基板保持部件、基板处理装置、基板处理装置的控制方法、保存有程序的存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板保持部件、基板处理装置、基板处理装置的控制方法、保存有程序的存储介质，在基板处理装置中尽早发现基板及/或基板保持部件的异常。该基板保持部件具有：第1保持部件；在与上述第1保持部件之间保持基板的第2保持部件；和设在上述第1保持部件及上述第2保持部件中的至少一方的透明部。

Control method and stored program storage medium of base plate holding component, base plate processing device, base plate processing device

【技术实现步骤摘要】
基板保持部件、基板处理装置、基板处理装置的控制方法、保存有程序的存储介质
本专利技术涉及基板保持部件、基板处理装置、基板处理装置的控制方法、保存有用于使计算机执行基板处理装置的控制方法的程序的存储介质。
技术介绍
在镀覆装置中，具有对安装于基板保持件的基板进行镀覆处理的镀覆装置(例如专利文献1)。在当前使用的单面镀覆用的基板保持件中，在使基板的表面从基板保持件的开口部露出、且将基板的背面收纳于基板保持件内部的被密封的空间的状态下，对基板的表面实施镀覆处理。在这样的单面镀覆用的基板保持件中，具有因密封部的不良、劣化而引起处理液(药液)漏泄到基板保持件内部的情况。另外，具有在搬入镀覆装置前在基板的背面存在裂痕或裂纹的情况、在镀覆装置中在基板的背面产生裂痕或裂纹的情况。但是，在现有的镀覆装置中，由于没有检测基板背面的裂痕、裂纹和处理液向基板保持件内部的漏泄是在什么时刻产生的手段，所以具有以下那样的问题。首先，基板裂纹和处理液漏泄的原因调查非常花费时间，原因的确定及解决伴随着困难。另外，若放任基板裂痕或裂纹则碎片会进入镀覆槽内，而有可能对镀覆液循环系统的泵等各设备和镀覆工艺品质造成不良影响。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板保持部件，其特征在于，具有：第1保持部件；在与所述第1保持部件之间保持基板的第2保持部件；和设在所述第1保持部件及所述第2保持部件中的至少一方的透明部。

【技术特征摘要】
2018.02.13 JP 2018-0233021.一种基板保持部件，其特征在于，具有：第1保持部件；在与所述第1保持部件之间保持基板的第2保持部件；和设在所述第1保持部件及所述第2保持部件中的至少一方的透明部。2.如权利要求1所述的基板保持部件，其特征在于，所述透明部构成为能够经由该透明部对所述第1保持部件及/或所述第2保持部件的内部进行观察。3.如权利要求1所述的基板保持部件，其特征在于，所述第2保持部件具有使所述基板的第1面露出的开口部，所述透明部至少在与所述基板的所述第1面的相反侧的第2面相对应的部分中，设于所述第1保持部件。4.如权利要求1所述的基板保持部件，其特征在于，所述第2保持部件具有：将所述基板与所述第2保持部件之间密封的第1密封部；和将所述第1保持部件与所述第2保持部件之间密封的第2密封部，所述透明部以能够对被所述第1密封部件和所述第2密封部件密封的空间内进行观察的方式设于所述第1保持部件及/或所述第2保持部件。5.如权利要求4所述的基板保持部件，其特征在于，所述透明部在所述基板保持部件被以纵向支承时，与在被密封的所述空间中成为最下部的位置相对应地设置。6.如权利要求4所述的基板保持部件，其特征在于，所述透明部在所述第1保持部件及/或所述第2保持部件中，设在与用于向所述基板供给电流的电接点相对应的位置。7.一种基板处理装置，其特征在于，具有权利要求1至6中任一项所述的基板保持部件。8.一种基板处理装置，其特征在于，具有：在至少一部分上具有透明部的、用于保持基板的基板保持部件；和经由所述基板保持部件的所述透明部对所述基板保持部件的内侧进行拍摄的摄像装置。9.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，还具有用于使所述基板相对于所述基板保持部件装拆的基板装拆部，所述摄像装置配置于所述基板装拆部。10.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，还具有搬送所述基板保持部件的搬送装置，所述摄像装置以对保持于所述搬送装置的所述基板保持部件的内部进行拍摄的方式配置。11.如权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，所述摄像装置被安装在所述搬送装置上。12.如权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，所述摄像装置被安装在相对于所述搬送装置独立的移动机构上。13.如权利要求8所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：小泉龙也，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP