The invention provides a mask board foreign body removal device, including a gas circulation system and an electrostatic precipitation mechanism. The gas circulation system comprises a closed chamber, a blower and suction holes arranged on the closed chamber, and a blower and suction pipeline arranged on the outer side of the closed chamber, which are respectively connected with the blower and suction holes. The electrostatic precipitation mechanism is arranged in the entrance of the closed chamber. On the outside of the mouth, the mask plate is electrostatic precipitated before the mask plate enters the inner part of the sealed chamber. When the mask plate enters the inner part of the sealed chamber, the gas circulation system can further clean the mask plate. The foreign particles on the mask can be effectively removed by the gas circulation system and the electrostatic precipitation mechanism, thus saving the cleaning time of the mask plate and reducing the cleaning time. Damage risk of mask in cleaning process.
【技术实现步骤摘要】
掩膜板异物清除装置
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种掩膜板异物清除装置。
技术介绍
在显示
,液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光(ActiveMatrixOrganicLight-EmittingDiode,AMOLED)显示器等平板显示装置因具有机身薄、高画质、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用,如:移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本屏幕等。在LCD和AMOLED的制造过程中,会多次利用构图工艺。具体为,在涂有光刻胶的基板上方放置掩膜板(Mask),然后利用曝光机对基板进行曝光,具体的,曝光机通过开启超高压汞灯发出UV紫外光线,将掩膜板上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上,基于掩膜板的图案,光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影,即可去除光刻胶被曝光的部分,保留光刻胶未被曝光的部分(正性光刻胶),或者去除光刻胶未被曝光的部分,保留光刻胶被曝光的部分(负性光刻胶),从而使光刻胶形成所需的图形。构图工艺通常在无尘的洁净室内进行,即曝光机放置于洁净室中对基板进行曝光。所述曝光机的构架通常主要包括光源灯室(LampHouse)、设于光源灯室上与光源灯室相连接的照明系镜组、设于光源灯室及照明系镜组下方具有构图图案的掩膜板、设于掩膜板下方的投影光学镜组、及设于投影光学镜组下方用于承载基板的工作台,另外为了保证曝光环境便于调节,曝光机还通常会采用密封的曝光腔体设计,其中,掩膜板、投影光学镜组、及工作台设置于曝光腔体内。在光刻转印过程 ...
【技术保护点】
1.一种掩膜板异物清除装置,其特征在于,包括气体循环系统(1)及静电除尘机构(2);所述气体循环系统(1)包括密闭腔体(10)及设置在密闭腔体(10)外侧的吹气管道和吸气管道;所述密闭腔体(10)的两相对侧面上分别设有吹气孔(11)及吸气孔(12),所述吹气管道和吸气管道分别与吹气孔(11)和吸气孔(12)连接;所述密闭腔体(10)一侧设有供掩膜板(9)进出密闭腔体(10)内部的入口及对入口进行封闭的挡板(15);所述静电除尘机构(2)设置在所述密闭腔体(10)的入口外侧以在掩膜板(9)进入所述密闭腔体(10)内部之前对该掩膜板(9)进行静电除尘处理。
【技术特征摘要】
1.一种掩膜板异物清除装置,其特征在于,包括气体循环系统(1)及静电除尘机构(2);所述气体循环系统(1)包括密闭腔体(10)及设置在密闭腔体(10)外侧的吹气管道和吸气管道;所述密闭腔体(10)的两相对侧面上分别设有吹气孔(11)及吸气孔(12),所述吹气管道和吸气管道分别与吹气孔(11)和吸气孔(12)连接;所述密闭腔体(10)一侧设有供掩膜板(9)进出密闭腔体(10)内部的入口及对入口进行封闭的挡板(15);所述静电除尘机构(2)设置在所述密闭腔体(10)的入口外侧以在掩膜板(9)进入所述密闭腔体(10)内部之前对该掩膜板(9)进行静电除尘处理。2.如权利要求1所述的掩膜板异物清除装置,其特征在于,所述静电除尘机构(2)包括相对设置的分别对掩膜板(9)的上表面和下表面进行静电除尘处理的上静电除尘单元(21)及下静电除尘单元(22)。3.如权利要求2所述的掩膜板异物清除装置,其特征在于,所述上静电除尘单元(21)和下静电除尘单元(22)均为静电棒。4.如权利要求2所述的掩膜板异物清除装置,其特征在于,所述上静电除尘单元(21)和下静电除尘单元(22)均为离子风枪。5.如权利要求1所述的掩膜板异物清除装置,其特征在于,所述吹气管道通过所述吹气孔(11)向所述密闭腔体(10)内部吹入压缩空气、氮气或离子气体。6.如权利要求1所述的掩膜板异物清除装置,其特征在于,还包括位于所述密闭腔体(10)内部远离入口一侧顶部...
【专利技术属性】
技术研发人员:王超,
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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