有机发光显示设备制造技术

本发明专利技术公开了一种有机发光显示设备。有机发光显示设备包括：包括显示区域和非显示区域的基板；位于显示区域中的基板上的薄膜晶体管；覆盖薄膜晶体管的平坦化层；位于显示区域中的平坦化层上的第一电极，第一电极连接到薄膜晶体管；覆盖第一电极的像素限定层，像素限定层包括第一开口，第一开口暴露第一电极的一部分以限定发射区域；位于像素限定层上的第一遮光层，第一遮光层包括光致变色材料，第一遮光层的颜色在暴露于紫外光时能可逆地改变；位于第一电极上的有机发光层；以及位于有机发光层上的第二电极。

Organic Light Emitting Display Equipment

The invention discloses an organic light-emitting display device. Organic light-emitting display devices include: a substrate including a display area and a non-display area; a thin film transistor on a substrate located in a display area; a flattening layer covering a thin film transistor; a first electrode on a flattening layer located in a display area, which is connected to a thin film transistor; a pixel limiting layer covering a first electrode, which includes a first opening; and An opening exposes a part of the first electrode to define the emission region; a first shading layer located on the pixel limiting layer, which includes photochromic materials, the color of the first shading layer can be reversibly changed when exposed to ultraviolet light; an organic light-emitting layer located on the first electrode; and a second electrode located on the organic light-emitting layer.

【技术实现步骤摘要】
有机发光显示设备
实施例涉及显示设备。更具体地，实施例涉及包括遮光层的有机发光显示设备和制造有机发光显示设备的方法。
技术介绍
有机发光显示设备可以具有有机发光元件，该有机发光元件包括空穴注入层、电子注入层以及形成在空穴注入层和电子注入层之间的有机发光层。在有机发光显示设备中，随着激子(其为从空穴注入层注入的空穴与从电子注入层注入的电子的结合)从激发态下降到基态，可以产生光。有机发光显示设备可以省略用于产生光的单独的光源，并且因此有机发光显示设备可以具有相对小的厚度和轻的重量以及相对低的功耗。此外，有机发光显示设备可以具有相对宽的视角、高对比度和高响应速度等。
技术实现思路
实施例涉及有机发光显示设备，有机发光显示设备包括：包括显示区域和非显示区域的基板；位于显示区域中的基板上的薄膜晶体管；覆盖薄膜晶体管的平坦化层；位于显示区域中的平坦化层上的第一电极，第一电极连接到薄膜晶体管；覆盖第一电极的像素限定层，像素限定层包括第一开口，第一开口暴露第一电极的一部分以限定发射区域；位于像素限定层上的第一遮光层，第一遮光层包括光致变色材料，第一遮光层的颜色在暴露于紫外光时能可逆地改变；位于第一电极上的有机发光层；以及位于有机发光层上的第二电极。像素限定层和第一遮光层可以在显示区域和非显示区域两者中位于基板之上。光致变色材料可以包括螺吡喃、螺萘并噁嗪染料、二芳基乙烯衍生物、二氢吡啶、呋喃基俘精酸酐衍生物和偶氮苯衍生物中的至少一种。第一遮光层可以在暴露于紫外光时变得不透明。第一遮光层可以包括与第一开口对应的第二开口。有机发光显示设备可以进一步包括位于第二电极上的封装构件。有机发光显示设备可以进一步包括位于平坦化层与像素限定层之间的第二遮光层。第二遮光层的颜色可以在暴露于紫外光时能可逆地改变。第二遮光层可以包括与第一遮光层相同的材料。第二遮光层可以在暴露于紫外光时变得不透明。有机发光显示设备可以进一步包括位于像素限定层与第一遮光层之间的隔离物。隔离物可以包括第二开口，第二开口具有大于第一开口的宽度的宽度。第一遮光层可以包括与第二开口对应的第三开口。实施例还涉及制造有机发光显示设备的方法，该方法包括：制备包括显示区域和非显示区域的基板；在显示区域中的基板上形成薄膜晶体管；在基板上形成覆盖薄膜晶体管的平坦化层；在显示区域中的平坦化层上形成连接到薄膜晶体管的第一电极；在平坦化层上形成覆盖第一电极并且包括第一开口的像素限定层，第一开口暴露第一电极的一部分以限定发射区域；在像素限定层上形成包括光致变色材料的第一遮光层，第一遮光层的颜色在暴露于紫外光时能可逆地改变；在第一电极上形成有机发光层；以及在有机发光层上形成第二电极。像素限定层和第一遮光层可以形成在显示区域和非显示区域两者中的基板之上。形成像素限定层和形成第一遮光层可以包括：在平坦化层上依次形成覆盖第一电极的预备像素限定层和预备第一遮光层，以及通过光刻法同时形成像素限定层的第一开口和与第一开口对应的第一遮光层的第二开口。形成像素限定层可以包括：在平坦化层上形成覆盖第一电极的预备像素限定层；以及通过光刻法形成像素限定层的第一开口。形成第一遮光层可以包括：形成第一遮光层以包括与第一开口对应的第二开口。该方法可以进一步包括：在平坦化层与像素限定层之间形成第二遮光层，第二遮光层的颜色在暴露于紫外光时能可逆地改变。形成平坦化层以及形成第二遮光层可以包括：在基板上依次形成平坦化层和第二遮光层以覆盖薄膜晶体管；以及通过光刻法在平坦化层中和在第二遮光层中形成暴露薄膜晶体管的一部分的接触孔。该方法可以进一步包括：在第二电极上形成封装构件。该方法可以进一步包括：在像素限定层与第一遮光层之间形成隔离物，隔离物具有小于像素限定层的宽度的宽度。形成像素限定层、形成隔离物以及形成第一遮光层可以包括：在平坦化层上依次形成覆盖第一电极的预备像素限定层和预备第一遮光层；以及通过光刻法同时形成像素限定层的第一开口、隔离物的第二开口以及第一遮光层的第三开口，第二开口具有大于第一开口的宽度的宽度，并且第三开口对应于第二开口。附图说明通过参考附图具体描述示例性实施例，特征对于本领域技术人员来说将变得显而易见，附图中：图1图示了根据实施例的有机发光显示设备的平面图。图2图示了根据实施例的有机发光显示设备的截面图。图3A和图3B图示了制造图2中的有机发光显示设备的示例性方法的各阶段的截面图。图4A、图4B和图4C图示了制造图2中的有机发光显示设备的另一示例性方法的各阶段的截面图。图5图示了根据实施例的有机发光显示设备的截面图。图6A和图6B图示了制造图5中的有机发光显示设备的方法的各阶段的截面图。图7图示了根据实施例的有机发光显示设备的截面图。图8A和图8B图示了制造图7中的有机发光显示设备的方法的各阶段的截面图。具体实施方式现在将在下文中参考附图更充分地描述示例实施例，然而，这些实施例可以以不同的形式体现，并且不应当被解释为限于本文所提出的实施例。相反，提供这些实施例是为了使得本公开充分和完整，并且向本领域技术人员充分地传达示例性实施方式。在附图中，为了说明的清楚，层和区域的尺寸可被夸大。还将理解的是，当层或元件被称为在另一层或基板“上”时，其可以直接在另一层或基板上，或者也可以存在中间层。此外，将理解，当层被称为在两个层“之间”时，其可以是这两个层之间的唯一层，或者也可以存在一个或多个中间层。贯穿全文，相同的附图标记指代相同的元件。下文将参考图1描述根据实施例的有机发光显示设备的平面结构。图1图示了根据实施例的有机发光显示设备的平面图。参考图1，根据实施例的有机发光显示设备100可以包括显示区域DA和非显示区域NDA。多个像素可以被布置在显示区域DA中。显示区域DA可以显示图像。非显示区域NDA可以位于显示区域DA的至少一侧。用于将信号施加到显示区域DA以显示图像的驱动电路可以被布置在非显示区域NDA中。显示区域DA可以包括多个发射区域EA和非发射区域NEA。发射区域EA中的每个可以对应于像素中的一个。发射区域EA可以被排列成矩阵形式。发射区域EA中的每个可以包括有机发光元件，从而发光。非发射区域NEA可以围绕发射区域EA。光不从非发射区域NEA发射。下文将参考图2描述根据实施例的有机发光显示设备的截面结构。图2是图示根据实施例的有机发光显示设备的截面图。例如，图2可以是沿图1中的线I-I'和线II-II'截取的截面图。参考图2，根据实施例的有机发光显示设备100可以包括基板110、缓冲层111、薄膜晶体管TFT、栅绝缘层112、绝缘夹层113、平坦化层114、有机发光元件OLED、外围电极155、像素限定层131、第一遮光层141和封装构件160。薄膜晶体管TFT可以包括有源图案121、栅电极122、源电极123和漏电极124。有机发光元件OLED可以包括第一电极151、有机发光层152和第二电极153。基板110可以包括显示区域DA和非显示区域NDA。基板110可以由玻璃、石英、塑料等形成。缓冲层111可以被布置在基板110上。缓冲层111可以防止杂质通过基板110渗透。此外，缓冲层111可以在基板110之上提供平坦化的上表面。在一些实施方式中，缓冲层111可以被省略。薄膜晶体管TFT可以被布置在显示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种有机发光显示设备，包括：包括显示区域和非显示区域的基板；位于所述显示区域中的所述基板上的薄膜晶体管；覆盖所述薄膜晶体管的平坦化层；位于所述显示区域中的所述平坦化层上的第一电极，所述第一电极连接到所述薄膜晶体管；覆盖所述第一电极的像素限定层，所述像素限定层包括第一开口，所述第一开口暴露所述第一电极的一部分以限定发射区域；位于所述像素限定层上的第一遮光层，所述第一遮光层包括光致变色材料，所述第一遮光层的颜色在暴露于紫外光时能可逆地改变；位于所述第一电极上的有机发光层；以及位于所述有机发光层上的第二电极。

【技术特征摘要】
2017.12.06 KR 10-2017-01663561.一种有机发光显示设备，包括：包括显示区域和非显示区域的基板；位于所述显示区域中的所述基板上的薄膜晶体管；覆盖所述薄膜晶体管的平坦化层；位于所述显示区域中的所述平坦化层上的第一电极，所述第一电极连接到所述薄膜晶体管；覆盖所述第一电极的像素限定层，所述像素限定层包括第一开口，所述第一开口暴露所述第一电极的一部分以限定发射区域；位于所述像素限定层上的第一遮光层，所述第一遮光层包括光致变色材料，所述第一遮光层的颜色在暴露于紫外光时能可逆地改变；位于所述第一电极上的有机发光层；以及位于所述有机发光层上的第二电极。2.根据权利要求1所述的有机发光显示设备，其中，所述像素限定层和所述第一遮光层位于所述显示区域和所述非显示区域两者中的所述基板之上。3.根据权利要求1所述的有机发光显示设备，其中，所述光致变色材料包括螺吡喃、螺萘并噁嗪染料、二芳基乙...

【专利技术属性】
技术研发人员：李钟源，朴钟宇，安东基，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR