能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体及方法技术方案

一种能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体及方法，由主壳体向低压侧依次设置有与主壳体同心的第一分解壳体～第M分解壳体，主壳体和第一分解壳体～第M分解壳体中每相邻的两个分解壳体之间均形成一个缓冲液腔体，即从高压侧向低压侧依次形成有第一缓冲液腔体～第M缓冲液腔体，第一缓冲液腔体～第M缓冲液腔体各通过一个保压管路连接位于主壳体外部的能够使主壳体在压力大时排出第一缓冲液腔体～第M缓冲液腔体内的液体，在压力小时补充第一缓冲液腔体～第M缓冲液腔体内的液体的压力缓冲装置。本发明专利技术每个分层壳体实际承受的分载荷就是总载荷的1/M，确保了抵抗高外压或高内压壳体材质的低蠕变系统安全稳定地运行。

Shell and method with low creep system that can resist high external pressure or high internal pressure

【技术实现步骤摘要】
能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体及方法
本专利技术涉及一种高压壳体。特别是涉及一种能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体及方法。
技术介绍
无论是在生活中还是在工业中，都存在有用壳体装载高压载体或低压载体，无论是高压载体或低压载体，都可能使壳体承受着极大的压力。如图1和图2所示，C是高压端，D是低压端，1是壳体。无论高压端位于壳体1的内部还是外部，当C端与D端的压力差足够大的时候，只有壳体1承受整个压力差，无论多么优秀的材料都有自己的屈服极限，壳体1的蠕变量随着压力差的逐步提高而提高，一旦压力差接近其屈服极限所述的壳体1就会瞬间发生剧烈变形而失效。在生产活动中这种失效往往造成毁灭性的灾难。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是，提供一种随着压力差的变化具有自动调整壳体所承受的压力的能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体及方法。本专利技术所采用的技术方案是：一种能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体，包括有位于高压侧的主壳体，由所述主壳体向低压侧依次设置有与所述主壳体同心的第一分解壳体～第M分解壳体，所述主壳体和第一分解壳体～第M分解壳体中每相邻的两个本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体，包括有位于高压侧的主壳体(1)，其特征在于，由所述主壳体(1)向低压侧依次设置有与所述主壳体(1)同心的第一分解壳体～第M分解壳体(11、12、13、....1M‑1、1M)，所述主壳体(1)和第一分解壳体～第M分解壳体(11、12、13、....1M‑1、1M)中每相邻的两个分解壳体之间均形成一个缓冲液腔体，即从高压侧向低压侧依次形成有第一缓冲液腔体～第M缓冲液腔体(21、22、23、....2M‑1、2M)，所述第一缓冲液腔体～第M缓冲液腔体(21、22、23、....2M‑1、2M)各通过一个保压管路(2)连接位于所述主壳体(1)外部...

【技术特征摘要】
1.一种能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体，包括有位于高压侧的主壳体(1)，其特征在于，由所述主壳体(1)向低压侧依次设置有与所述主壳体(1)同心的第一分解壳体～第M分解壳体(11、12、13、....1M-1、1M)，所述主壳体(1)和第一分解壳体～第M分解壳体(11、12、13、....1M-1、1M)中每相邻的两个分解壳体之间均形成一个缓冲液腔体，即从高压侧向低压侧依次形成有第一缓冲液腔体～第M缓冲液腔体(21、22、23、....2M-1、2M)，所述第一缓冲液腔体～第M缓冲液腔体(21、22、23、....2M-1、2M)各通过一个保压管路(2)连接位于所述主壳体(1)外部的能够使主壳体(1)在压力大时排出第一缓冲液腔体～第M缓冲液腔体(21、22、23、....2M-1、2M)内的液体，在压力小时补充第一缓冲液腔体～第M缓冲液腔体(21、22、23、....2M-1、2M)内的液体的压力缓冲装置。2.根据权利要求1所述的能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体，其特征在于，所述的压力缓冲装置包括有：压力缓冲主体(3)，所述压力缓冲主体(3)内由下至上依次形成有与所述的第一缓冲液腔体～第M缓冲液腔体(21、22、23、....2M-1、2M)分别通过保压管路(2)对应相连通的第一活塞腔～第M活塞腔(41、42、43、....4M-1、4M)，分别对应设置在所述第一活塞腔～第M活塞腔(41、42、43、....4M-1、4M)内并能够在高压力源的作用下沿所在的第一活塞腔～第M活塞腔(41、42、43、....4M-1、4M)的轴向移动的第一活塞～第M活塞(31、32、33、....3M-1、3M)，以及一端对应连接在位于所述第一活塞腔～第M活塞腔(41、42、43、....4M-1、4M)内的第一活塞～第M活塞(31、32、33、....3M-1、3M)、另一端位于所述压力缓冲主体(3)外侧的高压力源内的第一活塞杆～第M活塞杆(51、52、53、....5M-1、5M)。3.根据权利要求2所述的能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体，其特征在于，所述的第一活塞～第M活塞(31、32、33、....3M-1、3M)在所述第一活塞腔～第M活塞腔(41、42、43、....4M-1、4M)处与所述的压力缓冲主体(3)之间分别设置有第一密封圈(4)。4.根据权利要求2所述的能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体，其特征在于，所述的第一活塞杆～第M活塞杆(51、52、53、....5M-1、5M)与所述的压力缓冲主体(3)之间分别设置有第二密封圈(5)。5.根据权利要求2所述的能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体，其特征在于，所述的压力缓冲主体(3)为圆柱体或矩形结构，所述第一活塞腔～第M活塞腔(41、42、43、....4M-1、4M)之间、所述第一活塞～第M活塞(31、32、33、....3M-1、3M)之间以及所述第一活塞杆～第M活塞杆(51、52、53、....5M-1、5M)之间均为并排设置。6.根据权利要求5所述的能够抵抗高外压或高内压的具有低蠕变系统的壳体，其特征在于，当所述的第一分解壳体～第M分解壳体(11、12、13、....1M-1、1M)位于所述主壳体(1)的内侧时，所述主壳体(1)的外侧为高压力源(C)，所述第M分解壳体(1M)的内侧为低压力源(D)，所述压力缓冲主体(3)外侧的高压力源就是所述主壳体(1)外侧的高压力源(C)，所述第一活塞杆～第M活塞杆(51、52、53、....5M-1、5M)远离第一活塞～第M活塞(31、32、33、....3M-1、3M)的那一端位于压力缓冲主体(3)的外侧；当所述的第一分解壳体～第M分解壳体(11、12、13、....1M-1、1M)位于所述主壳体(1)的外侧时，所述主壳体(1)的内侧为高压力源(C)，所述第M分解壳体(1M)的外侧为低压力源(D)，所述压力缓冲主体(3)位于所述第一活塞杆～第M活塞杆(51、52、53、....5M-1、5M)的一侧形成有内装高压力源的高压腔体(6)，所述第一活塞杆～第M活塞杆(51、52、53...

【专利技术属性】
技术研发人员：邢天宜，邢宇，
申请(专利权)人：天津长瑞大通流体控制系统有限公司，
类型：发明
国别省市：天津,12