消除有机硅粗单体水解物不分层和黏附设备现象的方法技术

本发明专利技术涉及有机硅水解技术领域，具体涉及一种消除有机硅粗单体水解物不分层和黏附设备现象的方法。本发明专利技术所述的方法步骤如下：在有机硅粗单体的水解物中加入强碱，搅拌，再加入有机溶剂，升温，回流带水，静置，即实现水油两相分层；所述有机硅粗单体包括有机硅单体、含有两个硅氯键的副产物、含有三个及三个以上硅氯键的单体或低聚物；有机硅单体和含有两个硅氯键的副产物结构通式为R1R2SiCl2，R1和R2为烷基或苯基；水解物为水油不分层的液体状态或黏连状态。本发明专利技术的方法操作简单，反应温度低，常压，安全系数高，消除了有机硅粗单体的水解物不分层的现象，并使黏附设备的聚合物脱离设备，解决了装置难以清理的问题。

Method of Eliminating the Phenomenon of Non-stratification and Adhesion Equipment of Hydrolysates of Organosilicon Coarse Monomers

The invention relates to the technical field of organosilicon hydrolysis, in particular to a method for eliminating the phenomenon of non-stratification and adhesion equipment of crude organosilicon monomer hydrolysate. The method steps of the invention are as follows: adding strong alkali, stirring, adding organic solvent, heating, reflux water and stationary to the hydrolysate of the coarse organic silicon monomer to realize water-oil two-phase stratification; the coarse organic silicon monomer includes the organic silicon monomer, by-products containing two silicon-chlorine bonds, monomers or oligomers containing three or more silicon-chlorine bonds; The general formula of by-product structure containing two silicon-chlorine bonds is R1R2SiCl2, R1 and R2 are alkyl or phenyl, and the hydrolysate is in the liquid state or adhesive state without stratification of water and oil. The method of the invention has the advantages of simple operation, low reaction temperature, atmospheric pressure and high safety factor, eliminating the phenomenon of non-stratification of hydrolysates of coarse silicone monomers, and separating the polymer of the adhesion equipment from the equipment, thus solving the problem that the device is difficult to clean.

【技术实现步骤摘要】
消除有机硅粗单体水解物不分层和黏附设备现象的方法
本专利技术涉及有机硅水解
，具体涉及一种消除有机硅粗单体水解物不分层和黏附设备现象的方法。
技术介绍
在有机硅单体生产过程中，生产的粗单体包括有机硅单体和副产物，其中有机硅单体和含有两个硅氯键的副产物水解后的物质均呈现水油分层的现象，上层油相为无色透明的物质，经过裂解可以得到环体；而含有三个及三个以上硅氯键结构的单体或低聚物水解后的物质则呈现乳液状，水油难分层，甚至会黏连水解设备。如果粗单体含有三个及三个以上硅氯键的单体或低聚物，将导致粗单体的水解物过度交联并产生大量的硅羟基，而大量的羟基是亲水性的，分子骨架是疏水性的，最终导致水油不分层甚至水解物黏附水解设备的现象，水解装置聚合物富集粘连，出现难以清理的问题。以二甲基二氯硅烷水解为例，二甲基二氯硅烷的粗单体中含有二甲基二氯硅烷、含有两个硅氯键的副产物、含有三个及三个以上硅氯键的单体或低聚物(如甲基三氯硅烷、三氯氢硅、四氯硅烷；二甲基四氯二硅烷、三甲基三氯二硅烷、六氯二硅烷等)。二甲基二氯硅烷单体在水解后，生成线性体水解物，水解物可以和水明显的分层，水解物的分子结构如下所示：含有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种消除有机硅粗单体水解物不分层和黏附设备现象的方法，其特征在于：步骤如下：在有机硅粗单体的水解物中加入强碱，搅拌，再加入有机溶剂，升温，回流带水，静置，即实现水油两相分层；所述有机硅粗单体包括有机硅单体、含有两个硅氯键的副产物、含有三个及三个以上硅氯键的单体或低聚物；所述有机硅单体和含有两个硅氯键的副产物结构通式为R1R2SiCl2，R1和R2为烷基或苯基；所述水解物为水油不分层的液体状态或黏连状态。

【技术特征摘要】
1.一种消除有机硅粗单体水解物不分层和黏附设备现象的方法，其特征在于：步骤如下：在有机硅粗单体的水解物中加入强碱，搅拌，再加入有机溶剂，升温，回流带水，静置，即实现水油两相分层；所述有机硅粗单体包括有机硅单体、含有两个硅氯键的副产物、含有三个及三个以上硅氯键的单体或低聚物；所述有机硅单体和含有两个硅氯键的副产物结构通式为R1R2SiCl2，R1和R2为烷基或苯基；所述水解物为水油不分层的液体状态或黏连状态。2.根据权利要求1所述的消除有机硅粗单体水解物不分层和黏附设备现象的方法，其特征在于：强碱为氢氧化钾或氢氧化钠，加入量为水解物质量的5-25％。3.根据权利要求1所述的消除有机硅粗单体水解物不分...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊港，胡庆超，李云杰，国建强，孙江，
申请(专利权)人：山东东岳有机硅材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：山东,37