一种折射率传感器及其制备方法技术

本发明专利技术涉及光学技术领域，具体为一种折射率传感器及其制备方法，所述方法包括：在预先提供的基底层上沉积第一金属材料，形成金属反射镜面，在所述金属反射镜面上制备电介质层，再在所述电介质层上涂抹有机材料，对其进行冷却、干燥处理后，再对所述有机材料进行电子束刻蚀处理，得到手性结构并在其表面沉积第二金属材料，使用浸泡液浸泡沉积了所述第二金属材料的所述手性结构，移除所述手性结构上的有机材料和多余的所述第二金属材料，得到手性超材料，基于所述手性超材料，制备得到折射率传感器。通过该方法，可以便捷地制备出精度高、结构简单且能够规避环境中噪声光源影响的折射率传感器。

A refractive index sensor and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种折射率传感器及其制备方法
本专利技术涉及光学
，具体而言，涉及一种手性超材料传感器及其制备方法。
技术介绍
随着纳米光子学的兴起，光学仪器的设计使用波段也不仅仅局限于可见光的部分，而且不断向非可见光扩展。同时，在光通讯中具有重要意义的两个波1310nm、1550nm，也位于非可见光中的近红外波段之中。因此，对于光通讯而言，测量非可见光的光学参数具有十分重要的意义，折射率作为重要的光学参数，对折射率进行测量也尤为重要。在等离子体激元学领域，亚波长尺寸纳米金属结构在与入射电磁波相互作用的过程中会产生一种名为局域表面等离激元谐振(LSPR)的效应，这种效应强烈的受纳米颗粒的尺寸、形状以及周围环境的影响，这为设计折射率传感器开辟了一条新的道路。这种传感器可以检测出目标分子的微小浓度变化，也可以实现近红波段的折射率传感。然而，在实际应用中，环境中不可避免的存在一些近红外光，其将对折射率的测量产生干扰，使得近红外折射率传感器失真，测试精度低，并且一些复杂的超材料结构也增加了材料加工的难度以及成本。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种折射率传感器及其制备方法，该折射率传感器检本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种折射率传感器制备方法，其特征在于，包括：在预先提供的基底层上沉积第一金属材料，形成金属反射镜面；在所述金属反射镜面上制备电介质层；在所述电介质层上涂抹有机材料，对所述有机材料进行冷却、干燥处理；对干燥后的所述有机材料进行电子束刻蚀处理，得到手性结构；在所述手性结构的表面沉积第二金属材料；使用浸泡液浸泡沉积了所述第二金属材料的所述手性结构，移除所述手性结构上的有机材料和多余的所述第二金属材料，得到手性超材料；基于所述手性超材料，制备得到折射率传感器。

【技术特征摘要】
1.一种折射率传感器制备方法，其特征在于，包括：在预先提供的基底层上沉积第一金属材料，形成金属反射镜面；在所述金属反射镜面上制备电介质层；在所述电介质层上涂抹有机材料，对所述有机材料进行冷却、干燥处理；对干燥后的所述有机材料进行电子束刻蚀处理，得到手性结构；在所述手性结构的表面沉积第二金属材料；使用浸泡液浸泡沉积了所述第二金属材料的所述手性结构，移除所述手性结构上的有机材料和多余的所述第二金属材料，得到手性超材料；基于所述手性超材料，制备得到折射率传感器。2.根据权利要求1所述的折射率传感器制备方法，其特征在于，在预先提供的基底层上沉积第一金属材料，形成金属反射镜面具体为：在所述基底层上沉积钛，形成粘附层；在所述粘附层上沉积第一金属材料。3.根据权利要求1所述的折射率传感器制备方法，其特征在于，在所述金属反射镜面上制备电介质层具体为：使用物理气相沉积方法，在所述金属反射镜面上制备二氧化硅电介质层。4.根据权利要求1所述的折射率传感器制备方法，其特征在于，在所述电介质层上涂抹有机材料，对所述有机材料进行冷却、干燥处理具体为：在所述电介质层上涂抹聚甲基丙烯酸甲酯材料；在所述聚甲基丙烯酸甲酯材料上刻蚀出直角梯形形状结构；冷却、干燥所述直角梯形形状...

【专利技术属性】
技术研发人员：王志明，朱奕松，余鹏，童鑫，林峰，巫江，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：四川,51