The invention discloses an aqueous phase preparation method of a molecularly imprinted polymer on the surface of getamycin tartrate and its application, which belongs to the technical field of analytical chemistry and pollutant analysis and detection. The main technical points of the invention are as follows: using pure water as preparation solvent, using [VAIM] Cl and/or AMPS as functional monomers, tartaric acid getamycin as template molecule, through the interaction of crosslinking agent N, N'methylene bisacrylamide and initiator azodiisobutyronitrile, the surface molecularly imprinted polymer of tartaric acid getamycin is prepared on the surface of styrene divinylbenzene carrier particles. The prepared solvent used in the invention is green and pollution-free, and the prepared molecularly imprinted polymer has uniform particle size, large adsorption capacity, three-dimensional pore matching with the molecular structure of the template and specific binding active sites, which can be used for selective separation, enrichment and detection analysis of trace getamycin tartrate in environmental samples, and has broad application prospects.
【技术实现步骤摘要】
一种酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物的水相制备方法及其应用
本专利技术属于分析化学及污染物分析检测
,主要用于环境样品中大环内酯类抗生素的选择性分离、富集及分析检测,具体涉及一种酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物的水相制备方法及其应用。
技术介绍
大环内酯类抗生素是具有大内酯环骨架结构的抗生素的总称,其通过抑制细菌中蛋白质的合成,从而抵抗革兰氏阳性菌和阴性菌,在人类医学和兽医学上广泛使用。其中,吉他霉素基于其优良的抗菌性能,目前被大量用于畜牧养殖业中,随着吉他霉素的不断使用,其环境残留也逐渐引起人们的重视。众所周知,抗生素在复杂环境介质中的微量残留便会对生态系统及人体健康产生极大的危害。因此,对环境样品中痕量吉他霉素的分析检测便成为研究者关注的焦点。分子印迹技术又称分子烙印技术,是一种基于分子识别的功能聚合物制备技术。由于互补空间结构及特异活性位点的存在,分子印迹聚合物对目标物具有“记忆功能”,能够选择性识别复杂基质中的目标物,实现实际环境样品中复杂基质干扰下低浓度目标物的选择性分离与富集。然而,目前的分子印迹聚合物大多在乙腈、氯仿、甲苯等非极性有毒有机溶剂中制备,这一方面会对环境带来二次污染,另一方面在污染物广泛存在的极性溶剂中该类聚合物往往表现出较差的吸附性能,因此,如何在绿色极性介质水中实现分子印迹聚合物的制备便成为人们研究的热点。本专利技术采用表面分子印迹技术,以纯水为制备溶剂,1-烯丙基-3-乙烯基咪唑氯盐([VAIM]Cl)和/或2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(AMPS)为功能单体,酒石酸吉他霉素为模板分子,通过交联剂N,N’-亚甲基双丙烯酰 ...
【技术保护点】
1.一种酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物的水相制备方法,其特征在于具体过程为:将功能单体[VAIM]Cl和/或AMPS及模板分子酒石酸吉他霉素溶解于加有苯乙烯‑二乙烯基苯载体颗粒的纯水溶剂中,于30℃预聚合后加入交联剂N,N’‑亚甲基双丙烯酰胺和引发剂偶氮二异丁腈,在氮气保护下通过交联剂N,N’‑亚甲基双丙烯酰胺和引发剂偶氮二异丁腈的共同作用于60℃发生聚合反应在苯乙烯‑二乙烯基苯载体颗粒表面包覆酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物层,该酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物能够选择性识别水环境样品中的大环内酯类抗生素污染物。
【技术特征摘要】
1.一种酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物的水相制备方法,其特征在于具体过程为:将功能单体[VAIM]Cl和/或AMPS及模板分子酒石酸吉他霉素溶解于加有苯乙烯-二乙烯基苯载体颗粒的纯水溶剂中,于30℃预聚合后加入交联剂N,N’-亚甲基双丙烯酰胺和引发剂偶氮二异丁腈,在氮气保护下通过交联剂N,N’-亚甲基双丙烯酰胺和引发剂偶氮二异丁腈的共同作用于60℃发生聚合反应在苯乙烯-二乙烯基苯载体颗粒表面包覆酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物层,该酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物能够选择性识别水环境样品中的大环内酯类抗生素污染物。2.根据权利要求1所述的酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物的水相制备方法,其特征在于:所述模板分子与载体颗粒的投料质量比为1.1-1.4:1。3.根据权利要求1所述的酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物的水相制备方法,其特征在于:所述功能单体[VAIM]Cl与AMPS的投料摩尔比为0-3:3-0。4.根据权利要求1所述的酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物的水相制备方法,其特征在于:所述模板分子、功能单体、交联剂与引发剂的投料摩尔比为1:4-8:15-25:0.24。5.根据权利要求1所述的酒石酸吉他霉素表面分子印迹聚合物的水相制备方法,其特征在于具体步骤为:将模板分子酒石酸吉他霉素及功能单体[VAIM]Cl和...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱桂芬,王利芳,李宛宛,程国浩,逯通,陈乐田,樊静,
申请(专利权)人:河南师范大学,
类型:发明
国别省市:河南,41
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