从材质剥离后处理溶剂中去除固体的设备及方法技术

本发明专利技术涉及一种利用节省空间的设计从回收溶剂流中去除后MLO(材质剥离)材质的设备及方法，该设备及方法大大减少了设备停机维护并且是以健康友好的方式来实现。

Equipment and method for removing solids from solvents after material stripping

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】从材质剥离后处理溶剂中去除固体的设备及方法相关专利申请的交叉引用本申请基于2017年1月19日提交申请号为62/448,153的美国临时专利申请并要求其优先权，其公开的内容通过引用整体并入此文，如同完全在此阐述。
本专利技术大体上涉及一种用于从液体中去除固体材质的设备及方法。更具体地，本专利技术涉及一种利用节省空间的设计从回收溶剂流中去除后MLO(材质剥离(MaterialLiftOff))材质的设备及方法，该设备及方法大大减少了设备停机维护并且是以健康友好的方式来实现。
技术介绍
材质剥离方法(MLO)通常用于半导体制造以去除不想要的材质。当湿化学物质(例如侵蚀性蚀刻剂)会侵蚀基板本身或侵蚀薄膜叠层中希望保持不变的其他暴露材质时，采用该步骤。执行MLO的顺序是将光刻胶涂覆于基板(电路板或晶片)上，然后通过掩模曝光。然后通过暴露于化学物质来显影光刻胶，其中该化学物质将会去除一部分抗蚀剂。结果是，基板部分地由光刻胶(photoresist)保护并且部分地暴露。然后，基板在整个晶片表面上看到材质沉积(金属、电介质……)。这种添加的薄膜粘附到基板的位置并在其他位置粘附到光刻胶。此时，MLO本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于过滤后处理MLO(材质剥离)溶剂的设备，包括：壳体，其包括内部隔壁，所述内部隔壁将壳体的中空内部分为第一隔室和第二隔室，所述第二隔室与所述第一隔室完全隔离；第一过滤装置，其可拆卸地设置在第一隔室中；第二过滤装置，其可拆卸地设置在第二隔室中并且完全独立于第一过滤装置；第一入口，其与第一隔室流体连通并且定位为使得未过滤的后处理MLO溶剂流入第一过滤装置的内部；和第一出口，其在第一过滤装置外部的位置处与第一隔室流体连通，用于接收过滤的后处理MLO；以及第二入口，其与第二隔室流体连通并且定位为使得未过滤的后处理MLO溶剂流入第二过滤装置的内部；和第二出口，其在第二过滤装置外部的位置处与第二...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.01.19 US 62/448,1531.一种用于过滤后处理MLO(材质剥离)溶剂的设备，包括：壳体，其包括内部隔壁，所述内部隔壁将壳体的中空内部分为第一隔室和第二隔室，所述第二隔室与所述第一隔室完全隔离；第一过滤装置，其可拆卸地设置在第一隔室中；第二过滤装置，其可拆卸地设置在第二隔室中并且完全独立于第一过滤装置；第一入口，其与第一隔室流体连通并且定位为使得未过滤的后处理MLO溶剂流入第一过滤装置的内部；和第一出口，其在第一过滤装置外部的位置处与第一隔室流体连通，用于接收过滤的后处理MLO；以及第二入口，其与第二隔室流体连通并且定位为使得未过滤的后处理MLO溶剂流入第二过滤装置的内部；和第二出口，其在第二过滤装置外部的位置处与第二隔室流体连通，用于接收过滤的后处理MLO溶剂；其中所述设备配置为使得第一过滤装置和第二过滤装置中的一个能够处于在线操作状态，而第一过滤装置和第二过滤装置中的另一个能够处于离线状态。2.根据权利要求1所述的设备，其中所述壳体由前壁和后壁、顶壁和底壁以及第一侧壁和第二侧壁限定，其中内部隔壁在前壁和后壁之间延伸并且与前壁和后壁密封，以及内部隔壁在顶壁和底壁之间延伸并且与顶壁和底壁密封。3.根据权利要求2所述的设备，其中在第一隔室中形成围绕第一过滤装置的第一空间，第一入口和第一出口与第一空间流体连通；以及在第二隔室中形成围绕第二过滤装置的第二空间，第二入口和第二出口与第二空间流体连通。4.根据权利要求3所述的设备，其中通过将未过滤的后处理MLO溶剂引导通过第一过滤装置从其内部流到其外部从而过滤。5.根据权利要求1所述的设备，其中所述壳体包括第一上部壳体和第二上部壳体，所述第一上部壳体在顶壁上方突出，所述第二上部壳体在顶壁上方突出。6.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一出口在所述第一入口下方的位置处形成并且位于第一过滤装置的敞开的顶端的下方。7.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一过滤装置包括外部多孔滤网主体，多孔滤网主体具有中空内部和内部过滤介质，所述内部过滤介质设置在外部多孔滤网主体的中空内部内。8.根据权利要求7所述的设备，其中所述内部过滤介质包括过滤袋，所述过滤袋具有封闭的底端和敞开的顶端。9.根据权利要求8所述的设备，其中所述过滤袋的网眼尺寸不同于外部多孔滤网主体的网眼尺寸。10.根据权利要求8所述的设备，其中所述过滤袋具有比外部多孔滤网主体更小的网眼尺寸。11.根据权利要求8所述的设备，进一步包括用于将第一过滤装置密封在第一隔室中的第一盖总成和用于将第二过滤装置密封在第二隔室中的第二盖总成，其中第一外部多孔滤网主体在其敞开的顶端处具有突缘构件，第一过滤袋嵌套在第一外部多孔滤网主体的突缘构件和与第一盖总成相关的盖突缘构件之间。12.根据权利要求11所述的设备，其中所述第一盖总成包括保持器构件，所述保持器构件包括盖突缘构件，并且第一过滤袋被捕获在第一外部多孔滤网主体的突缘构件和盖突缘构件之间。13.根据权利要求12所述的设备，其中所述保持器构件包括一对直立构件，所述直立构件配置为迫使第一盖总成的盖子适当地就位。14.一种用于过滤后处理MLO溶剂的系统，包括：后处理MLO(材质剥离)溶剂的源；双过滤设备，其流体连接至所述源，所述双过滤设备包括：壳体，包括内部隔壁，所述内部隔壁将壳体的中空内部...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·塔代伊，P·维特，K·努曼，J·安德斯，
申请(专利权)人：维易科精密表面处理有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国,US