【技术实现步骤摘要】
中红外铒离子掺杂全氟化物玻璃
:本专利技术涉及玻璃材料
,具体涉及一种中红外铒离子掺杂全氟化物玻璃。
技术介绍
:根据国防安全等方面的需求,3~5μm中红外波段的光纤激光器受到高度关注,成为光电对抗核心。目前,中红外光纤激光器的增益介质分为三大类:重金属氧化物玻璃、硫化物玻璃和重金属氟化物玻璃。其中,重金属氧化物玻璃化学稳定性好、非线性折射率高,但是其声子能量大,在中红外波段无法透过,所以不适用于中红外光纤激光器的增益介质。硫化物玻璃红外透过区域广、光学间隙宽、自由电子跃迁造成的能量吸收少,损耗低,但其在高温下易熔化,损伤阈值比较小。而重金属氟化物玻璃红外透过范围宽,稀土离子溶解率高,声子能量低(大约为400cm-1),可降低激活离子的无辐射跃迁。其在理论上具有极低的损耗(10-3dB/km)。远优于氧化物光纤和硫系光纤,成为红外激光器的核心基础材料。氟化物玻璃光纤最有望成为中红外光纤激光器的核心基础材料,而氟化物玻璃无疑是氟化物玻璃光纤的核心。目前,氟化物玻璃光纤的实际损耗为0.05dB/m,远高于理论损耗(10-3dB/km),这是由于氟化物玻璃仍存在许多不足的地方:氟化物玻璃稳定性差,易出现不均匀区和析晶的现象,从而增加了玻璃的散射损耗。另外氟化物玻璃较低的熔化温度使其很难与石英传输光纤有效熔接,这使得氟化物玻璃光纤在实用性能方面远低于预期。因此,制备高稳定性的中红外氟化物玻璃势在必行。
技术实现思路
:为了解决上述问题,本专利技术旨在提供一种中红外铒离子掺杂全氟化物玻璃,从而提高氟化物玻璃稳定性。为了达到上述目的,本专利技术的氟化物玻璃的组分如下 ...
【技术保护点】
1.一种中红外铒离子掺杂全氟化物玻璃,其特征在于它组分的摩尔百分比为:27ZrF4‑25HfF4‑(20‑z)BaF2‑0.75SrF2‑0.25CaF2‑4LaF3‑3AlF3‑(20‑x‑y)NaF‑xLiF‑yKF‑zErF3(mol%),其中2≤x≤7;3.5≤y≤6.7;0.5≤z≤6。
【技术特征摘要】
1.一种中红外铒离子掺杂全氟化物玻璃,其特征在于它组分的摩尔百分比为:27ZrF4-25HfF4-(20-z)BaF2-0.75SrF2-0.25CaF2-4LaF3-3AlF3-(20-x-y)NaF-xLiF-yKF-zErF3(mol%),其中2≤x≤7;3.5≤y≤6.7;0.5≤z≤6。2.根据权利要求1所述的中红外铒离子掺杂全氟化物玻璃,其特征在于,热稳定性ΔT≥88℃,ΔT=Tx–Tg,其中Tx是起始析晶温度,Tg是玻璃化...
【专利技术属性】
技术研发人员:姜益光,袁成凤,张龙,张龙飞,王在洋,李家成,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:上海,31
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