阵列基板及其制备方法及显示屏技术

技术编号:21303590 阅读:37 留言:0更新日期:2019-06-12 09:01
本发明专利技术涉及一种阵列基板,包括衬底;形成于衬底上的外连走线;外连走线包括外连段、以及位于外连段内侧的换线段;无机膜层,覆盖在外连走线上;无机膜层上开设有用于使换线段部分漏出的过孔、以及用于使外连段漏出的凹槽;以及金属层,形成于无机膜层上;金属层包括若干金属走线;金属走线通过过孔与换线段电连接。上述阵列基板,外段的上方就没有无机膜层,从而在弯折时,避免了无机膜层对外段挤压,减小了应力,进而避免外段断裂。本发明专利技术还提供了一种阵列基板的制备方法及显示屏。

Array Substrate and Its Preparation Method and Display Screen

The invention relates to an array substrate, including a substrate; an external connecting line formed on a substrate; an external connecting line includes an external connecting section and a change section located inside the outer connecting section; an inorganic film layer covers the outer connecting line; an inorganic film layer is provided with a through hole for leakage of the change section and a groove for leakage of the outer connecting section; and a metal layer formed on the inorganic film layer. The metal layer consists of several metal wires, which are electrically connected with the change section through holes. There is no inorganic film above the outer segment of the array substrate, so when bending, the extrusion of the inorganic film on the outer segment is avoided, the stress is reduced, and the fracture of the outer segment is avoided. The invention also provides a preparation method of an array substrate and a display screen.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法及显示屏
本专利技术涉及显示
,特别是涉及一种阵列基板及其制备方法及显示屏。
技术介绍
显示屏包括显示区(AA区)以及非显示区(非AA区),为了达到某些功能,会要求非显示区能够弯折。例如为了实现窄边框化,将非显示区弯折到屏体的背面,从而减少边框宽度。但是,目前的显示屏,在非显示区的弯折过程中,非显示区中的膜层断裂,进而造成金属走线易断裂,从而造成屏体不良。
技术实现思路
基于此,有必要对现有技术中金属走线易断裂的问题,提供一种不易造成金属走线断裂的阵列基板。一种阵列基板,包括:衬底;外连走线,形成于所述衬底上;所述外连走线包括外连段、以及位于所述外连段内侧的换线段;无机膜层,覆盖在所述外连走线上;所述无机膜层上开设有用于使所述换线段部分漏出的过孔、以及用于使所述外连段漏出的凹槽;以及第三金属层,形成于所述无机膜层上;所述第三金属层包括若干金属走线;所述金属走线通过所述过孔与所述换线段电连接。上述阵列基板,外连走线位于衬底上,外连走线的外连段的上方没有无机膜层,相比于整个金属走线位于无机膜层上的情况,在弯折时外连走线受到挤压更小,有利于减小外连走线的应力,避免外连本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底;外连走线,形成于所述衬底上;所述外连走线包括外连段、以及位于所述外连段内侧的换线段;无机膜层,覆盖在所述外连走线上;所述无机膜层上开设有用于使所述换线段部分漏出的过孔、以及用于使所述外连段漏出的凹槽;以及第三金属层,形成于所述无机膜层上;所述第三金属层包括若干金属走线;所述第三金属走线通过所述过孔与所述换线段电连接。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底;外连走线,形成于所述衬底上;所述外连走线包括外连段、以及位于所述外连段内侧的换线段;无机膜层,覆盖在所述外连走线上;所述无机膜层上开设有用于使所述换线段部分漏出的过孔、以及用于使所述外连段漏出的凹槽;以及第三金属层,形成于所述无机膜层上;所述第三金属层包括若干金属走线;所述第三金属走线通过所述过孔与所述换线段电连接。2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括形成于所述外连走线与所述衬底之间的阻挡层。3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述外连走线的厚度为500nm~1000nm。4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述衬底包括远离所述外连走线的第一衬底层、靠近所述外连走线的第二衬底层、以及位于所述第一衬底层与所述第二衬底层之间的水氧阻隔层。5.根据权利要求1所述的阵列基板...

【专利技术属性】
技术研发人员:李瑶
申请(专利权)人:昆山国显光电有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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