The invention discloses an array substrate and its fabrication method and display device, in which the array substrate includes a substrate; an array layer, the array layer is placed on the substrate; an anode line layer, the anode line layer is placed on the array layer; a first pixel limit layer, the first pixel limit layer is an inorganic layer and is placed on the array layer; and a first opening runs through the whole said array layer. The first pixel restriction layer; the second pixel restriction layer, the second pixel restriction layer is placed on the first pixel restriction layer; the second opening runs through the entire second pixel restriction layer; where the projection of the first opening on the array layer completely falls into the projection of the second opening on the array layer. The advantages of the present invention are that the luminous region is limited by forming a double-layer pixel limiting layer, and the color mixing problem is improved. At the same time, the water-oxygen barrier performance of the pixel region can be improved by using inorganic materials as the pixel limiting layer.
【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及液晶显示领域,特别涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
有机电致发光(OrganicLightingEmittingDiode)器件简称OLED,因OLED器件具有自发光,色彩丰富,响应速度快,视角广,重量轻,可做成柔性显示屏等优点而受到广泛关注。然而,在OLED器件制作中,某些制程潜在一些风险,甚至影响到产品的品质。如像素限定层,传统像素限定层是通过一次曝光显影技术制作,该技术虽然较为简单,但形成的像素区域易造成混色,且水氧阻隔性能较差。有机电致发光二极管(OLED,OrganicLightEmittingDiode)是一种有机薄膜电致发光器件,其具有制备工艺简单、成本低、发光效率高、易形成柔性结构等优点。因此,利用有机电致发光二极管的显示技术已成为一种重要的显示技术。现有技术中,针对有机薄膜电致发光器件,其有机电致发光层形成方法有:一、真空蒸镀方法,适用于有机小分子,其特点是有机电致发光层的形成不需要溶剂,薄膜厚度均一,但是设备投资大、材料利用率低、不适用于大尺寸产品的生产;二、采用有机电致发光材料的溶液制成有机电致发光层,包括旋涂、喷墨打印、喷嘴涂覆法等,适用于聚合物材料和可溶性小分子,其特点是设备成本低,在大规模、大尺寸生产上优势突出。特别是喷墨打印技术,能将溶液精准的喷墨到像素区中,形成有机电致发光层。但是其最大的难点是有机电致发光材料的溶液在像素区内难以形成厚度均一的有机电致发光层。如图6,中国专利CN106784409A中提到在基板上通过喷墨打印或旋涂方式形成像素限定层的第一层第一像 ...
【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括基板;阵列层,所述阵列层置于所述基板上;阳极走线层,所述阳极走线层置于所述阵列层上;第一像素限定层,所述第一像素限定层为无机层且置于所述阵列层上;第一开口,贯穿整个所述第一像素限定层;第二像素限定层,所述第二像素限定层置于所述第一像素限定层上;第二开口,贯穿整个所述第二像素限定层;其中,所述第一开口在所述阵列层上的投影完全落入所述第二开口在所述阵列层上的投影内。
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括基板;阵列层,所述阵列层置于所述基板上;阳极走线层,所述阳极走线层置于所述阵列层上;第一像素限定层,所述第一像素限定层为无机层且置于所述阵列层上;第一开口,贯穿整个所述第一像素限定层;第二像素限定层,所述第二像素限定层置于所述第一像素限定层上;第二开口,贯穿整个所述第二像素限定层;其中,所述第一开口在所述阵列层上的投影完全落入所述第二开口在所述阵列层上的投影内。2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括发光层,覆于所述阳极走线层表面且填充于所述第一开口。3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一开口与所述第二开口形成台阶型结构,所述第二开口内边缘距离所述第一开口与内边缘为100-200nm。4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一开口具有第一上底面,朝向所述第二开口;第二下底面,朝向所述阳极走线层;所述第一开口的宽度从所述第一上底面至所述第一下底面依次减小;所述第二开口具有第二上底面,远离所述第一开口;第二下底面,朝向所述第一开口;所述第二开口的宽度从所述第二上底面至所述第二下底面依次减小。5.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一像素限定层材质为无机材料,包括氮化硅、氮氧化硅、氧化硅中的一种;所述第二像素限定层材质为有机材料,包括亚克力、聚酰亚胺、环氧树脂中的一种。6.一种阵列基板的制备方法,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:张兴永,
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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