【技术实现步骤摘要】
玻璃陶瓷烧结体及线圈电子部件
本专利技术涉及玻璃陶瓷烧结体及使用其的线圈电子部件,所述玻璃陶瓷烧结体具有低介电常数和足够的强度,特别适合作为线圈材料使用,可通过低温下的烧结来制造。
技术介绍
近年来,伴随手机等通信设备的高频化,在它们的发送部及接收部采用大量的与高频率对应的陶瓷线圈。在这些陶瓷线圈之中,特别是用于智能手机的高频电感器中要求小型化、对应高频及高Q值化。电感器的寄生电容大时,有时自谐振频率低频化,在高频区域作为电感器的功能明显下降。另外,为了将低电阻、低损耗的Ag系导体适用于内部电极,有时会要求低温烧结性。因此,作为陶瓷线圈的材料,一般使用介电常数低的玻璃系材料。作为低介电常数的玻璃系材料,一般公知的是介电常数ε为3.8左右的SiO2。但是,SiO2在960℃以下不烧结,因此,在将熔点为960℃左右的Ag系导体设为内部电极的情况下被限制使用。因此,要求可进行低温下的烧结的线圈材料。作为低介电常数,且有望低温烧结的玻璃系材料,探讨了由硼硅酸玻璃(ε:3.8)构成的玻璃系材料的使用。该材料在900℃以下可进行烧结,低温烧结认为是有望的。然而,在将该材料用作 ...
【技术保护点】
1.一种玻璃陶瓷烧结体,其中,所述玻璃陶瓷烧结体具有玻璃相和分散在玻璃相中的陶瓷相,该陶瓷相包含氧化铝颗粒和氧化锆颗粒,所述玻璃相含有MO‑Al2O3‑SiO2‑B2O3系玻璃,M为碱土金属,在所述烧结体的截面,氧化铝颗粒的面积率为13~30%,氧化锆颗粒的面积率为0.05~6%。
【技术特征摘要】
2017.12.27 JP 2017-2522101.一种玻璃陶瓷烧结体,其中,所述玻璃陶瓷烧结体具有玻璃相和分散在玻璃相中的陶瓷相,该陶瓷相包含氧化铝颗粒和氧化锆颗粒,所述玻璃相含有MO-Al2O3-SiO2-B2O3系玻璃,M为碱土金属,在所述烧结体的截面,氧化铝颗粒的面积率为13~30%,氧化锆颗粒的面积率为0.05~6%。2.根据权利要求1所述的玻璃陶瓷烧结体,其中,在所述烧结体的截面中,所述氧化铝颗粒的95%以上以圆当量直径计在0.05~4μm的范围内,所述氧化锆颗粒的95%以上以圆当量直径计在0.05~1μm的范围内。3.根据权利要求1所述的玻璃陶瓷烧结体,其中,所述陶瓷相还含有二氧化硅颗粒,在所述烧结体的截面中,二氧化硅颗粒的面积率为5~35%。4....
【专利技术属性】
技术研发人员:梅本周作,铃木孝志,佐藤英和,高桥圣树,近藤真一,
申请(专利权)人:TDK株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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