The invention improves the polymerization stability, chemical stability and water resistance of resin film. The surfactant composition according to the embodiment comprises a surfactant (A) expressed in general formula (1) and an anionic surfactant (B) having hydrophobic groups different from surfactant (A). In the formula, R
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面活性剂组合物
本专利技术的实施方式涉及表面活性剂组合物，另外，涉及使用该表面活性剂组合物的树脂水分散体的制造方法。
技术介绍
通过乳液聚合制造的树脂水分散体被用于水性涂料等各种涂布材料、粘合剂、粘接剂、纸加工用粘结剂等。乳液聚合中，作为单体的乳化剂和生成的树脂的分散剂，使用阴离子性或非离子性的表面活性剂。通常阴离子性表面活性剂的聚合稳定性优异，但是化学稳定性不充分。另一方面，非离子性表面活性剂的化学稳定性优异，但是聚合稳定性不充分。因此，在制造需要高的化学稳定性的树脂水分散体之际，使用阴离子性表面活性剂和非离子性表面活性剂的混合体系。但是，在使用的表面活性剂为非反应性的情况下，由这些树脂水分散体得到的树脂膜存在耐水性不足的问题。作为解决该问题的方法，专利文献1、2中提出使用反应性的表面活性剂的方法，另外专利文献3中提出并用反应性的表面活性剂和丙烯酰胺系单体。但是，这些专利技术中在聚合稳定性和耐水性方面不让人满意。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2002－97212号公报专利文献2:日本特开2003－268021号公报专利文献3:日本特开2004－292...
【技术保护点】
1.一种表面活性剂组合物，含有下述通式(1)表示的表面活性剂(A)和具有与表面活性剂(A)不同的疏水基团的阴离子性表面活性剂(B)，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.29 JP 2016-1911191.一种表面活性剂组合物，含有下述通式(1)表示的表面活性剂(A)和具有与表面活性剂(A)不同的疏水基团的阴离子性表面活性剂(B)，式(1)中，D1表示下述化学式D1－1或D1－2的任一个表示的聚合性的不饱和基团，化学式D1－1和D1－2中的R2表示氢原子或甲基，R1表示选自以下所示的基团中的1种或2种基团，m1和m2以表面活性剂(A)整体的平均值计分别为1～2，A1表示碳原子数2～4的亚烷基，m3表示氧亚烷基的平均加成摩尔数且为1～100的数，D1-1：D1-2：R1：2.根据权利要求1所述的表面活性剂组合物，其中，阴离子性表面活性剂(B)具有聚合性碳－碳不饱和键。3.根据权利要求1或2所述的表面活性剂组合物，其中，阴离子性表面活性剂(B)为具有选自苯乙烯化苯基、碳原子数10～18的烷基、碳原子数16～18的烯基、1－(烯丙基氧基甲基)烷基、和烷基丙烯基苯基中至少一种疏水基团的...
【专利技术属性】
技术研发人员：城籔将虎，盐原启，小笠原亚沙子，木村拓郎，陶颀，
申请(专利权)人：第一工业制药株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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