【技术实现步骤摘要】
外观膜片及制备方法、壳体和电子设备
本专利技术涉及材料领域，具体地，涉及外观膜片及制备方法、壳体和电子设备。
技术介绍
目前电子设备的壳体，可采用透明材料，例如玻璃等材料为基体，再在基体上设置外观膜片实现不同外观效果。目前常用的外观膜片通常是在具有一定机械性能、可自支撑的膜片基材上，形成一层或是多层具有不同外观效果的层叠结构。例如，目前常用的外观膜片中通常具有包括丝印层、油墨层、镀膜层等结构，以实现具有一定颜色、金属光泽以及纹理的外观效果。然而，目前的外观膜片及制备方法、壳体和电子设备仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上缓解甚至解决相关技术中的技术问题之一。在本专利技术的一个方面，本专利技术提出了一种用于电子设备的外观膜片。该外观膜片包括：基材；胶板印刷层，所述胶板印刷层位于所述基材一侧的表面上，所述胶板印刷层包括至少两个颜色不完全相同的颜色亚层，每个所述颜色亚层包括由同种颜色的墨点构成的多个阵列排布的胶印网格；外观层，所述外观层位于所述胶板印刷层远离所述基材的一侧，或位于所述基材远离所述胶版印刷层的一侧；底油层，所述底油层位于所述外观层远离所述...
【技术保护点】
1.一种用于电子设备的外观膜片，其特征在于，包括：基材；胶板印刷层，所述胶板印刷层位于所述基材一侧的表面上，所述胶板印刷层包括至少两个颜色不完全相同的颜色亚层，每个所述颜色亚层包括由同种颜色的墨点构成的多个阵列排布的胶印网格；外观层，所述外观层位于所述胶板印刷层远离所述基材的一侧，或位于所述基材远离所述胶版印刷层的一侧；底油层，所述底油层位于所述外观层远离所述胶板印刷层的一侧。
【技术特征摘要】
1.一种用于电子设备的外观膜片，其特征在于，包括：基材；胶板印刷层，所述胶板印刷层位于所述基材一侧的表面上，所述胶板印刷层包括至少两个颜色不完全相同的颜色亚层，每个所述颜色亚层包括由同种颜色的墨点构成的多个阵列排布的胶印网格；外观层，所述外观层位于所述胶板印刷层远离所述基材的一侧，或位于所述基材远离所述胶版印刷层的一侧；底油层，所述底油层位于所述外观层远离所述胶板印刷层的一侧。2.根据权利要求1所述的外观膜片，其特征在于，形成所述基材的材料包括PET以及PC的至少之一。3.根据权利要求1所述的外观膜片，其特征在于，所述胶板印刷层包括至少4层颜色亚层，任选地，相邻的两个所述颜色亚层的所述胶印网格的排列方向错开15～60度；任选地，所述胶印网格为菱形、矩形、圆形或者椭圆形；任选地，所述胶版印刷层的厚度为8-15微米。4.根据权利要求1所述的外观膜片，其特征在于，每个所述颜色亚层具有2400-4800DPI的分辨率；任选地，所述颜色亚层具有300-450LPI的分辨率；任选地，所述胶印网格的尺寸为8-15微米。5.根据权利要求1所述的外观膜片，其特征在于，所述外观层包括以下结构的至少之一：纹理亚层，所述纹理亚层位于所述外观层中靠近所述胶板印刷层的一侧；以及电镀亚层，所述电镀亚层位于所述纹理亚层远离所述胶板印刷层的一侧。6.根据权利要求5所述的外观膜片，其特征在于，所述电镀亚层为单层或多层结构，所述单层或多层结构是由金属或金属氧化物形成的，所述金属或所述金属氧化物包括选自以下的至少之一：In/Sn、TiO2、NbO2、Nb2O3、Nb2O2、Nb2O5、SiO2、ZrO2，所述电镀亚层的厚度为5-300nm；任选地，所述电镀亚层包括In/Sn层，所述In/Sn层中Sn元素的含量为10％～20％，所述In/Sn层的厚度为10～20nm；任选地，所述电镀亚层包括ZrO2层以及TiO2层，所述ZrO2层的厚度为5nm，所述TiO2层的厚度为30～60nm。7.根据权利要求1所述的外观膜片，其特征在于，所述基材是由PC形成的，所述基材以及所述胶版印刷层之间进一步包括底涂层。8.一种制备用于电子设备的外观膜片的方法，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：侯体波，杨光明，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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