用于优化图案化装置图案的方法制造方法及图纸

一种用于优化图案化装置图案的方法，该方法包括：获得具有多个多边形的初始设计图案；使多边形中的至少一些多边形有效地彼此连接；将评估特征放置在多边形的边界之外；以及基于评估特征来创建跨越已连接的多边形的图案化装置图案。

A Method for Optimizing Patterned Device Patterns

A method for optimizing patterned device patterns includes: obtaining an initial design pattern with multiple polygons; effectively connecting at least some polygons in the polygon; placing evaluation features outside the boundary of the polygon; and creating patterned device patterns across connected polygons based on Evaluation features.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于优化图案化装置图案的方法相关申请的交叉引用本申请要求于2016年10月24日提交的美国临时申请62/412,192和2017年10月20日提交的美国临时申请62/574,843的优先权，这两个申请均通过引用整体并入本文。
本文的描述涉及光刻方法和设备，并且更具体地涉及使用沿引导轮廓的评估特征进行图案化以优化图案化装置图案的方法以及应用该方法的系统。
技术介绍
可以将光刻设备用在例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，图案化装置(例如掩模)可以包含或提供与IC的各个层相对应的器件图案(“设计布局”)，并且通过诸如穿过图案化装置上的图案照射衬底上(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或多个裸片)的方法，可以将该器件图案转移到该目标部分上，该衬底已经被涂覆有辐射敏感材料(“抗蚀剂”)层。通常，单个衬底包含被光刻设备连续地、一次一个目标部分地将图案转移到其上的多个相邻目标部分。在一种类型的光刻设备中，整个图案化装置的图案被一次转移到一个目标部分上；这样的设备通常被称为步进器。在备选的设备(通常称为步进扫描设备)中，投影光束沿给定的参考方向(“扫描”方向)在图案化装置之上扫描，同时沿与所述参考方向平行或反向平行的方向同步移动衬底。图案化装置的图案的不同部分被逐渐地转移到一个目标部分。因为通常光刻设备将具有放大系数M(通常<1)，所以衬底被移动的速度F将是投影光束扫描图案化装置的速度的M倍。在将图案从图案化装置转移至衬底之前，衬底可能经历各种工序，诸如涂底(priming)、抗蚀剂涂覆以及软烘烤。在曝光之后，衬底可能经历其它工序，诸如曝光后烘烤(PEB)、显影、硬烘烤以及对所转移的图案的测量/检查。这一系列的工序被用作为用来制作器件(例如IC)的各个层的基础。之后衬底可能经历各种工艺，诸如蚀刻、离子注入(掺杂)、金属化、氧化、化学机械抛光等，所有的这些工序都是旨在最终完成器件的各个层。如果器件中需要若干层，那么针对每一层重复整个工序或其变体。最终，器件将被呈现在衬底上的每一目标部分中。之后通过诸如切片或切割之类的技术，将这些器件互相分开，据此可以将各个器件安装在载体上、连接至引脚等。因此，制造诸如半导体器件之类的器件通常涉及使用多种制造工艺来处理衬底(例如，半导体晶片)以形成器件的各种特征和多个层。通常使用例如沉积、光刻、蚀刻、化学机械抛光和离子注入来制造和处理这些层和特征。可以在衬底上的多个裸片上制造多个器件，然后将其分成单独的器件。该器件制造工艺可以被认为是图案化工艺。图案化工艺涉及诸如使用光刻设备中的图案化装置的光学和/或纳米压印光刻之类的图案化步骤，以将图案化装置的图案转移到衬底，并且通常但是可选地涉及一个或多个相关的图案处理步骤，诸如通过显影设备的抗蚀剂显影、使用烘烤工具对衬底的烘烤、使用蚀刻设备利用图案进行的蚀刻等。
技术实现思路
在一个实施例中，提供了一种用于优化图案化装置图案的方法，所述方法包括：获得具有多个多边形的初始设计图案；使所述多边形中的至少一些多边形有效地彼此连接；将评估特征放置在所述多边形的边界之外；以及基于评估特征创建跨越已连接的多边形的图案化装置图案。在一个实施例中，提供了一种用于优化图案化装置图案的方法，所述方法包括：获得具有多个多边形的初始设计图案；使所述多边形中的至少一些多边形有效地彼此连接；关于所述多边形放置评估特征；以及生成跨越已连接的多边形中的至少一些多边形的引导轮廓，其中所述评估特征中的至少一些评估特征位于所述引导轮廓上。在一个实施例中，提供了一种用于优化图案化装置图案的方法，所述方法包括：获得具有多个多边形的初始设计图案；使所述多边形中的至少一些多边形有效地彼此连接；关于已连接的多边形放置评估特征；以及基于所述评估特征创建跨越所述已连接的多边形的连接点或交叉点的图案化装置图案轮廓。在一个实施例中，提供了一种计算机程序产品，包括其上记录有指令的计算机非暂时性可读介质，所述指令在由计算机执行时实现本文所述的方法。附图说明图1图示出了光刻系统的各种子系统的框图；图2图示出了对应于图1中的子系统的模拟模型的框图；图3A图示出了对于四种图案中的每一种图案的EPE或CD(EPE或CD-PW)的、由焦点(水平轴)和剂量(垂直轴)跨越的工艺窗口；图3B图示出了四个图案的EPE或CD(EPE或CD-OPW)的、由焦点(水平轴)和剂量(垂直轴)跨越的(由点阴影区域表示的)工艺窗口；图4图示出了说明联合优化或共同优化的方法的示例的各方面的流程图；图5图示出了根据一个实施例的另一优化方法的实施例；图6、图7和图8图示出了各种优化过程的示例性流程图；图9图示出了多重图案化技术(MPT)的一系列过程情形；图10图示出了方法的实施例；图11图示出了图10的方法的流程图；图12图示出了图11的方法的一系列过程情形的示例；图13A和图13B图示出了在图12的方法的过程情形1202处标识紧密相邻的目标多边形的过程的示例；图14图示出了在图12的过程情形1203处偏置被标识的紧密相邻的目标多边形并且可选地形成桥以连接在偏置之后彼此未连接的被标识和偏置的目标多边形的示例；图15图示出了在图12的过程情形1204处偏置未被标识的目标多边形的示例；图16图示出了在图12的过程情形1205处关于一个或多个多边形提供图案放置量规的示例；图17图示出了在图12的过程情形1206处放置针对多边形的评估特征的示例，包括在被标识的目标多边形之外的一个或多个评估特征；图18图示出了与图12的过程情形1206相关的关于一些被标识的目标多边形的评估特征的放置的示例；图19图示出了在图12的过程情形1206处用于评估特征的放置的引导轮廓的示例；图20A图示出了用于评估特征的放置的引导轮廓的示例(由短线指明)，并且图20B图示出了与具有上边界和下边界的容差带相关联的评估特征；图21A、图21B和图21C更详细地图示出了图案放置误差(PPE)控制量规的放置的示例，其中图21A图示出了图16，图21B图示出了关于多边形的图案放置误差(PPE)控制量规的放置，图21C描绘了图案放置误差(PPE)控制量规的实施例的工作细节，并且图21D描绘了图案放置误差(PPE)控制量规的另一个实施例的工作细节；图22A和图22B图示出了图案和照射模式的优化的示例，其中图22A图示出了优化图案的示例，并且图22B图示出了优化照射模式的示例并且与图12的过程情形1207相关；图23图示出了显影轮廓的显影后表示的示例，并且与图12的过程情形1208相关；图24图示出了缩小和复原之后的图案的表示的示例，并且与图12的过程情形1209相关；图25图示出了与初始设计图案的多边形相对应的图案特征的蚀刻后检查(AEI)样本图像的示例；图26A和图26B示意性地图示出了改变设计意图以创建图案化装置图案的实施例；图27A和图27B示意性地图示出了改变设计意图以创建图案化装置图案的另一个实施例；图28图示出了计算机系统的示例的框图；图29图示出了光刻设备的示意图；图30图示出了另一光刻设备的示意图；图31图示出了图30中的设备的更详细视图；和图32图示出了本申请的图30和图31的设备的源收集器模块的更详细视图。具体实施方式作为简要介绍，图1图示出了本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于优化图案化装置图案的方法，所述方法包括：获得具有多个多边形的初始设计图案；使所述多边形中的至少一些多边形有效地彼此连接；将评估特征放置在所述多边形的边界之外；以及基于所述评估特征，创建跨越已连接的多边形的图案化装置图案。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.10.24 US 62/412,192;2017.10.20 US 62/574,8431.一种用于优化图案化装置图案的方法，所述方法包括：获得具有多个多边形的初始设计图案；使所述多边形中的至少一些多边形有效地彼此连接；将评估特征放置在所述多边形的边界之外；以及基于所述评估特征，创建跨越已连接的多边形的图案化装置图案。2.根据权利要求1所述的方法，还包括跨在所述已连接的多边形中的至少一些多边形生成引导轮廓，并且所述评估特征中的至少一些评估特征位于所述引导轮廓上。3.根据权利要求2所述的方法，还包括：对照所述引导轮廓来评估中间图案化装置图案，并基于对照所述引导轮廓的所述评估来调节创建所述图案化装置图案的参数。4.根据权利要求1所述的方法，其中，基于包括边缘放置误差和图案放置误差的成本函数来创建所述图案化装置图案的图案化装置图案轮廓。5.根据权利要求1所述的方法，还包括关于所述多边形应用图案放置量规，并且创建所述图案化装置图案是基于从所述图案放置量规确定的值。6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述评估特征由在创建所述图案化装置图案中使用的容差范围来界定。7.根据权利要求1所述的方法，还包括偏置所述多边形的大小，和/或其中，被偏置的多边形中的至少一些多边形彼此连接。8.根据权利要求1所述的方法，还包括：形成用以连接多边形的桥；和/或选择彼此紧密相邻的多边形以进行连接，和/或其中，所述紧密相邻的多边形具有小于k1值0.28的间隔距离或节距。9.根据权利要求1所述的方法，其中，创...

【专利技术属性】
技术研发人员：DF·S·徐，李小阳，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL