曝光区域上的测量点的示例的视图；图3是根据实施例的聚焦校正公式计算处理的流程图；图4是用于确定曝光视角的处理的流程图；图5是示出从不同视角取得的投射布局的示例的视图；图6是示出校正公式计算处理的流程图；图7是示出曝光处理的流程图；图8是示出曝光处理中的校正公式计算处理的流程图；图9是示出每个视角的校正公式结果的显示示例的视图；以及图10是用于说明实施例的效果的曲线图。具体实施方式以下将参考附图详细描述本专利技术的各种示例性实施例、特征和方面。以下将参考附图详细描述本专利技术的实施例。要注意的是，以下实施例仅仅是本专利技术实施例的具体示例，并且不限制本专利技术。此外，并非以下实施例中描述的典型特征的所有组合对于解决本专利技术的问题都是必不可少的。图1是示出根据实施例的采用步进重复方法的缩小投影曝光装置的布置的视图。投影光学系统1缩小并投影中间掩模(reticle)(未示出)的电路图案并在焦平面上形成电路图案图像。此外，投影光学系统1的光轴AX与图1中的Z轴方向成平行关系。其上涂有光致抗蚀剂并且通过先前的曝光处理形成了相同图案的多个曝光目标区域(投射区域)布置在基板2上。保持基板2的基板台3包括在垂直于Z轴的X轴方向上移动的X台、在垂直于Z轴和X轴的Y轴方向上移动的Y台、以及在Z轴方向上移动并围绕平行于X、Y和Z轴方向的转轴旋转的Z台。因此，通过驱动基板台3，可以在投影光学系统1的光轴AX的方向上以及在沿着垂直于光轴AX的平面的方向上调节基板2的表面位置，并且相对于焦平面(即电路图案图像)的倾斜也可以被调节。标号4至11表示为了检测基板2的位置和倾斜而设置的检测光学系统的元件。标号4表示具有高亮度的照明光源(诸如发光二极管、半导体激光器等)，标号5表示照明透镜。从照明光源4发射的光被照明透镜5转换成平行光束，经由掩模6被转换成多个光束，经由成像透镜7进入弯曲反射镜8，并在其方向被弯曲反射镜8改变之后进入基板2的表面。即，成像透镜7和弯曲反射镜8在基板2上形成掩模6的多个针孔图像。如图2中所示，通过这多个针孔的光束照射包括基板2的目标曝光区域100的中心(与光轴AX对应的位置)在内的五个测量点71、72、73、74和75，并且光束在各个点处被反射。在图2所示的示例中，测量点71位于与光轴AX相交的目标曝光区域100的中心处，并且其它测量点72、73、74和75以距离作为中心的测量点71的相等间隔被定位。由目标曝光区域100中的五个测量点71、72、73、74和75反射的每个光束的方向被弯曲反射镜9改变，并且光束随后经由检测透镜10进入位置灵敏检测器11，元件被二维地布置在位置灵敏检测器11上。以这种方式，成像透镜7、弯曲反射镜8、基板2、弯曲反射镜9和检测透镜10在位置灵敏检测器11上形成掩模6的针孔图像。因此，掩模6、基板2和位置灵敏检测器11位于彼此光学共轭的位置处。虽然在图1中示意性示出了位置灵敏检测器11，但是在难以实现诸如图1所示的光学布置之类的光学布置的情况下，多个位置灵敏检测器11可以与针孔对应地布置。例如，位置灵敏检测器11由二维CCD等形成，并且能够分别检测经由多个针孔入射在位置灵敏检测器11的光接收表面上的多个光束的位置。沿光轴AX的基板2相对于投影光学系统1的位置改变可以被检测为多个光束在位置灵敏检测器11上的入射位置的移位。从基板2的目标曝光区域100中的五个测量点71至75取得的基板2的表面的光轴AX方向位置信息被作为输出信号经由表面位置检测设备14从位置灵敏检测器11输入到控制设备13。基板台3在X轴方向和Y轴方向上的位移可以通过使用布置在基板台3上的基准反射镜15和激光干涉仪17由已知的方法来测量。指示出基板台3的位移量的信号被经由信号线从激光干涉仪17输入到控制设备13。台驱动设备12控制基板台3的移动。台驱动设备12经由信号线接收来自控制设备13的指令信号，并响应于这个信号而通过伺服驱动来驱动基板台3。台驱动设备12包括第一驱动单元和第二驱动单元。第一驱动单元调节在垂直于基板2的光轴AX的面中的位置x和y以及旋转θ，并且第二驱动单元调节与基板2的光轴AX方向(Z方向)相关的位置z、倾斜α和倾斜β。表面位置检测设备14基于来自位置灵敏检测器11的每个输出信号(表面位置数据)来检测基板2的表面位置，并将检测结果传送到控制设备13。基于由表面位置检测设备14取得的检测结果，控制设备13发送预定的指令信号以使台驱动设备12的第二驱动单元操作，并调节与基板2的光轴AX方向相关的位置和倾斜。存储设备18可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光基板的曝光装置，包括：台，被配置成保持并且移动基板；和控制器，被配置成基于为了针对基板上的投射区域的台的聚焦驱动而取得的测量值和校正值来控制台的聚焦驱动，其中，控制器被配置成根据曝光时的视角来确定校正值。

【技术特征摘要】
2018.02.28 JP 2018-0354181.一种曝光基板的曝光装置，包括：台，被配置成保持并且移动基板；和控制器，被配置成基于为了针对基板上的投射区域的台的聚焦驱动而取得的测量值和校正值来控制台的聚焦驱动，其中，控制器被配置成根据曝光时的视角来确定校正值。2.根据权利要求1所述的装置，其中，控制器被配置成基于与多个视角对应的多个校正公式来确定曝光时的视角的校正公式，并且通过使用所确定的校正公式来确定校正值。3.根据权利要求2所述的装置，其中，校正公式是表示与基板上的投射区域的位置对应的校正值的公式。4.根据权利要求2所述的装置，其中，所述多个校正公式是与除所述多个视角之外的台的步进方向对应的校正公式。5.根据权利要求2所述的装置，其中，控制器被配置成通过对所述多个视角当中的在曝光时的视角前后的两个视角的校正公式的参数进行插值来确定曝光时的视角的校正公式。6.根据权利要求5所述的装置，其中，在曝光时的视角小于所述多个视角中的最小视角的情况下，控制器将最小视角的校正公式确定为曝光时的视角的校正公式，并且在曝光时的视角大于所述多个视角中的最大视角的情况下，控制器将最大视角的校正公式确定为曝光时的视角的校正公式。7.一种通过使用被配置成保...

【专利技术属性】
技术研发人员：西村光英，远藤正俊，本岛顺一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP