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用于投影的金属抗光屏制造技术

技术编号:21283432 阅读:37 留言:0更新日期:2019-06-06 12:54
本实用新型专利技术公开了一种用于投影的金属抗光屏,该金属抗光屏包括金属基底,该金属基底设置为平板状;金属微凹点和/或微凸点,多个金属微凹点和/或微凸点密集排布在金属基底的表面;其中,金属基底和金属微凹点和/或微凸点上,覆盖有保护层。本实用新型专利技术实施例提供的金属抗光屏,结构合理,制备方法简单,制造成本低,使用寿命长,环境干扰小,适合用于投影屏幕,例如,激光投影屏幕、电影播放屏幕、投影电视屏幕、电教板等。

Metal Anti-light Screen for Projection

The utility model discloses a metal anti-light screen for projection. The metal anti-light screen includes a metal base, which is arranged in a flat plate shape; metal micro-concave points and/or micro-convex points, multiple metal micro-concave points and/or micro-convex points are arranged densely on the surface of the metal base, and the metal micro-concave points and/or micro-convex points are covered with a protective layer. The metal anti-light screen provided by the embodiment of the utility model has reasonable structure, simple preparation method, low manufacturing cost, long service life and small environmental interference, and is suitable for projection screen, such as laser projection screen, film broadcast screen, projection TV screen, audio-visual teaching board, etc.

【技术实现步骤摘要】
用于投影的金属抗光屏
本申请属于投影
,具体涉及一种用于投影的金属抗光屏。
技术介绍
投影幕布是用在电视图像、视频文件的工具,应用越来越广。平面幕布通常有金属幕布、玻珠幕布、压纹塑料幕布、弹性幕布等。其中,金属幕布平整度高,反光性好,具有一定的增益效果,提高了画面的亮度,但是通常的金属幕布是在非金属屏基底的表面形成金属反射膜,而且,该种金属幕布在通常环境下使用会受到环境光的干扰,而且会同样增强环境光的亮度,影响对画面的显示效果。而且目前市场上的金属幕布价格高,影响了其普及应用。
技术实现思路
至少针对以上所述问题之一,本技术公开了一种用于投影的金属抗光屏,该金属抗光屏包括设置为平板状的金属基底;金属微凹点和/或微凸点,多个金属微凹点和/或微凸点密集排布在金属基底的表面;且在金属基底和金属微凹点和/或微凸点上覆盖有保护层。本技术一些实施例公开的用于投影的金属抗光屏,金属微凹点的深度或者金属微凸点的高度设置在0.5~1.0微米。本技术一些实施例公开的用于投影的金属抗光屏,保护层包括高密度反光材料,该高密度反光材料形成均匀的薄膜。本技术一些实施例公开的用于投影的金属抗光屏,保护层的厚度设置为0.3~0.5微米。本技术一些实施例公开的用于投影的金属抗光屏,保护层包括非金属保护层。本技术一些实施例公开的用于投影的金属抗光屏,金属微凸点的形状包括半球形、圆锥形或圆柱形。本技术一些实施例公开的用于投影的金属抗光屏,金属抗光屏还包括高分子树脂膜,该高分子树脂膜覆盖在设置有金属微凹点和/或微凸点的金属抗光屏的一侧表面上。本技术一些实施例公开的金属抗光屏,金属微凹点和/或金属微凸点形成规则排列的阵列微结构。本技术实施例提供的金属抗光屏,结构合理,制备工艺简单,制造成本低,使用寿命长,环境干扰小,适合用于投影屏幕,例如,包括激光投影屏幕、电影播放屏幕、投影电视屏幕、电教板等。附图说明图1实施例1抗光金属屏的侧视结构示意图图2实施例2抗光金属屏的立体结构示意图具体实施方式在这里专用的词“实施例”,作为“示例性”所说明的任何实施例不必解释为优于或好于其它实施例。本法实施例中性能指标测试,除非特别说明,采用本领域常规试验方法。应理解,本技术中所述的术语仅仅是为描述特别的实施方式,并非用于限制本技术公开的内容。除非另有说明,否则本文使用的技术和科学术语具有本技术所属
的普通技术人员通常理解的相同含义;作为本技术中的其它未特别注明的原材料、试剂、试验方法和技术手段均指本领域内普通技术人员通常使用的原材料和试剂,以及通常采用的实验方法和技术手段;本文附图不依据相同的比例尺绘制,以便凸显不同的技术特征细节;本文述及的金属抗光屏,是指屏幕的基础材料和形成反光结构的材料主要为金属,通常金属抗光屏或屏幕为平板状,厚度尺寸远远小于平面大小尺寸。本文附图不依照比例尺绘制,以突显不同技术特征。本公开所用的术语“基本”和“大约”用于描述小的波动。例如,它们可以是指小于或等于±5%,如小于或等于±2%,如小于或等于±1%,如小于或等于±0.5%,如小于或等于±0.2%,如小于或等于±0.1%,如小于或等于±0.05%。浓度、量和其它数值数据在本文中可以以范围格式表示或呈现。这样的范围格式仅为方便和简要起见使用,因此应灵活解释为不仅包括作为该范围的界限明确列举的数值,还包括该范围内包含的所有独立的数值或子范围。例如,“1%至5%”的数值范围应被解释为不仅包括1%至5%的明确列举的值,还包括在所示范围内的独立值和子范围。因此,在这一数值范围中包括独立值,如2%、3.5%和4%,和子范围,如1%~3%、2%~4%和3%~5%等。这一原理同样适用于仅列举一个数值的范围。此外,无论该范围的宽度或所述特征如何,这样的解释都适用。在本公开,包括权利要求书中,所有连接词,如“包含”、“包括”、“带有”、“具有”、“含有”、“涉及”、“容纳”等被理解为是开放性的,即是指“包括但不限于”。只有连接词“由...构成”和“由...组成”是封闭连接词。为了更好的说明本
技术实现思路
,在下文的具体实施例中给出了具体的细节。本领域技术人员应当理解,没有某些具体细节,本技术同样可以实施。在实施例中,对于本领域技术人员熟知的一些方法、手段、仪器、设备、原料组成、分子结构等未作详细描述,以便于凸显本技术的主旨。本技术实施例公开的用于激光投影的金属抗光屏,或称为金属抗光屏幕,包括设置为平板状的金属基底;金属微凹点和/或凸点,多个金属微凹点和/或凸点密集排布在金属基底的表面,形成阵列排布微结构;且在金属基底和金属微凹点和/或凸点上覆盖有保护层。金属对激光产生良好的反射作用,屏幕整体材料,包括其基底和微凸点等都采用相同的金属材质便于金属屏的制备,也有利于其使用性能的优化,结构完整,机械强度高,不同环境中金属屏材料的性能变化保持一致,有利于维持其光学性能。金属材料包括不限于铝、镁、银、铝镁合金。金属基底表面设置的微凹点通常是指具有一定深度的凹陷结构,例如,微凹陷;微凸点通常是指具有一定高度的凸起结构,例如微凸起。在金属基底表面上,可以单独设置微凹点,微凹点密集排布在基底表面上,微凹点之间的距离基本保持相同,众多的微凹点形成均匀分布的阵列排布的微结构,微凹点的深度可以设置在0.5~1微米之间。凹陷结构的形状则不做特别限定,只需满足抗光屏的要求即可。在一些实施方式中,微凹点之间的距离小于微凹点的深度。在金属基底表面上,可以单独设置微凸点,微凸点密集排布在基底表面上,微凸点之间的距离基本保持相同,众多的微凸点形成均匀分布的阵列排布微结构,微凸点的高度可以设置在0.5~1微米之间。在一些实施方式中,金属基底表面的微凸起的形状,可以不做特别限定,只需满足抗光屏的要求即可。例如可以设置为半球形、圆锥形或圆柱形等。在一些实施方式中,阵列微结构中的微凸点之间的距离小于微凸点的高度。在一些实施方式中,微凸点和微凹点可以同时设置在基底表面,同时设置有微凹点和微凸点的金属基底表面上,微凹点与微凸点可以依次间隔设置,形成规则设置的微凹点/微凸点阵列微结构。金属基底的幕布对激光具有良好的发射效果,通常对环境光的发射也具有较好的发射效果,设置在金属屏表面的金属微凸点或微凹点可以有效降低环境光对图像影像的干扰。金属基底表面形成的微凸起,通常粒度小,表面性能活泼,例如采用金属铝、镁等制作的金属屏,通常位于金属屏的表面直接与环境接触,容易受环境条件的影响,例如被氧化、被腐蚀、被环境中的小颗粒物质污染等,影响其激光反射性能,在金属屏表面的金属微凸起表面覆盖保护层是解决此类问题的一种方式,例如,设置金属氧化膜层,为此,可以将金属屏的金属基底材料表面直接氧化,得到氧化膜。通常通过控制金属氧化物膜的厚度,以便控制其保护效果,例如,金属氧化膜层的面密度设置为0.3~0.5微米。作为一种解决金属屏表面性能稳定的方法,可以在金属屏表面设置高分子树脂膜。在一些实施方式中,在金属屏上设置有金属微凸点和/或微凹点的一侧的金属基底表面上,覆盖有高分子树脂膜。较为优选疏水性的高分子树脂膜,更为优选透光率高的疏水性高分子树脂膜,例如透光率高于80%的高分子树脂材料薄膜本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种用于投影的金属抗光屏,其特征在于,该金属抗光屏包括:金属基底,该金属基底设置为平板状;金属微凹点和/或微凸点,多个所述金属微凹点和/或微凸点密集排布在所述金属基底的表面;其中,在所述金属基底和所述金属微凹点和/或微凸点上,覆盖有保护层。

【技术特征摘要】
1.一种用于投影的金属抗光屏,其特征在于,该金属抗光屏包括:金属基底,该金属基底设置为平板状;金属微凹点和/或微凸点,多个所述金属微凹点和/或微凸点密集排布在所述金属基底的表面;其中,在所述金属基底和所述金属微凹点和/或微凸点上,覆盖有保护层。2.根据权利要求1所述的金属抗光屏,其特征在于,所述金属微凹点的深度或者金属微凸点的高度设置在0.5~1.0微米。3.根据权利要求1所述的金属抗光屏,其特征在于,所述保护层包括高密度反光材料,所述高密度反光材料形成均匀的薄膜。4.根据权利要求1所述的金...

【专利技术属性】
技术研发人员:王晓军
申请(专利权)人:王晓军
类型:新型
国别省市:河北,13

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