The present application discloses a display substrate, a manufacturing method and a display device thereof, belonging to the display technology field. The display substrate includes the substrate and the light emitting device layer, the film packaging layer, the optical adhesive layer and the polarizer layer which are arranged on the substrate in turn. The polarizer is attached to one side of the film packaging layer away from the light emitting device layer through the optical adhesive layer, and the optical adhesive layer is doped with ammonia absorbent. This application can reduce the risk of ammonia overflowing from the film packaging layer reacting with the polarizer, thereby reducing the risk of discoloration of the polarizer and improving the display effect of the display device. This application is used to reduce the risk of discoloration of polarizers.
【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制造方法、显示装置
本申请涉及显示
,特别涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(英文:OrganicLight-EmittingDiode;简称:OLED)显示基板具有可柔性显示的优点,广泛应用于柔性显示产品当中。OLED显示基板包括衬底基板以及依次设置在衬底基板上的发光器件层、封装层和偏光片(英文:Polarizer;简称:POL),封装层主要用于将发光器件层与空气隔离,偏光片主要用于对OLED显示基板进行调光。目前,由于柔性显示的市场需求,封装层主要为通过薄膜封装(英文:ThinFilmEncapsulation;简称:TFE)技术形成的薄膜封装层。形成薄膜封装层的过程包括:以氨气(NH3)、甲硅烷(SiH4)和氮气(N2)等的混合气体作为反应气体在发光器件层远离衬底基板的一侧沉积氮化硅作为薄膜封装层。但是,NH3、SiH4和N2反应的过程中会生成铵离子,在形成薄膜封装层后,部分铵离子会残留在薄膜封装层中,在显示基板的使用过程中,这些铵离子会以氨气的形式从薄膜封装层溢出与偏光片发生反应,导致偏光片褪色,影响显示装置的显示效果。
技术实现思路
本申请提供一种显示基板及其制造方法、显示装置,可以降低偏光片褪色的风险,从而改善显示装置的显示效果。所述技术方案如下:第一方面,提供一种显示基板,所述显示基板包括:衬底基板以及依次设置在所述衬底基板上的发光器件层、薄膜封装层、光学胶层和偏光片,所述偏光片通过所述光学胶层贴附在所述薄膜封装层远离所述发光器件层的一面上,所述光学胶层中掺杂有氨气吸收物。可选地,所述光学胶层具有 ...
【技术保护点】
1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括:衬底基板以及依次设置在所述衬底基板上的发光器件层、薄膜封装层、光学胶层和偏光片,所述偏光片通过所述光学胶层贴附在所述薄膜封装层远离所述发光器件层的一面上,所述光学胶层中掺杂有氨气吸收物。
【技术特征摘要】
1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括:衬底基板以及依次设置在所述衬底基板上的发光器件层、薄膜封装层、光学胶层和偏光片,所述偏光片通过所述光学胶层贴附在所述薄膜封装层远离所述发光器件层的一面上,所述光学胶层中掺杂有氨气吸收物。2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述光学胶层具有中央区域和围绕所述中央区域的边缘区域,所述边缘区域所掺杂的所述氨气吸收物的密度大于所述中央区域所掺杂的所述氨气吸收物的密度。3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述氨气吸收物包括硫酸氢铵和氨气分子筛中的至少一种,所述氨气分子筛的孔径大于氨气分子的孔径。4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述氨气分子筛包括4A分子筛。5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,...
【专利技术属性】
技术研发人员:李俊杰,张嵩,李园园,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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