显示基板及制造方法和亮度补偿方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示基板及制造方法和亮度补偿方法、显示装置，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的WOLED显示基板无法实现实时亮度补偿的问题。本发明专利技术的显示基板中，第一电极结构中设置有导电层和选择性透反膜，导电层与有机功能层的最靠近第一基底一侧的表面接触，选择性透反膜能够将所对应亚像素的颜色的光进行反射且将除所对应亚像素的颜色以外的颜色的光进行透射；显示基板还包括设置在第一电极结构背向有机功能层一侧的多个光检测器件，每个光检测器件对应一个第一电极结构，光检测器件用于检测从对应第一电极结构透射出的光的亮度。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及制造方法和亮度补偿方法、显示装置
本专利技术属于显示
，具体涉及一种显示基板、一种显示基板的制造方法、一种显示装置、一种显示基板的亮度补偿方法。
技术介绍
现有的WOLED显示基板如需进行亮度补偿，则需要专门的设备(例如CCD)实际去测量所发出的光的亮度，然后与预期亮度相比较对显示数据进行修正。如何实现WOLED显示基板亮度的实时补偿成为本领域技术人员急需解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术至少部分解决现有的OLED显示基板不能实时亮度补偿的问题，提供一种显示基板、一种显示基板的制造方法、一种显示装置、一种显示基板的亮度补偿方法。根据本专利技术第一方面，提供一种显示基板，包括第一基底、设置在第一基底上的多个第一电极结构、设置在第一电极结构背离第一基底一侧的有机功能层，每个第一电极结构对应一个彩色亚像素，有机功能层覆盖对应不同颜色亚像素的多个第一电极结构，第一电极结构中设置有导电层和选择性透反膜，导电层与有机功能层的最靠近第一基底一侧的表面接触，选择性透反膜能够将所对应亚像素的颜色的光进行反射且将除所对应亚像素的颜色以外的颜色的光进行透射；显示基板还包括设置在第一电极结构背向有机功能层一侧的多个光检测器件，每个光检测器件对应一个第一电极结构，光检测器件用于检测从对应第一电极结构透射出的光的亮度。可选地，导电层包括透明的第一导电子层和透明的第二导电子层，选择性透反膜位于第一导电子层和第二导电子层之间，第一导电子层和第二导电子层电连接。可选地，选择性透反膜包括光子晶体。可选地，还包括设置在有机功能层背离第一基底一侧的第二电极结构。可选地，光检测器件设置在第一电极结构与第一基底之间。可选地，光检测器件设置在第一基底背向对应的第一电极结构的一侧。根据本专利技术第二方面，提供一种显示基板的制造方法，包括：在第一基底上形成多个第一电极结构的步骤，其中，每个第一电极结构对应一个彩色亚像素，第一电极结构中设置有导电层和选择性透反膜，选择性透反膜能够将所对应亚像素的颜色的光进行反射且将除所对应亚像素的颜色以外的颜色的光进行透射，导电层在远离第一基底一侧具有裸露表面；在导电层的裸露表面上形成有机功能层的步骤，其中，有机功能层覆盖多个第一电极结构，有机功能层的最靠近第一基底一侧的表面接触导电层；在第一电极结构背向有机功能层一侧形成多个光检测器件的步骤，其中，每个光检测器件对应一个第一电极结构，光检测器件用于检测从对应第一电极结构透射出的光的亮度。根据本专利技术第三方面，提供一种显示装置，包括显示基板，该显示基板为根据本专利技术第一方面的显示基板。可选地，还包括与显示基板相对的彩膜基板，彩膜基板中设置有不同颜色的彩色滤光膜，每个彩色滤光膜对应一个第一电极结构。根据本专利技术第四方面，提供一种显示基板的亮度补偿方法，基于本专利技术第一方面的显示基板，该亮度补偿方法包括：根据显示数据控制亚像素发光；获取各光检测器件检测到的所对应的第一电极结构透射出的光的实际亮度；根据各光检测器件检测到的实际亮度对显示数据进行补偿。附图说明图1为本专利技术的实施例的一种显示基板及其构成的显示装置的结构示意图；图2为本专利技术的实施例的另一种显示基板及其构成的显示装置的组成示意框图；图3为图1和图2中的显示基板的光路图；图4为本专利技术的实施例的驱动电路层的结构示意图；图5问本专利技术的实施例的显示基板的亮度补偿方法的流程图；其中，附图标记为：10a、第一基底；10b、第二基底；10c、第三基底；11、第一电极结构；111、选择性透反膜；112、导电层；112a、第一导电子层；112b、第二导电子层；112c、第三导电子结构；12、光检测器件；13、有机功能层；14、第二电极结构；15、薄膜封装层；R、红色滤光膜；G、绿色滤光膜；B、蓝色滤光膜；16、驱动电路层；16a、晶体管；17、像素界定层。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。在本专利技术中，“构图工艺”是指形成具有特定的图形的结构的步骤，其可为光刻工艺，光刻工艺包括形成材料层、涂布光刻胶、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等步骤中的一步或多步；当然，“构图工艺”也可为压印工艺、喷墨打印工艺等其它工艺。实施例1：本实施例提供一种显示基板，包括第一基底10a、设置在第一基底10a上的多个第一电极结构11、设置在第一电极结构11背离第一基底10a一侧的有机功能层13，每个第一电极结构11对应一个彩色亚像素，有机功能层13覆盖对应不同颜色亚像素的多个第一电极结构11，第一电极结构11中设置有导电层112和选择性透反膜111，导电层112与有机功能层13的最靠近第一基底10a一侧的表面接触，选择性透反膜111能够将所对应亚像素的颜色的光进行反射且将除所对应亚像素的颜色以外的颜色的光进行透射；显示基板还包括设置在第一电极结构11背向有机功能层13一侧的多个光检测器件12，每个光检测器件12对应一个第一电极结构11，光检测器件12用于检测从对应第一电极结构11透射出的光的亮度。参见图1和图2，第一电极结构11、相对区域的有机功能层13、相对区域的第二电极结构14形成一个二极管结构(即一个彩色亚像素)。有机功能层13覆盖对应不同颜色亚像素的多个第一电极结构11，通常的做法是有机功能层13覆盖整个显示基板中的第一电极结构11，这种结构也称为WOLED结构。有机功能层13的作用是使电子和空穴复合发出白光，通常的设置方式是在其中设置叠置的红色复合发光层、绿色复合发光层、蓝色复合发光层，为特高发光的效率，也可以增加设置叠置的电子注入层、电子传输层、空穴注入层、空穴传输层等。为向第一电极结构11提供驱动电压，通常在第一电极结构11与第一基底10a之间还会设置驱动电路层16，驱动电路层16中设置由晶体管16a构成的驱动电路。第一电极结构11中的导电层112的作用是实现与有机功能层13的电连接。参照图3，第一电极结构11中的选择性透反膜111的作用是将对应亚像素的颜色的光朝远离第一基底10a的方向反射出去用于进行显示(即形成该反光颜色的亚像素)。第一电极结构11中的选择性透反膜111的另一个作用是将对应亚像素的颜色以外的颜色的光透射出去，从而供光检测器件12(例如包括光敏二极管)进行检测。根据显示数据，亚像素的出光亮度是有一个预期亮度的，对应地，光检测器件12检测到的从第一电极结构11透射出的光的亮度也是有一个预期亮度的，当光检测器件12检测到的光的亮度与对应的预期亮度存在差异时，即可基于该差异对显示数据进行补偿。例如根据光检测器检测到的数据分析红色复合发光层的发光效率降低了，那么在显示数据中对红色亚像素的部分适当增加红色亚像素的发光亮度，从而对这种发光效率的降低进行补偿。由于光检测器件12的检测是实时的，对于显示数据的补偿也是实时的，从而实现了WOLED型显示基板的亮度的实时补偿。具体的补偿算法参见实施例4。可选地，导电层112包括透明的第一导电子层112a和透明的第二导电子层112b，选择性透反膜111位于第一导电子层112a和第二导电子层112b之间，第一导电子层112a和第二导电子层112b电连接。如图1和图2所示，第一导电子层112a和第二导电子层112b是通过选择本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，包括第一基底、设置在第一基底上的多个第一电极结构、设置在第一电极结构背离第一基底一侧的有机功能层，每个第一电极结构对应一个彩色亚像素，有机功能层覆盖对应不同颜色亚像素的多个第一电极结构，其特征在于，第一电极结构中设置有导电层和选择性透反膜，导电层与有机功能层的最靠近第一基底一侧的表面接触，选择性透反膜能够将所对应亚像素的颜色的光进行反射且将除所对应亚像素的颜色以外的颜色的光进行透射；显示基板还包括设置在第一电极结构背向有机功能层一侧的多个光检测器件，每个光检测器件对应一个第一电极结构，光检测器件用于检测从对应第一电极结构透射出的光的亮度。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括第一基底、设置在第一基底上的多个第一电极结构、设置在第一电极结构背离第一基底一侧的有机功能层，每个第一电极结构对应一个彩色亚像素，有机功能层覆盖对应不同颜色亚像素的多个第一电极结构，其特征在于，第一电极结构中设置有导电层和选择性透反膜，导电层与有机功能层的最靠近第一基底一侧的表面接触，选择性透反膜能够将所对应亚像素的颜色的光进行反射且将除所对应亚像素的颜色以外的颜色的光进行透射；显示基板还包括设置在第一电极结构背向有机功能层一侧的多个光检测器件，每个光检测器件对应一个第一电极结构，光检测器件用于检测从对应第一电极结构透射出的光的亮度。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，导电层包括透明的第一导电子层和透明的第二导电子层，选择性透反膜位于第一导电子层和第二导电子层之间，第一导电子层和第二导电子层电连接。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，选择性透反膜包括光子晶体。4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括设置在有机功能层背离第一基底一侧的第二电极结构。5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，光检测器件设置在第一电极结构与第一基底之间。6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，光检测器件设置在第一基底背向对应的第一电极结构的...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡伟频，姜明宵，卜倩倩，魏从从，王纯，贾一凡，孙晓，邱云，王丹，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11