【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】锆前体、铪前体、钛前体及使用其沉积含第4族的膜相关申请的交叉引用本申请要求于2016年12月30日提交的美国申请号15/396,183的权益，出于所有的目的将所述申请通过引用以其全文结合在此。
披露了形成含第4族过渡金属的膜的组合物，这些组合物包含具有以下化学式的第4族过渡金属前体：L-M-C5R3-1-[(ER2)m-(ER2)n-L′]-2-[(ER2)o-(ER2)p-L′]-和L-M-C5R3-1-[(ER2)m-(ER2)n)-L′]-3-[(ER2)o-(ER2)p-L′]-，其中M为以η5键合模式键合至Cp基团的Ti、Zr或Hf；每个E独立地为C、Si、B或P；m和n独立地为0、1或2；m+n>1；o和p独立地为0、1、或2；o+p>1；每个R独立地为氢或C1-C4烃基；相邻R可接合以形成烃基环；每个L独立地为选自由以下组成的组的-1阴离子配体：NR′2、OR′、Cp、脒基(amidinate)、β-二酮(β-diketonate)或酮亚胺(keto-iminate)，其中R′是H或C1-C4烃基；并且相邻R′可接合以形成烃基环；并且...
【技术保护点】
1.一种形成含第4族过渡金属的膜的组合物，该组合物包含具有下式的第4族过渡金属前体：L‑M‑C5R3‑1‑[(ER2)m‑(ER2)n‑L′]‑2‑[(ER2)o‑(ER2)p‑L′]‑和L‑M‑C5R3‑1‑[(ER2)n‑(ER2)m)‑L′]‑3‑[(ER2)o‑(ER2)p‑L′]‑，分别指的是以下结构式：
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.30 US 15/396,1831.一种形成含第4族过渡金属的膜的组合物，该组合物包含具有下式的第4族过渡金属前体：L-M-C5R3-1-[(ER2)m-(ER2)n-L′]-2-[(ER2)o-(ER2)p-L′]-和L-M-C5R3-1-[(ER2)n-(ER2)m)-L′]-3-[(ER2)o-(ER2)p-L′]-，分别指的是以下结构式：其中M为以η5键合模式键合至Cp基团的Ti、Zr或Hf；每个E独立地为C、Si、B或P；m和n独立地为0、1或2；m+n>1；o和p独立地为0、1、或2；o+p>1；每个R独立地为氢或C1-C4烃基；每个L独立地为-1阴离子配体；并且每个L′独立地为NR″或O，其中R″是H或C1-C4烃基。2.如权利要求1所述的形成含第4族过渡金属的膜的组合物，其中，该-1阴离子配体选自由以下组成的组：NR′2、OR′、Cp、脒基、β-二酮及酮亚胺，其中R′是H或C1-C4烃基。3.如权利要求2所述的形成含第4族过渡金属的膜的组合物，其中，该含第4族过渡金属的前体选自为C的E。4.如权利要求3所述的形成含第4族过渡金属的膜的组合物，其中，M为Zr。5.如权利要求4所述的形成含第4族过渡金属的膜的组合物，其中，该第4族过渡金属前体选自由以下组成的组：(Me2N)-Zr-C5H3-1-(CH2-CH2-NMe)-3-(CH2-CH2-NMe)-、(Me2N)-Zr-C5H2-1-Me-2-(CH2-CH2-NMe)-4-(CH2-CH2-NMe)-、(Cp)-Zr-C5H3-1-(CH2-CH2-NMe)-3-(CH2-CH2-NMe)-、和(Cp)-Zr-C5H2-1-Me-...
【专利技术属性】
技术研发人员：尤利安·伽蒂诺，金大铉，卢源泰，伽蒂诺谕子，让马克·吉拉尔，
申请(专利权)人：乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司，
类型：发明
国别省市：法国,FR
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