一种基板清洗机及基板清洗系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种基板清洗机及基板清洗系统，包括打磨部件、水平移动组件、垂直移动组件和清洗喷头；其中，水平移动组件包括滑动块、连杆、圆盘和旋转驱动部件；旋转驱动部件的输出端与圆盘连接，连杆的第一端活动连接在圆盘的圆周上，连杆的第二端活动连接在滑动块上；基板置于滑动块和垂直移动组件的下方，垂直移动组件安装在滑动块上，打磨部件安装在垂直移动组件的下端，打磨部件对基板进行打磨，清洗喷头置于基板的斜上方。本实用新型专利技术主要有益效果是可靠性高，采用纯水湿润，绒棉打磨的方式，能有限整合整个行业所有的基板清洗方式，有效的处理基板表面的粉屑，火山口。避免了其他方式清洗不够彻底，超声波有限但对产品膜层的损伤问题。

A Substrate Cleaner and Substrate Cleaning System

The utility model discloses a base plate cleaning machine and a base plate cleaning system, which comprises a grinding component, a horizontal moving component, a vertical moving component and a cleaning sprinkler. The horizontal moving component comprises a slider, a connecting rod, a disc and a rotating driving component; the output end of the rotating driving component is connected with a disc, and the first end of the connecting rod. The second end of the connecting rod is movably connected to the slider; the base plate is placed under the slider and the vertical moving component, the vertical moving component is installed on the slider, the grinding component is installed at the lower end of the vertical moving component, the grinding component is used to grind the base plate, and the cleaning nozzle is placed on the oblique of the base plate. Upper. The utility model has the advantages of high reliability, adopting the method of pure water wetting and lint polishing, which can limit the integration of all the cleaning methods of the base plate in the whole industry and effectively deal with the powder on the surface of the base plate and the crater. It avoids the problem of insufficient thorough cleaning by other means, limited ultrasonic wave but damage to the product film.

【技术实现步骤摘要】
一种基板清洗机及基板清洗系统
：本技术涉及一种印刷线路板的加工
，尤其涉及一种基板清洁装置及基本清洗系统。
技术介绍
：在现有技术中对“晶片电阻”的基板表面的清洗工艺，都是采用压缩空气吹气，或者毛刷滚刷或者超声清洗的方式处理。压缩空气吹气和毛刷滚刷的主要的缺陷是不能100％剔除基板表面的脏污，而超声波对产品的二次损伤，镭切工艺后的粉屑，火山口。电子市场发展迅速的今天，电子被动元件，特别是高可靠性的电子元器件，希求的的越来越多，要求越来越严苛，如汽车品，航空航天品，整个制造工艺有别于民用品。
技术实现思路
：本技术的目的：针对这些高单价，高性能品的清洗设备和清洗系统，剔除了贴片电阻中存在的粉尘，特别是镭切工艺切割后的火山口，提高产品的的性能。本技术是对基板表面进行清洗的专用设备，是高端电阻生产过程中的一道重要工艺，能有效清洁基板表面的粉屑，镭切火山口或者其他异物，提高贴片电阻的可靠性，安全性。为了解决上述技术问题，本技术提出了一种基板清洗机及基板清洗系统，其中，一种基板清洗机，包括打磨部件、水平移动组件、垂直移动组件和清洗喷头；其中，水平移动组件包括滑动块、连杆、圆盘和旋转驱动部件；旋转驱动部件的输出端与圆盘连接，连杆的第一端活动连接在圆盘的圆周上，连杆的第二端活动连接在滑动块上；基板置于滑动块和垂直移动组件的下方，垂直移动组件安装在滑动块上，打磨部件安装在垂直移动组件的下端；清洁时，打磨部件在垂直移动组件的驱动下向基板方向移动并接触到基板表面，圆盘在旋转驱动部件的驱动下旋转，连杆的第一端沿着圆盘的圆周同步旋转，连杆的另一端驱动滑动块进行往复移动，打磨部件对基板进行打磨，清洗喷头置于基板的斜上方。在一个实施例中，所述基板清洗机还包括第一组支架和滑轨，所述滑动块上还开设和滑轨匹配的第一组孔，滑轨水平安装在第一组支架上，滑动块可在滑轨的导向下往复移动。在一个实施例中，所述垂直移动组件包括垂直移动块和直线驱动部件，滑动块上还开设了与垂直移动块匹配的第二组孔，直线驱动部件驱动垂直移动块沿第二组孔上下移动。在一个实施例中，所述基板清洗机还包括第二组支架，所述旋转驱动部件安装在第二组支架上。在一个实施例中，所述清洗喷头安装在所述第一组支架上，所述打磨部件为绒棉。本技术还提出了一种基板清洗系统，包括基板清洗机、送料机构、烘箱、输送机构和收料机构；其中，送料机构将基板运送到输送机构，输送机构将基板运送到清洗工位，基板清洗机对基板进行清洗，基板清洗结束后由输送机构送到烘箱内进行基板烘干，烘干结束后由输送机构送出烘箱，收料机构取出基板。在一个实施例中，基板清洗系统还包括翻转机构，翻转机构包括本体、第一组吸料头、转动部件、转动驱动装置、平移驱动装置和升降驱动装置，第一组吸料头安装在转动部件上，转动部件安装在转动驱动装置的输出端，本体与平移驱动装置的输出端连接，本体也与升降驱动装置的输出端连接。在一个实施例中，基板清洗机分为两组，其中每组所述的基板清洗机各清洁所述基板的一面。在一个实施例中，所述基板清洗系统还包括烘箱控制系统，在所述烘箱的两侧设有风管，烘箱控制系统控制所述烘箱内热风的温度和吹风时间，热风由所述烘箱一侧的风管进入所述烘箱，并由所述烘箱另一侧的风管吸出。在一个实施例中，所述送料机构和所述收料机构都包括料仓和移送装置，在移送装置上安装第二组吸料头，料仓内放置所述基板；其中，通过第二组吸料头吸住所述基板，移送装置将所述基板运送到所述输送机构或所述料仓内。本技术所述的技术方案主要具有如下有益效果：1、可靠性高，采用纯水湿润，绒棉打磨的方式，能有限整合整个行业所有的基板清洗方式，有效的处理基板表面的粉屑，火山口。2、避免了其他方式清洗不够彻底，超声波有限但对产品膜层的损伤问题。3、效率高，正反两面能在一台设备上同时清洗，最高能实现10S/片的清洗速度。4、简化了生产工艺流程，提高了产品的可靠性，提升了品质。5、烘箱及控制系统结构简单，热能循环，节能高效。附图说明：图1揭示了本技术某些实施例中基板清洗机的立体结构示意图。图2揭示了本技术某些实施例中带清洗喷头的基板清洗机的立体结构示意图。图3揭示了本技术某些实施例中基板清洗系统的立体结构示意图。图4揭示了本技术某些实施例中基板清洗系统中翻转机构的安装示意图。图5揭示了本技术某些实施例中基板清洗系统中送料机构的立体结构示意图。图6揭示了本技术某些实施例中送料机构中移送装置的立体结构示意图。图7揭示了本技术某些实施例中烘箱的安装示意图。具体实施方式：本技术上述的以及其他的特征、性质和优势将通过下面结合附图和实施例的描述而变的更加明显，在附图中相同的附图标记始终表示相同的特征，其中：参考图1，图1揭示了本技术某些实施例中基板清洗机的立体结构示意图。在图1的实施例中，一种基板清洗机，包括打磨部件、水平移动组件和垂直移动组件3；其中，水平移动组件包括滑动块21、连杆22、圆盘23和旋转驱动部件24；旋转驱动部件24的输出端与圆盘23连接，连杆22的第一端活动连接在圆盘23的圆周上，连杆22的第二端活动连接在滑动块21上。可以理解的是，在本实施中的旋转驱动部件24可以是马达或旋转气缸或其他的驱动形式。继续参考图1：基板置于滑动块21和垂直移动组件3的下方(图1中未标注)，垂直移动组件3安装在滑动块21上，打磨部件安装在垂直移动组件3的下端(图1中未标注)；打磨时，打磨部件在垂直移动组件3的驱动下向基板方向移动并接触到基板表面，圆盘23在旋转驱动部件24的驱动下旋转，连杆22的第一端沿着圆盘23的圆周同步旋转，连杆22的另一端驱动滑动块21进行往复移动，打磨部件1对基板进行清洁。继续参考图1，作为本实施例的优选项，基板清洗机还包括第一组支架4和滑轨5，滑动块21上还开设和滑轨5匹配的第一组孔，滑轨5水平安装在第一组支架4上，滑动块21可在滑轨5的导向下往复移动。继续参考图1，作为本实施例的优选项，垂直移动组件3包括垂直移动块31和直线驱动部件32，滑动块21上还开设了与垂直移动块31匹配的第二组孔(图1未标注)，直线驱动部件32驱动垂直移动块31沿第二组孔上下移动。可以理解的是，直线驱动部件32包括但不限定于电机丝杠或液压缸或气缸等驱动形式。继续参考图1，基板清洗机还包括第二组支架6，旋转驱动部件24安装在第二组支架6上。可以理解的是，旋转驱动部件24可以是马达或旋转气缸或其他的驱动形式。参考图2，图2揭示了本技术某些实施例中带清洗喷头的基板清洗机的立体结构示意图。基板清洗机还包括清洗喷头7，清洗喷头7置于基板的斜上方并安装在第一组支架4上。作为本实施例的优选项，打磨部件可以是绒棉，直线驱动部件可以是直线气缸，旋转驱动部件可以是马达。检测基板后，清洗喷头喷淋基板上表面，使基板保持湿润，直线气缸下顶，使绒棉接触到基板，绒棉气缸8向左运动，挤压绒棉，使之固定，马达带动圆盘转动，绒棉在连杆的驱动下左右往复运动，完成打磨基板的动作，完毕后清洗喷头再次对基板进行喷淋清洗，然后传送至下一个工位。参考图3，图3揭示了本技术某些实施例中基板清洗系统的立体结构示意图。在图3的实施例中的一种基板清洗系统，包括基板清洗机10本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板清洗机，其特征在于：包括打磨部件、水平移动组件、垂直移动组件和清洗喷头；其中，水平移动组件包括滑动块、连杆、圆盘和旋转驱动部件；旋转驱动部件的输出端与圆盘连接，连杆的第一端活动连接在圆盘的圆周上，连杆的第二端活动连接在滑动块上；基板置于滑动块和垂直移动组件的下方，垂直移动组件安装在滑动块上，打磨部件安装在垂直移动组件的下端；打磨时，打磨部件在垂直移动组件的驱动下向基板方向移动并接触到基板表面，圆盘在旋转驱动部件的驱动下旋转，连杆的第一端沿着圆盘的圆周同步旋转，连杆的另一端驱动滑动块进行往复移动，打磨部件对基板进行打磨，清洗喷头置于基板的斜上方。

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗机，其特征在于：包括打磨部件、水平移动组件、垂直移动组件和清洗喷头；其中，水平移动组件包括滑动块、连杆、圆盘和旋转驱动部件；旋转驱动部件的输出端与圆盘连接，连杆的第一端活动连接在圆盘的圆周上，连杆的第二端活动连接在滑动块上；基板置于滑动块和垂直移动组件的下方，垂直移动组件安装在滑动块上，打磨部件安装在垂直移动组件的下端；打磨时，打磨部件在垂直移动组件的驱动下向基板方向移动并接触到基板表面，圆盘在旋转驱动部件的驱动下旋转，连杆的第一端沿着圆盘的圆周同步旋转，连杆的另一端驱动滑动块进行往复移动，打磨部件对基板进行打磨，清洗喷头置于基板的斜上方。2.如权利要求1所述的基板清洗机，其特征在于：所述基板清洗机还包括第一组支架和滑轨，所述滑动块上还开设和滑轨匹配的第一组孔，滑轨水平安装在第一组支架上，所述滑动块可在滑轨的导向下往复移动。3.如权利要求2所述的基板清洗机，其特征在于：所述垂直移动组件包括垂直移动块和直线驱动部件，所述滑动块上还开设了与垂直移动块匹配的第二组孔，直线驱动部件驱动垂直移动块沿第二组孔上下移动。4.如权利要求3所述的基板清洗机，其特征在于：所述基板清洗机还包括第二组支架，所述旋转驱动部件安装在第二组支架上。5.如权利要求2所述的基板清洗机，其特征在于：所述清洗喷头安装在所述第一组支架上，所述打磨部件为绒棉。6.一种基...

【专利技术属性】
技术研发人员：董攀，王红菊，龚亮，
申请(专利权)人：昆山市和博电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32