【技术实现步骤摘要】
还原釜、控制方法、装置及还原浸出反应系统
本专利技术涉及采矿
,尤其涉及一种还原釜、还原浸出反应系统及其控制方法、装置、计算机可读存储介质及电子设备。
技术介绍
金属冶炼过程中,矿浆经过浸出还原反应后去往后续工序处理。还原浸出反应包括两个工艺流程阶段,每个阶段在相应的还原反应釜中进行反应。每一阶段进行还原反应的还原反应釜都有相应设定的釜内温度和釜内压力。现有技术下每个还原反应釜对应固定的还原阶段,按照设定的反应阶段的工作压力和工作温度运行。当现场工况发生变化,需要调整还原反应釜的反应阶段时,现有技术不能满足切换还原反应釜的反应状态的要求,从而影响还原反应的效果。如何切换还原反应釜的反应状态是目前亟待解决的技术问题。需要说明的是,在上述
技术介绍
部分专利技术的信息仅用于加强对本专利技术的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种还原釜、控制方法、装置、还原浸出反应系统、计算机可读存储介质及电子设备,至少在一定程度上克服无法切换还原反应釜的反应状态的问题。本专利技术的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然,或部分地通过本专利技术的实践而习得。根据本专利技术实施例的第一方面,提供一种还原釜,所述还原釜的排气管道包括第一分支和第二分支;其中,所述第一分支上设有第一排气调节阀,用于若所述还原釜处于第一段还原反应阶段,使所述还原釜的排气管道与第一段反应釜的排气管道连通;所述第二分支上设有第二排气调节阀,用于若所述还原釜处于第二段还原反应阶段,使所述还原釜的排气管道与第二段反应釜的排气管道连通 ...
【技术保护点】
1.一种还原釜,其特征在于,所述还原釜的排气管道包括第一分支和第二分支;其中,所述第一分支上设有第一排气调节阀,用于若所述还原釜处于第一段还原反应阶段,使所述还原釜的排气管道与第一段反应釜的排气管道连通;所述第二分支上设有第二排气调节阀,用于若所述还原釜处于第二段还原反应阶段,使所述还原釜的排气管道与第二段反应釜的排气管道连通;所述还原釜还包括温度传感器,用于测量所述还原釜的温度信息;所述还原釜的进蒸汽管道上设有第一温度调节阀,用于若所述还原釜处于所述第一段还原反应阶段,根据所述温度信息控制所述还原釜的釜内温度至第一段还原反应设定温度值;和/或,若所述还原釜处于所述第二段还原反应阶段,根据所述温度信息控制所述还原釜的釜内温度至第二段还原反应设定温度值;所述还原釜的排气管道上还设有压强传感器,用于测量所述还原釜的压强信息,以便于若所述还原釜处于所述第一段还原反应阶段,根据所述压强信息控制所述还原釜的釜内压强至第一段还原反应设定压强值;和/或,若所述还原釜处于所述第二段还原反应阶段,根据所述压强信息控制所述还原釜的釜内压强至第二段还原反应设定压强值。
【技术特征摘要】
1.一种还原釜,其特征在于,所述还原釜的排气管道包括第一分支和第二分支;其中,所述第一分支上设有第一排气调节阀,用于若所述还原釜处于第一段还原反应阶段,使所述还原釜的排气管道与第一段反应釜的排气管道连通;所述第二分支上设有第二排气调节阀,用于若所述还原釜处于第二段还原反应阶段,使所述还原釜的排气管道与第二段反应釜的排气管道连通;所述还原釜还包括温度传感器,用于测量所述还原釜的温度信息;所述还原釜的进蒸汽管道上设有第一温度调节阀,用于若所述还原釜处于所述第一段还原反应阶段,根据所述温度信息控制所述还原釜的釜内温度至第一段还原反应设定温度值;和/或,若所述还原釜处于所述第二段还原反应阶段,根据所述温度信息控制所述还原釜的釜内温度至第二段还原反应设定温度值;所述还原釜的排气管道上还设有压强传感器,用于测量所述还原釜的压强信息,以便于若所述还原釜处于所述第一段还原反应阶段,根据所述压强信息控制所述还原釜的釜内压强至第一段还原反应设定压强值;和/或,若所述还原釜处于所述第二段还原反应阶段,根据所述压强信息控制所述还原釜的釜内压强至第二段还原反应设定压强值。2.根据权利要求1所述的还原釜,其特征在于,所述还原釜还包括:压强调节控制器,用于若所述还原釜处于所述第一段还原反应阶段,接收所述压强信息,并根据所述压强信息和所述第一段还原反应设定压强值获得第一阀位设定值,以便于根据所述第一阀位设定值控制所述第一段反应釜的排气管道上的第一气动调节阀;和/或,若所述还原釜处于所述第二段还原反应阶段,接收所述压强信息,并根据所述压强信息和所述第二段还原反应设定压强值获得第二阀位设定值,以便于根据所述第二阀位设定值控制所述第二段反应釜的排气管道上的第二气动调节阀。3.根据权利要求1所述的还原釜,其特征在于,所述还原釜还包括:温度调节控制器,用于若所述还原釜处于所述第一段还原反应阶段,接收所述温度信息,并根据所述温度信息和所述第一段还原反应设定温度值获得第三阀位设定值,以便于根据所述第三阀位设定值控制所述第一温度调节阀;和/或,若所述还原釜处于所述第二段还原反应阶段,接收所述温度信息,并根据所述温度信息和所述第二段还原反应设定温度值获得第四阀位设定值,以便于根据所述第四阀位设定值控制所述第一温度调节阀。4.一种还原浸出反应系统,其特征在于,包括:至少一个第一段反应釜、至少一个第二段反应釜以及如权利要求1至3任一项所述的还原釜。5.一种还原釜的控制方法,其特征在于,包括:若所述还原釜处于第一段还原反应阶段,则控制所述还原釜的第一排气调节阀,使所述还原釜的排气管道与第一段反应釜的排气管道连通;根据所述还原釜的温度信息控制所述还原釜的进蒸汽管道上的第一温度调节阀以使所述还原釜的釜内温度至第一段还原反应设定温度值;根据所述还原釜的压强信息控制所述还原釜的...
【专利技术属性】
技术研发人员:曾令楚,王雁飞,
申请(专利权)人:中国恩菲工程技术有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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