线圈组件及其制造方法技术

技术编号:21516026 阅读:76 留言:0更新日期:2019-07-03 09:35
本公开提供一种线圈组件及其制造方法。线圈组件包括主体和线圈部,线圈部嵌在主体中并包括具有多个线圈匝的线圈图案和支撑线圈图案的支撑构件。多个线圈匝的内部线圈匝的高度低于多个线圈匝的连接到内部线圈匝并在内部线圈匝的外侧卷绕的外部线圈匝的高度。制造线圈组件的方法包括:在支撑构件上形成螺旋形状的镀覆种子图案,形成切除螺旋形状的镀覆种子图案的切除部,以及通过在螺旋形状的镀覆种子图案上执行镀覆来形成穿越切除部延伸的线圈图案。

Coil assembly and its manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
线圈组件及其制造方法本申请要求于2017年12月26日在韩国知识产权局提交的第10-2017-0179515号韩国专利申请的优先权权益,所述韩国专利申请的公开内容通过引用被全部包含于此。
本公开涉及一种线圈组件及其制造方法。
技术介绍
为了支持诸如数字电视(TV)、移动电话、膝上型计算机等的电子装置的小型化和薄型化,需要这样的电子装置中使用的线圈组件的小型化和薄型化。为了满足这样的需要,已经开发了各种类型的线圈组件。线圈组件的小型化和薄型化的主要困难在于要有能力在小型化的封装件中保持线圈匝数和线圈图案的截面积,从而提供尽管小型化和薄型化仍具有特性与现有的线圈组件的特性相同的线圈组件。为了满足这样的需求,已经研究了增大线圈图案的高宽比的方法。在该方法中,可通过镀覆工艺形成线圈图案。然而,随着线圈图案的期望的高宽比的增大,越可能出现如下的情况:将产生取决于镀覆生长速度差异的线圈图案之间的高度偏差。因此,需要用于在镀覆工艺中精确地控制线圈图案的高度的技术。
技术实现思路
本公开的一方面可提供制造线圈组件的方法以及具有改善的可靠性和磁特性的线圈组件,该方法能够根据关于线圈图案的特定部分的镀覆生长控制线圈图案的高度。根据本公开的一方面,一种线圈组件可包括主体,所述主体具有嵌在其中的线圈部。所述线圈部包括具有多个线圈匝的线圈图案和支撑所述线圈图案的支撑构件。所述多个线圈匝的内部线圈匝的高度低于所述多个线圈匝的连接到所述内部线圈匝并在所述内部线圈匝的外侧卷绕的外部线圈匝的高度。根据本公开的另一方面,一种线圈组件包括主体,所述主体具有嵌在其中的线圈部,制造所述线圈组件的方法可包括在支撑构件的至少一个表面上形成螺旋形状的镀覆种子图案。形成切除所述螺旋形状的镀覆种子图案的至少一个切除部,并在所述螺旋形状的镀覆种子图案的两侧形成图案壁。使用所述螺旋形状的镀覆种子图案通过镀覆工艺形成在所述图案壁之间延伸的线圈图案。根据本公开的又一方面,一种制造线圈组件的方法可包括:在支撑构件的表面上形成第一镀覆种子图案和第二镀覆种子图案,其中,所述第一镀覆种子图案和所述第二镀覆种子图案通过切除部彼此分开。通过使用所述第一镀覆种子图案和所述第二镀覆种子图案中的仅所述第一镀覆种子图案仅执行第一镀覆工艺而在所述第一镀覆种子图案上形成第一镀覆层。在形成所述第一镀覆层之后,通过使用所述第一镀覆种子图案和所述第二镀覆种子图案执行第二镀覆工艺而在所述第一镀覆种子图案和所述第二镀覆种子图案上形成第二镀覆层。附图说明通过下面结合附图进行的详细描述,本公开的以上和其它方面、特征和优点将被更清楚地理解,在附图中:图1是示出根据示例性实施例的线圈组件的示意性透视图;图2是图1的线圈组件的沿着I-I'线截取的截面图;图3是图1的线圈组件的沿着II-II'线截取的截面图;图4是示出根据示例性实施例的制造线圈组件的方法的流程图;图5是用于描述根据示例性实施例的制造线圈组件的方法的平面图;图6是示出根据示例性实施例的切除部中的镀覆生长的示图;图7是图5的线圈组件的沿着III-III'线截取的截面图;图8是用于描述根据另一示例性实施例的制造线圈组件的方法的示图;图9是图8的线圈组件的沿着IV-IV'线截取的截面图;以及图10A和图10B是示出根据示例性实施例的线圈组件的磁特性的图。具体实施方式在下文中,现在将参照附图来详细描述示例性实施例。图1是示出根据示例性实施例的线圈组件的示意性透视图,图2是图1的线圈组件的沿着I-I'线截取的截面图,图3是图1的线圈组件的沿着II-II'线截取的截面图。参照图1至图3,根据示例性实施例的线圈组件100可包括主体10、线圈部13、第一外部电极21和第二外部电极22。主体10可构成线圈组件的外观,并可具有在厚度方向T上彼此相对的上表面和下表面、在长度方向L上彼此相对的第一端表面和第二端表面以及在宽度方向W上彼此相对的第一侧表面和第二侧表面,从而具有大体六面体的形状,但不限于此。第一外部电极21和第二外部电极22可设置在主体10的外表面上。示出了第一外部电极21和第二外部电极22具有“C”形状的情况,但是第一外部电极21和第二外部电极22可以具有任何形状,只要它们可以电连接到嵌在主体10中的线圈部13即可。另外,第一外部电极21和第二外部电极22可以利用导电材料形成。详细地说,第一外部电极21可以连接到线圈部13的一个端部的第一引线部13a,第二外部电极22可以连接到线圈部13的另一个端部的第二引线部13b。因此,第一外部电极21和第二外部电极22可以将线圈部13的相对端部电连接到外部电组件(例如,板的焊盘)。主体10可包括磁性材料11。例如,主体10可利用铁氧体或金属基软磁材料形成。铁氧体可以包括诸如Mn-Zn基铁氧体、Ni-Zn基铁氧体、Ni-Zn-Cu基铁氧体、Mn-Mg基铁氧体、Ba基铁氧体、Li基铁氧体等的任何已知的铁氧体。另外,金属基软磁材料可以是包括从由Fe、Si、Cr、Al和Ni组成的组中选择的一种或更多种的合金。例如,金属基软磁材料可包括Fe-Si-B-Cr基非晶金属颗粒,但不限于此。金属基软磁材料可具有0.1μm或更大至20μm或更小的粒径,并可以以其分散在诸如环氧树脂、聚酰亚胺等的聚合物中的形式而被包括在所述聚合物中。线圈部13可通过磁性材料11被包封在主体10中。另外,线圈部13可包括一个或更多个线圈图案130和支撑线圈图案130的支撑构件120。如图1和图3中所示,线圈图案130可包括分别设置在支撑构件120的相对表面上的第一线圈图案131和第二线圈图案132。即,第一线圈图案131可以形成在支撑构件120的一个表面上,第二线圈图案132可以形成在支撑构件120的与支撑构件120的所述一个表面相对的另一表面上。支撑构件120可用于支撑线圈图案130,并且可以用于使得内部线圈容易地形成。支撑构件120可利用诸如覆铜层叠板(CCL)基板、诸如ABF(Ajinomotobuild-upfilm)的绝缘膜等的具有绝缘性质并具有薄膜形式的任何材料来形成。根据电子产品的朝向小型化的趋势,支撑构件120的特定厚度可以是薄的,但是优选地足以适当地支撑线圈图案130,因此可以是例如大约60μm。另外,在支撑构件120的中心处可形成通孔H。通孔H可以填充有磁性材料11,使得线圈组件100的整体磁导率可以提高。另外,在与支撑构件120的通孔H分开预定间距的位置处,通路孔190可穿过支撑构件120延伸。由于通路孔190填充有通路部P的导电材料,因此分别设置在支撑构件120的上表面和下表面上的第一线圈图案131和第二线圈图案132可以通过通路部P彼此物理连接且电连接。为便于说明,在下文中将主要描述第一线圈图案131,但是所描述的第一线圈图案131的特征可同样应用于第二线圈图案132。第一线圈图案131可以具有多匝。例如,第一线圈图案131可以以螺旋形状卷绕,并且可以具有根据设计适当地选择的匝数。另外,第一线圈图案131可以包括内部线圈图案CP1和外部线圈图案CP2。内部线圈图案CP1可以是第一线圈图案131的与多个线圈匝的内部线圈匝对应的部分,外部线圈图案CP2可以是第一线圈图案131的与连接到内部线圈图案CP1并在内部线圈图案C本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种线圈组件,所述线圈组件包括:主体;以及线圈部,嵌入在所述主体中,并包括具有多个线圈匝的线圈图案和支撑所述线圈图案的支撑构件,其中,所述多个线圈匝的内部线圈匝的高度低于所述多个线圈匝的连接到所述内部线圈匝并在所述内部线圈匝的外侧卷绕的外部线圈匝的高度。

【技术特征摘要】
2017.12.26 KR 10-2017-01795151.一种线圈组件,所述线圈组件包括:主体;以及线圈部,嵌入在所述主体中,并包括具有多个线圈匝的线圈图案和支撑所述线圈图案的支撑构件,其中,所述多个线圈匝的内部线圈匝的高度低于所述多个线圈匝的连接到所述内部线圈匝并在所述内部线圈匝的外侧卷绕的外部线圈匝的高度。2.根据权利要求1所述的线圈组件,其中,所述线圈部包括多个所述线圈图案,并且多个所述线圈图案设置在所述支撑构件的相对表面上。3.根据权利要求2所述的线圈组件,其中,所述线圈部还包括将设置在所述支撑构件的所述相对表面上的所述线圈图案彼此连接的通路部。4.根据权利要求3所述的线圈组件,其中,所述通路部连接到所述内部线圈匝,并具有与所述内部线圈匝的高度相同的高度或低于所述内部线圈匝的高度的高度。5.根据权利要求1所述的线圈组件,其中,所述线圈图案具有从所述多个线圈匝的最内部线圈匝到最外部线圈匝阶梯式地增大的高度。6.根据权利要求1所述的线圈组件,其中,所述线圈图案使用种子图案通过镀覆生长而形成,并且用于所述内部线圈匝的内部种子图案和用于所述外部线圈匝的外部种子图案彼此不连接。7.一种制造线圈组件的方法,所述线圈组件包括主体,所述主体具有嵌在所述主体中的线圈部,所述方法包括:在支撑构件的至少一个表面上形成螺旋形状的镀覆种子图案;形成切除所述螺旋形状的镀覆种子图案的至少一个切除部;在所述螺旋形状的镀覆种子图案的两侧形成图案壁;以及使用所述螺旋形状的镀覆种子图案通过镀覆工艺形成在所述图案壁之间延伸的线圈图案。8.根据权利要求7所述的方法,其中,形成的所述线圈图案在所述切除部的前方和后方具有不同的高度。9.根据权利要求7所述的方法,其中,在所述镀覆工艺的过程中,设置在所述切除部的一侧的所述镀覆种子图案上的镀覆生长晚于设置在所述切除部的另一侧的所述镀覆种子图案上的镀覆生长开始。10.根据权利要求7所述的方法,其中,随着镀覆生长的执行,用构成所述线圈图案的金属填充所述切除部。11.根据权利要求7所述的方法,其中,形成所述线圈图案之后,通过激光蚀刻去除所述图案壁。12.根据权利要求7所述的方法,其中,所述线圈图案具有多个线圈匝。13.根据权利要求7所述的方法,其中,在所述支撑构件的相对表面上形成线圈图案,并且所述线圈图案通过通路部彼此连接。14.根据权利要求13所述的方法,其中,将所述切除部设置为与所述通路部相邻。15.根据权利要求7所述的方法,其中,在所述螺旋形状的镀覆种子图案中的多个位置处形成多个切除部。16.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔语珍金材勳
申请(专利权)人:三星电机株式会社
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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