The object of the present invention is to provide a technique for suppressing substrate contamination. The substrate processing device includes: a substrate holding part, which holds the substrate horizontally; a processing liquid supply part, which supplies the processing liquid to the substrate held on the substrate holding part; and a receiving part, which surrounds the substrate holding part and receives the processing liquid scattered from the substrate. In addition, the inner and outer surfaces of the liquid receiving part have a plurality of grooves exposed on the side of the substrate held on the substrate, and the extension directions of the grooves each contain components in the vertical direction. Therefore, the droplets of the treated liquid are easy to confluence in the tank and fall due to self-weight.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】衬底处理装置
本专利技术涉及向衬底供给处理液从而对该衬底进行处理的技术。
技术介绍
以往，在使衬底旋转的同时向该衬底供给处理液的技术是已知的。在这种装置中，被供给至衬底的处理液由于该衬底的旋转而向周围飞散，并与围绕该衬底的周围的受液部的内周面碰撞。碰撞后的处理液的大部分沿着该内周面落下，但也存在碰撞后的处理液的一部分附着于该内周面的情况。若对附着于受液部的内周面的处理液置之不理，则该处理液可能会固化而成为颗粒。另外，若对附着于受液部的内周面的处理液置之不理，则还可能出现下述现象：在此后的液体处理中从衬底向受液部飞散的新处理液与附着于受液部的内周面的旧处理液碰撞，这些处理液向衬底回弹(也称为回溅现象)。颗粒的产生、回溅现象成为污染衬底的原因。因此，为了抑制这样的污染，专利文献1中公开了在比受液部的内周面更靠内侧处设置筛网部件的技术。另外，专利文献2中公开了在比受液部的内周面更靠内侧处设置PVA(polyvinylalcohol：聚乙烯醇)海绵等亲水性部件的技术。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2014-207320号公报专利文献2：日本特开2010-1490...
【技术保护点】
1.衬底处理装置，其具备：衬底保持部，其水平地保持衬底；处理液供给部，其向被保持于所述衬底保持部的所述衬底供给处理液；受液部，其围绕所述衬底保持部的周围，并接收从所述衬底飞散的所述处理液；和衬底旋转部，其以穿过被保持于所述衬底保持部的所述衬底的中心且沿铅垂方向延伸的旋转轴为中心而使所述衬底旋转，其中，所述受液部的内周面具有在被保持于所述衬底保持部的所述衬底侧露出的多个槽，所述多个槽各自的延伸方向包含铅垂方向的分量。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.26 JP 2016-1865341.衬底处理装置，其具备：衬底保持部，其水平地保持衬底；处理液供给部，其向被保持于所述衬底保持部的所述衬底供给处理液；受液部，其围绕所述衬底保持部的周围，并接收从所述衬底飞散的所述处理液；和衬底旋转部，其以穿过被保持于所述衬底保持部的所述衬底的中心且沿铅垂方向延伸的旋转轴为中心而使所述衬底旋转，其中，所述受液部的内周面具有在被保持于所述衬底保持部的所述衬底侧露出的多个槽，所述多个槽各自的延伸方向包含铅垂方向的分量。2.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中，所述延伸方向是由所述衬底的旋转方向的分量与铅垂向下的分量合成的方向。3.如权利要求1或2所述的衬底处理装置，其中，所述多个槽包含与所述衬底的旋转...
【专利技术属性】
技术研发人员：铃木达大，德利宪太郎，西村高志，结城嘉晓，玉置康人，宫路信行，平下友美，内田博章，奥谷洋介，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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