集成电路及单元结构制造技术

本发明专利技术公开一种集成电路，包括：基板；以及一个或多个标准单元，形成在所述基板上，其中每个标准单元包括第一鳍片，第二鳍片和第三鳍片，所述第二鳍片位于所述第一鳍片与所述第三鳍片之间，并且所述第一鳍片与所述第二鳍片之间的第一间隔不等于所述第二鳍片与所述第三鳍片之间的第二间隔。本发明专利技术多个鳍片之间存在多个不同的间隔，因此可以通过调整两个鳍片之间的间隔来增加设计灵活性达到增加晶体管效能并防止电性短路。

【技术实现步骤摘要】
集成电路及单元结构
本专利技术涉集成电路
，尤其涉及一种集成电路及单元结构。
技术介绍
传统的集成电路包括至少一个晶体管，并且每个晶体管包括多个鳍片。然而，传统的晶体管内的单元设计的灵活性较低。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种集成电路及单元结构，以增加集成电路及单元结构的设计灵活性并防止电性短路。根据本专利技术的第一方面，公开一种集成电路，包括：基板；以及一个或多个标准单元，形成在所述基板上，其中每个标准单元包括第一鳍片，第二鳍片和第三鳍片，所述第二鳍片位于所述第一鳍片与所述第三鳍片之间，并且所述第一鳍片与所述第二鳍片之间的第一间隔不等于所述第二鳍片与所述第三鳍片之间的第二间隔。根据本专利技术的第二方面，公开一种单元结构，包括：第一鳍片，第二鳍片和第三鳍片，设置在基板上；其中，所述第二鳍片位于所述第一鳍片与所述第三鳍片之间，并且所述第一鳍片与所述第二鳍片之间的第一间隔不等于所述第一鳍片与所述第三鳍片之间的第二间隔。本专利技术提供的集成电路由于所述第一鳍片与所述第二鳍片之间的第一间隔不等于所述第二鳍片与所述第三鳍片之间的第二间隔，多个鳍片之间存在多个不同的间隔，因此可以通本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种集成电路，其特征在于，包括：基板；以及一个或多个标准单元，形成在所述基板上，其中每个标准单元包括第一鳍片，第二鳍片和第三鳍片，所述第二鳍片位于所述第一鳍片与所述第三鳍片之间，并且所述第一鳍片与所述第二鳍片之间的第一间隔不等于所述第二鳍片与所述第三鳍片之间的第二间隔。

【技术特征摘要】
2017.10.20 US 62/574,770;2018.07.30 US 16/048,4181.一种集成电路，其特征在于，包括：基板；以及一个或多个标准单元，形成在所述基板上，其中每个标准单元包括第一鳍片，第二鳍片和第三鳍片，所述第二鳍片位于所述第一鳍片与所述第三鳍片之间，并且所述第一鳍片与所述第二鳍片之间的第一间隔不等于所述第二鳍片与所述第三鳍片之间的第二间隔。2.如权利要求1所述的集成电路，其特征在于，所述每个标准单元包括连接所述第一鳍片，所述第二鳍片和所述第三鳍片的第一栅极线。3.如权利要求1所述的集成电路，其特征在于，所述每个标准单元还包括第四鳍片，第五鳍片和第六鳍片，所述第五鳍片位于所述第四鳍片与所述第六鳍片之间，并且在所述第五鳍片与所述第六鳍片之间的第三间隔不等于所述第四鳍片与所述第五鳍片之间的第四间隔；其中所述每个标准单元包括第一晶体管和第二晶体管，所述第一晶体管包括所述第一鳍片，所述第二鳍片和所述第三鳍片，所述第二晶体管包括所述第四鳍片，所述第五鳍片和所述第六鳍片。4.如权利要求1所述的集成电路，其特征在于，所述每个标准单元还包括所述第四鳍片和所述第五鳍片，所述第四鳍片位于所述第三鳍片与所述第五鳍片之间，并且所述第四鳍片与所述第五鳍片之间的第三间隔不等于所述第三鳍片与所述第四鳍片之间的第四间隔。5.如权利要求4所述的集成电路，其特征在于，所述第一间隔等于所述第三间隔，并且所述第二间隔等于所述第四间隔。6.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅传贤，张正佶，佘绍煌，
申请(专利权)人：联发科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71