一种图像拼接方法、装置及电子设备制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供了一种图像拼接方法、装置及电子设备，该方法中，确定两张待拼接图像之间的特征点匹配对；获取拍摄两张待拼接图像的两个相机的内参矩阵和外参信息；基于所获取的内参矩阵和外参信息，计算两张待拼接图像之间的第一单应性矩阵；根据第一单应性矩阵，从特征点匹配对中去除错误特征点匹配对，得到第一特征点匹配对；根据第一特征点匹配对与第一单应性矩阵，将两张待拼接图像拼接成拼接图像。本发明专利技术中，由于第一单应性矩阵是根据相机本身的性质所确定的，因此，无论错误匹配点对多还是少，均可将其去除，达到提高拼接图像的拼接质量的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种图像拼接方法、装置及电子设备
本专利技术涉及图像处理
，特别是涉及一种图像拼接方法、装置及电子设备。
技术介绍
目前，存在这样一种需求，将有拼接需求的两张待拼接图片拼接为一张拼接图片。相关拼接图像的技术为：分别提取两张待拼接图像的特征点，对所提取的特征点进行匹配，得到两张待拼接图像之间的特征点匹配对，通过随机采样一致法从得到的特征点匹配对中去除错误特征点匹配对，得到剩余特征点匹配对，基于剩余特征点匹配对将两张待拼接图像拼接成拼接图像。由于在对所提取的特征点进行匹配时，会存在错误匹配的情况，有时还会产生大量的错误的特征点匹配对，例如：当待拼接图像中存在重复纹理区域时，将使得在进行特征点匹配时产生大量错误的特征点匹配对，例如：如图1所示，假设待拼接图像1中存在重复纹理区域，待拼接图像1重复纹理区域中的特征点A与待拼接图像2中的特征点A1是匹配的特征点，待拼接图像1重复纹理区域中的特征点B与待拼接图像2中的特征点B1是匹配的特征点，由于特征点A和特征点B位于重复纹理区域中，因此，特征点A与特征点B纹理相似，使得在进行特征点匹配时错将特征点B作为了与特征点A1匹配的特征点，将特征点本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图像拼接方法，其特征在于，所述方法包括：确定两张待拼接图像之间的特征点匹配对；获取拍摄所述两张待拼接图像的两个相机的内参矩阵和外参信息；基于所获取的内参矩阵和外参信息，计算所述两张待拼接图像之间的第一单应性矩阵；根据所述第一单应性矩阵，从所述特征点匹配对中去除错误特征点匹配对，得到第一特征点匹配对；根据所述第一特征点匹配对与所述第一单应性矩阵，将所述两张待拼接图像拼接成拼接图像。

【技术特征摘要】
1.一种图像拼接方法，其特征在于，所述方法包括：确定两张待拼接图像之间的特征点匹配对；获取拍摄所述两张待拼接图像的两个相机的内参矩阵和外参信息；基于所获取的内参矩阵和外参信息，计算所述两张待拼接图像之间的第一单应性矩阵；根据所述第一单应性矩阵，从所述特征点匹配对中去除错误特征点匹配对，得到第一特征点匹配对；根据所述第一特征点匹配对与所述第一单应性矩阵，将所述两张待拼接图像拼接成拼接图像。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所获取的内参矩阵和外参信息，计算所述两张待拼接图像之间的第一单应性矩阵的步骤，包括：根据所获取的外参信息中的两个相机的光心坐标以及光轴方向，确定两个相机的姿态关系以及相对位置关系；根据预设选择规则，从所获取的外参信息中选择与所述姿态关系以及所述相对位置关系对应的外参参数；根据所获取的内参矩阵以及所述外参参数，计算所述两张待拼接图像之间的第一单应性矩阵。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据预设选择规则，从所获取的外参信息中选择与所述姿态关系以及所述相对位置关系对应的外参参数的步骤，包括：当所述姿态关系为两个相机的光轴方向不平行，所述相对位置关系为两个相机的光心之间的距离小于预设光心距离阈值时，从所获取的外参信息中选择两个相机的姿态信息；所述根据所获取的内参矩阵以及所述外参参数，计算所述两张待拼接图像之间的第一单应性矩阵的步骤，包括：根据两个相机的姿态信息，确定两个相机的旋转矩阵；根据所确定的旋转矩阵以及所获取的内参矩阵，计算所述两张待拼接图像之间的第一单应性矩阵。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据预设选择规则，从所获取的外参信息中选择与所述姿态关系以及所述相对位置关系对应的外参参数的步骤，包括：当所述姿态为两个相机的光轴方向平行，所述相对位置关系为两个相机的光心之间的距离未小于预设光心距离阈值时，从所获取的外参信息中选择两个相机的光心坐标；在所述根据所获取的内参矩阵以及所述外参参数，计算所述两张待拼接图像之间的第一单应性矩阵的步骤之前，所述方法还包括：获取所述两个相机的物距，其中，所述两个相机的物距相同；所述根据所获取的内参矩阵以及所述外参参数，计算所述两张待拼接图像之间的第一单应性矩阵的步骤，包括：根据所述两个相机的光心坐标、所获取的内参矩阵中的一个以及所述两个相机的物距，确定所述两张待拼接图像之间的平移量矩阵，所述平移量矩阵表征所述两张待拼接图像匹配的特征点之间的平移量；根据所获取的内参矩阵，确定所述两张待拼接图像之间的第二单应性矩阵；根据所述平移量矩阵和所述第二单应性矩阵，计算所述两张待拼接图像之间的第一单应性矩阵。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一单应性矩阵，从所述特征点匹配对中去除错误特征点匹配对，得到第一特征点匹配对的步骤，包括：针对每对特征点匹配对，将该特征点匹配对中的一个特征点，通过所述第一单应性矩阵投影至该特征匹配点对中的另一个特征点所在的待拼接图像中，得到投影后的投影点；计算所述另一个特征点与所述投影点之间的距离；判断所述距离是否小于预设距离阈值；如果是，确定该特征点匹配对为第一特征点匹配对；如果否，将该特征点匹配对作为错误特征点匹配对进行去除。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述根据所述第一单应性矩阵，从所述特征点匹配对中去除错误特征点匹配对，得到第一特征点匹配对的步骤之前，所述方法还包括：从所述特征点匹配对中去除错误特征点匹配对，得到第二特征点匹配对；根据所述第二特征点匹配对，计算所述两张待拼接图像之间的第三单应性矩阵；判断所述第一单应性矩阵与所述第三单应性矩阵之间是否满足相似度条件；如果是，执行所述根据所述第一单应性矩阵，从所述特征点匹配对中去除错误特征点匹配对，得到第一特征点匹配对的步骤。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述判断所述第一单应性矩阵与所述第三单应性矩阵之间是否满足相似度条件的步骤，包括：判断所述第一单应性矩阵与所述第三单应性矩阵之间的矩阵相似度是否小于第一预设相似度阈值；和/或，判断所述第一单应性矩阵与所述第三单应性矩阵中表征旋转透视关系的元素之间的元素相似度是否小于第二预设相似度阈值。8.一种图像拼接装置，其特征在于，所述装置包括：...

【专利技术属性】
技术研发人员：王舸，邹纯稳，姚佳宝，王莉，谢小燕，
申请(专利权)人：杭州海康威视数字技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33