本发明专利技术公开一种用于分子束外延设备的烘烤服及其使用方法,分子束外延设备包括本体部和至少一个凸起部,凸起部与本体部连接且突出于本体部的外表面,烘烤服包括适于包裹本体部的主体结构,主体结构包括至少一个孔洞;和与孔洞一一对应的分体结构,分体结构均与主体结构可拆卸地连接,且每个分体结构适于遮挡其对应的孔洞,每个分体结构均设有一个通孔,通孔与凸起部一一对应且尺寸相同,并套设于对应的凸起部。本发明专利技术通过对烘烤服进行分体设置,烘烤服的分体结构根据分子束外延设备的凸起部单独设计,使得分体结构的通孔与凸起部贴合,不仅保障通孔与凸起部之间的接触密封性,还可以降低烘烤服的制备难度,提高烘烤服的制备效率与降低制备成本。
Baking clothes for molecular beam epitaxy equipment and their application
【技术实现步骤摘要】
用于分子束外延设备的烘烤服及其使用方法
本专利技术涉及分子束外延设备
,尤其涉及一种用于分子束外延设备的烘烤服及其使用方法。
技术介绍
分子束外延设备由真空系统、束流源系统、加热系统、传送系统等部分组成。其工作原理是由真空系统提供超高真空环境保证分子束外延过程的正常进行,束流源系统用于提供材料外延所需要的束流,加热系统用于处理衬底以及在外延过程中保持衬底温度,各系统之间依靠传送系统进行连接。其中束流源系统依靠加热高纯的材料,蒸发出所需的束流以达到外延的需求,其所用的高纯材料需要经过外界补充,该过程称之为“开腔换料”。在“开腔换料”的整套工艺过程中,一般需要经过束流源降温、真空系统功能停止、真空环境充气、束流源拆卸、更换源料、束流源安装、真空系统工作,系统检漏、烘烤、束流源除气等步骤。在该过程中对整套设备的烘烤是决定分子束外延设备是否可以恢复高真空条件的一项重要保障。烘烤过程需要对整套分子束外延设备进行包裹。包裹后使用带加热功能的鼓风机,将热风吹入烘烤服内,从外部对分子束外延设备进行加温,将设备内部吸附的气体加热排除,在真空系统的作用下达到超高真空的水平。烘烤关键因素是烤服内的温度,此温度是在鼓风机的加热,烘烤服的保温作用下达到。相关技术中,由于设备本身的特点,存在一些不规则的突出部件,这就使得在烘烤服制备时留下必要的孔洞保证特殊部位能够从烘烤服中穿过,而这种孔洞会在设备的特殊部件和烘烤服之间留下较大的缝隙,特别是随着烘烤服的使用,缝隙会越来越大,造成烘烤服保温能力下降。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种用于分子束外延设备的烘烤服及其使用方法,用以解决现有技术中烘烤服保温性能差的问题。本专利技术实施例提供一种用于分子束外延设备的烘烤服,分子束外延设备包括本体部和至少一个凸起部,凸起部与本体部连接且突出于本体部的外表面,烘烤服包括:适于包裹本体部的主体结构,主体结构包括至少一个孔洞;和与孔洞一一对应的分体结构,分体结构均与主体结构可拆卸地连接,且每个分体结构适于遮挡其对应的孔洞,每个分体结构均设有一个通孔,通孔与凸起部一一对应且尺寸相同,并套设于对应的凸起部。根据本专利技术的一些实施例,通孔的内周壁与其对应的凸起部的外周壁密封配合。根据本专利技术的一些实施例,通孔的内周壁与其对应的凸起部的外周壁贴合。根据本专利技术的一些实施例,烘烤服还包括:多个拼接片,组合后与通孔的外周形状相适应,每个拼接片的一端均与通孔的壁面连接,拼接片适于与凸起部的外周壁接触。进一步地,多个拼接片适于遮挡通孔。根据本专利技术的一些实施例,分体结构包括分割段,分割段的一端延伸至通孔,分割段的另一端延伸至分体结构的边缘,通孔适于从分割段套设于凸起部。根据本专利技术的一些实施例,分体结构与主体结构通过魔术贴连接。根据本专利技术的一些实施例,孔洞呈正多边形、圆形或椭圆形;分体结构的形状与孔洞的形状相同。本专利技术实施例还提供一种用于分子束外延设备的烘烤服的使用方法,烘烤服为如上述的烘烤服;使用方法包括:将主体结构套设于本体部,凸起部穿设于主体结构的孔洞;将分体结构外套于凸起部,将分体结构与主体结构连接。采用本专利技术实施例,通过对烘烤服进行分体设置,烘烤服的分体结构根据分子束外延设备的凸起部单独设计,使得分体结构的通孔与凸起部贴合,不仅可以保障通孔与凸起部之间的接触密封性,以提高烘烤服整体的密封性、保证烘烤工艺的温度达到所需要求,还可以降低烘烤服的制备难度,提高烘烤服的制备效率与降低制备成本。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述,为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举本专利技术的具体实施方式。附图说明通过阅读下文优选实施方式的详细描述,各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的,而并不认为是对本专利技术的限制。而且在整个附图中,用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中:图1是本专利技术实施例中分子束外延设备的结构示意图;图2是本专利技术实施例中烘烤服的主体结构的局部结构示意图;图3是本专利技术实施例中烘烤服的分体结构的结构示意图;图4是本专利技术实施例中烘烤服的分体结构的结构示意图。附图标记:分子束外延设备1,本体部10,凸起部11,烘烤服2,主体结构20,孔洞200,分体结构21,通孔210,拼接片211,分割段213,魔术贴3。具体实施方式下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例,然而应当理解,可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反,提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开,并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。一方面,本专利技术实施例提供一种用于分子束外延设备1的烘烤服2。分子束外延设备由真空系统、束流源系统、加热系统、传送系统等部分组成。其工作原理是由真空系统提供超高真空环境保证分子束外延过程的正常进行,束流源系统用于提供材料外延所需要的束流,加热系统用于处理衬底以及在外延过程中保持衬底温度,各系统之间依靠传送系统进行连接。其中束流源系统依靠加热高纯的材料,蒸发出所需的束流以达到外延的需求,其所用的高纯材料需要经过外界补充,该过程称之为“开腔换料”。在“开腔换料”的整套工艺过程中,一般需要经过束流源降温、真空系统功能停止、真空环境充气、束流源拆卸、更换源料、束流源安装、真空系统工作,系统检漏、烘烤、束流源除气等步骤。在该过程中对整套设备的烘烤是决定分子束外延设备是否可以恢复高真空条件的一项重要保障。烘烤服是用来包裹分子束外延设备的装备,以保障分子束外延设备在烘烤过程中的正常工作。烘烤服包裹分子束外延设备后使用带加热功能的鼓风机,将热风吹入烘烤服内,从外部对分子束外延设备进行加温,将分子束外延设备内部吸附的气体加热排除,在真空系统的作用下达到超高真空的水平。烘烤的关键因素是烘烤服内的温度,此温度是在鼓风机的加热条件及烘烤服的保温作用下达到。为了起到保温的作用,烘烤服通常由包含石棉的复合材料制备而成,并且烘烤服的外观尺寸需要依据设备的外形进行定制。一般分为侧面,顶面,腰部和底部等几个部分,然后通过魔术贴,粘合在一起组成一套立体保护服,这种制备方法便于烘烤服的拆卸保存。但由于分子束外延设备存在一些不规则的凸起部,这就使得在烘烤服制备时留下必要的孔洞保证凸起部能够从烘烤服中穿过,而考虑到烘烤服的制备难度及制备成本问题,孔洞无法严格贴合凸起部的尺寸,这样就会在凸起部和烘烤服之间留下较大的缝隙,特别是随着烘烤服的使用,缝隙会越来越大,造成烘烤服保温性能下降,达不到所需的烘烤温度。本专利技术实施例提供的用于分子束外延设备1的烘烤服2是针对具有凸起部11的分子束外延设备1设计的。具体而言,图1是本专利技术实施例中分子束外延设备的结构示意图,如图1所示,分子束外延设备1包括本体部10和至少一个凸起部11,凸起部11与本体部10连接且突出于本体部10的外表面。图2是本专利技术实施例中烘烤服的主体结构的局部结构示意图,图3是本专利技术实施例中烘烤服的分体结构的结构示意图,如图2及图3所示,烘烤服2包括:主体结构20和分体结构21。主体结构20适于包裹本体部10,主体结构20包括至少一个孔洞200。孔洞本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于分子束外延设备的烘烤服,其特征在于,所述分子束外延设备包括本体部和至少一个凸起部,所述凸起部与所述本体部连接且突出于所述本体部的外表面,所述烘烤服包括:适于包裹所述本体部的主体结构,所述主体结构包括至少一个孔洞;和与所述孔洞一一对应的分体结构,所述分体结构均与所述主体结构可拆卸地连接,且每个所述分体结构适于遮挡其对应的所述孔洞,每个分体结构均设有一个通孔,所述通孔与所述凸起部一一对应且尺寸相同,并套设于对应的凸起部。
【技术特征摘要】
1.一种用于分子束外延设备的烘烤服,其特征在于,所述分子束外延设备包括本体部和至少一个凸起部,所述凸起部与所述本体部连接且突出于所述本体部的外表面,所述烘烤服包括:适于包裹所述本体部的主体结构,所述主体结构包括至少一个孔洞;和与所述孔洞一一对应的分体结构,所述分体结构均与所述主体结构可拆卸地连接,且每个所述分体结构适于遮挡其对应的所述孔洞,每个分体结构均设有一个通孔,所述通孔与所述凸起部一一对应且尺寸相同,并套设于对应的凸起部。2.如权利要求1所述的烘烤服,其特征在于,所述通孔的内周壁与其对应的所述凸起部的外周壁密封配合。3.如权利要求1所述的烘烤服,其特征在于,所述通孔的内周壁与其对应的所述凸起部的外周壁贴合。4.如权利要求1所述的烘烤服,其特征在于,还包括:多个拼接片,组合后与所述通孔的外周形状相适应,每个所述拼接片的一端均与所述通孔的壁面连接,...
【专利技术属性】
技术研发人员:王丛,高达,
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第十一研究所,
类型:发明
国别省市:北京,11
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