The invention provides a far-infrared electric heating film and its preparation method, an electric heating plate and a heating furnace. The far-infrared electric heating film is coated on the substrate by spraying and annealing at 400-800 ~C after mixing a mixture of silicon dioxide and chromium trioxide with a binder diluent to form a slurry. The far infrared electric heating film prepared by the invention can reduce the temperature of moisture loss, and has the characteristics of high thermal efficiency, uniform heating and long service life.
【技术实现步骤摘要】
一种远红外电加热膜及其制备方法、电加热盘和加热炉
本专利技术涉及家电
，具体是一种远红外电加热膜及其制备方法、电加热盘和加热炉。
技术介绍
现有的电器类产品，如保温盘、电炉、电磁炉、电陶炉等，大都采用的发热体为加热管或电磁加热，在发热体通电后通过电加热传导或电磁能辐射于炉具。上述发热体存在加热体易氧化、热效率低、加热不均匀、使用寿命短等诸多问题，电磁加热方式所产生的低频辐射还会对人体造成危害。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供了一种可降低排潮损失的温度、热效率高、加热均匀，寿命长的远红外电加热膜及其制备方法、电加热盘和加热炉。本专利技术一种远红外电加热膜制备方法，采用二氧化硅、三氧化铬的混合物经处理在基底表面形成远红外电加热膜，所述远红外电加热膜和基底再经退火成膜工艺处理；该方法包括以下步骤：(1)将所述纳米级二氧化硅、三氧化铬的重量比为55～70∶30～45混合成远红外电加热膜粉末，所述远红外电加热膜粉末与粘结稀释剂混合成浆料，所述粘结稀释剂为耐高温酚醛树脂；(2)所述基底经400～800℃热处理，并将所述浆料均匀喷涂在所述基底表面形成远红外电...
【技术保护点】
1.一种远红外电加热膜制备方法，其特征在于：采用二氧化硅、三氧化铬的混合物经处理在基底表面形成远红外电加热膜，所述远红外电加热膜和基底再经退火成膜工艺处理；该方法包括以下步骤：(1)将所述纳米级二氧化硅、三氧化铬的重量比为55～70∶30～45混合成远红外电加热膜粉末，所述远红外电加热膜粉末与粘结稀释剂混合成浆料，所述粘结稀释剂为耐高温酚醛树脂；(2)所述基底经400～800℃热处理，并将所述浆料均匀喷涂在所述基底表面形成远红外电加热膜，远红外加热膜厚度在10‑15μm；(3)形成远红外电加热膜后，进行退火处理，退火工艺处理温度为400～800℃，所述退火成膜工艺的处理时间为15～25min。
【技术特征摘要】
1.一种远红外电加热膜制备方法，其特征在于：采用二氧化硅、三氧化铬的混合物经处理在基底表面形成远红外电加热膜，所述远红外电加热膜和基底再经退火成膜工艺处理；该方法包括以下步骤：(1)将所述纳米级二氧化硅、三氧化铬的重量比为55～70∶30～45混合成远红外电加热膜粉末，所述远红外电加热膜粉末与粘结稀释剂混合成浆料，所述粘结稀释剂为耐高温酚醛树脂；(2)所述基底经400～800℃热处理，并将所述浆料均匀喷涂在所述基底表面形成远红外电加热膜，远红外加热膜厚度在10-15μm；(3)形成远红外电加热膜后，进行退火处理，退火工艺处理温度为400～800℃，所述退火成膜工艺的处理时间为15～25min。2.根据权利要求1所述的远红外电加热膜制备方法，其特征在于：所述二氧化硅重量百分比65％、三氧化铬重量百分比35％。3.根据权利要求1所述的远红外电加热膜制备方法，其特征在于：所述二氧化硅重量百分比62％、三氧化铬重量百分比38％...
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