物料清洗装置及烹饪器具制造方法及图纸

技术编号:21149159 阅读:27 留言:0更新日期:2019-05-22 03:50
本实用新型专利技术提供了一种物料清洗装置及烹饪器具,物料清洗装置包括:清洗腔体、运动件、驱动机构和密封件。运动件设置在清洗腔体内;驱动机构至少部分位于清洗腔体外并与运动件相连接;密封件相对的两个侧壁分别与驱动机构及清洗腔体相接触,包括环状主体和设置在环状主体的侧壁上且沿径向方向延伸的密封脊;其中,驱动机构与密封件侧壁的接触面和清洗腔体与密封件侧壁的接触面中的一个为能够相对密封件运动的运动面,另一个为与密封件保持相对静止的静止面,环状主体套设在静止面上,密封脊与运动面相抵靠。该物料清洗装置,使密封脊与运动面相抵靠,减少了驱动机构受到的摩擦阻力;且密封脊径向受力,相较于轴向受力,不易受到其他因素的影响。

Material cleaning equipment and cooking utensils

The utility model provides a material cleaning device and a cooking utensil. The material cleaning device comprises a cleaning chamber, a moving part, a driving mechanism and a sealing part. The moving parts are arranged in the cleaning chamber body; the driving mechanism is at least partially located outside the cleaning chamber and connected with the moving parts; the opposite two side walls of the sealing parts are respectively in contact with the driving mechanism and the cleaning chamber body, including the ring body and the sealing ridge arranged on the side wall of the ring body and extending along the radial direction; where the contact surface between the driving mechanism and the side wall of the sealing parts and the cleaning chamber body are respectively. One of the contact surfaces on the side wall of the seal is the moving surface which can move relative to the seal, the other is the static surface which keeps relative static with the seal. The ring body is set on the static surface, and the sealing ridge is against the moving surface. The material cleaning device makes the sealing ridge against the moving surface, reduces the friction resistance of the driving mechanism, and the radial force of the sealing ridge is less affected by other factors than the axial force.

【技术实现步骤摘要】
物料清洗装置及烹饪器具
本技术涉及厨房电器
,具体而言,涉及一种物料清洗装置及包含该物料清洗装置的烹饪器具。
技术介绍
目前,智能化的烹饪器具如自动电饭煲,采用上盖洗米时,上盖洗米盒内通常设有运动件实现相应功能,运动件与驱动机构相连实现自动运动。由于驱动机构部分位于洗米盒外,而运动件位于洗米盒内,使得驱动机构与外部有传递连接,故而需在驱动机构与洗米盒之间增加密封件防止洗米时水溢出洗米盒。但是,驱动机构与密封件之间也会发生比较严重的摩擦磨损,既增加了驱动机构的负载,也缩短了密封件的使用寿命。
技术实现思路
为了解决上述技术问题至少之一,本技术的一个目的在于提供一种物料清洗装置。本技术的另一个目的在于提供一种包括上述物料清洗装置的烹饪器具。为了实现上述目的,本技术第一方面的技术方案提供了一种物料清洗装置,包括:清洗腔体;运动件,设置在所述清洗腔体内,并能够相对所述清洗腔体运动;驱动机构,至少部分位于所述清洗腔体外,并与所述运动件相连接,用于驱动所述运动件运动;密封件,设置在所述驱动机构与所述清洗腔体之间,且其相对的两个侧壁分别与所述驱动机构及所述清洗腔体相接触,所述密封件包括环状主体和设置在所述环状主体的侧壁上且沿所述环状主体的径向方向延伸的密封脊;其中,所述驱动机构与所述密封件的侧壁的接触面和所述清洗腔体与所述密封件的侧壁的接触面中的一个为能够相对所述密封件运动的运动面,另一个为与所述密封件保持相对静止的静止面,所述环状主体套设在所述静止面上,所述密封脊与所述运动面相抵靠。本技术第一方面的技术方案提供的物料清洗装置,包括清洗腔体、运动件、驱动机构和密封件,运动件能够在清洗腔体内运动实现相应的功能;驱动机构与运动件相连,为运动件的运动提供动力,实现运动件的自动运动;且驱动机构至少部分位于清洗腔体外,能够减小对清洗腔体内部空间的占用,从而提高清洗腔体的空间利用率;并相应在驱动机构与清洗腔体之间设置了密封件,以防止物料清洗过程中清洗用水从驱动机构与清洗腔体之间的间隙溢出;同时,密封件包括环状主体和设置在环状主体的侧壁上且沿环状主体的径向方向延伸的密封脊,由于密封件的两个相对的侧壁分别与驱动机构和清洗腔体相接触,而驱动机构与清洗腔体之间会发生相对运动,故而驱动机构与密封件的接触面及清洗腔体与密封件的接触面中的一个会相对密封件运动,与密封件之间产生摩擦阻力使驱动机构的运动受到阻力,而另外一个会相对密封件保持静止,因此,将环状主体套设在静止面上,使密封脊与运动面相抵靠,由于密封脊相较于环状主体厚度较薄,故而相较于现有技术减小了密封件与运动面的摩擦面积,从而减少了驱动机构受到的摩擦阻力,降低了驱动机构的负载,并减小了密封件的摩擦磨损,延长了密封件的使用寿命;且密封脊径向受力,相较于轴向受力,不易受到其他因素的影响,比如对于清洗腔体包括本体和清洗盖的情况而言,不易受到清洗盖的重力及清洗盖与本体的锁紧力的影响,因而有利于进一步减小摩擦阻力。值得说明的是,密封脊的延伸方向指的是由密封脊的根部指向密封脊的顶部的方向,因此,本申请中“设置所述环状主体的侧壁上且沿所述环状主体的径向方向延伸的密封脊”指的是,密封脊的顶部相对于密封脊的根部沿环状主体的径向方向延伸。至于运动件的具体运动形式及运动功能不受限制。比如:运动件可以是刮料件,通过旋转运动的方式刮掉粘在清洗腔体内壁面上的物料以促进下料;或者,运动件为卸料阀,通过上下移动的方式打开或关闭卸料口;或者,运动件为喷头,通过上下移动的方式或者旋转摆动的方式向清洗腔体的内壁面喷水,以冲刷掉粘在清洗腔体内壁面上的物料促进下料或者对清洗腔体进行清洗;或者其他形式的运动件,在此不再一一列举。另外,本技术提供的上述技术方案中的物料清洗装置还可以具有如下附加技术特征:在上述技术方案中,所述清洗腔体和/或所述驱动机构上设有支撑部,所述支撑部与所述密封件相配合,能够限制所述密封件向下运动。在清洗腔体和/或驱动机构上设置支撑部,利用支撑部与密封件的配合对密封件起到支撑作用,能够有效避免密封件向下运动,从而保证了密封件位置的稳定性,提高了密封件的使用可靠性。在上述技术方案中,所述环状主体的底部设有凹槽,所述支撑部为与所述凹槽相适配的凸起,所述凸起插入所述凹槽内,以限制所述密封件向下运动;或者,所述环状主体的底部设有凸起,所述支撑部为与所述凸起相适配的凹槽,所述凸起插入所述凹槽内,以限制所述密封件向下运动;或者,所述环状主体背离所述密封脊的一侧的侧壁上设有凹槽,所述支撑部为与所述凹槽相适配的凸起,所述凸起插入所述凹槽内,以限制所述密封件向下运动;或者,所述环状主体背离所述密封脊的一侧的侧壁上设有凸起,所述支撑部为与所述凸起相适配的凹槽,所述凸起插入所述凹槽内,以限制所述密封件向下运动。在环状主体的底部设置凹槽,将支撑部相应设置为凸起,则凸起向上插入凹槽内,即可对密封件施加向上的作用力,从而对密封件起到向上的支撑作用,以避免密封件向下运动。或者,调换凹槽和凸起的位置,在环状主体的底部设置凸起,将支撑部相应设置为凹槽,则凸起向下插入凹槽内,凹槽同样可以对密封件施加向上的作用力,从而对密封件起到向上的支撑作用,以避免密封件向下运动。或者,改变凹槽和凸起的位置,将凹槽和凸起设置在环状主体背离密封脊的一侧,则凸起水平插入凹槽内,同样可以对密封件施加向上的作用力,从而对密封件起到向上的支撑作用,以避免密封件向下运动。当然,支撑部不局限于上述各种凹槽与凸起的配合方式,也可以为其他形式,比如:支撑部为平面或板状结构,与密封件的底面相配合,在此不再一一列举,由于均能够实现本技术的目的,且均为脱离本技术的设计思想和宗旨,因而均应在本技术的保护范围内。在上述任一技术方案中,所述密封脊的厚度沿远离所述主体的方向逐渐减薄;和/或,所述密封脊的平均厚度在0.2mm-0.5mm的范围内;和/或,所述密封脊的顶部的厚度与其根部的厚度的比值大于或等于0.4且小于1;和/或,所述密封脊的顶部为圆弧面。由于密封脊的根部与环状主体相连,顶部与运动面相抵靠,故而使密封脊的厚度沿远离环状主体的方向逐渐减薄,既保证了密封脊的根部具有相对较高的强度,从而有利于提高密封脊与环状主体的连接强度,降低密封脊发生断裂或脱落的概率,提高了密封件的使用可靠性;又使得密封脊的顶部尺寸相对较小,有利于进一步减小其与运动面的接触面积,从而进一步减小驱动机构或清洗腔体与密封件的摩擦阻力,进而进一步降低驱动机构的负载,并进一步延长密封件的使用寿命;同时,密封脊的顶部相对较薄,有利于其发生弹性变形,以提高密封可靠性。密封脊过厚时与运动面的接触面积相对较大,故而摩擦阻力也相对较大;而密封脊过薄时强度较小,容易发生过度变形而失效,因此合理设计密封脊的厚度非常重要。本公司的技术人员通过大量的试验和研究后发现,将密封脊的平均厚度(即:密封脊的厚度由根部向顶部均匀变化时,密封脊的根部厚度与顶部厚度之和的一半)控制在0.2mm-0.5mm的范围内,既保证了密封脊具有相对较高的强度,以保证其使用可靠性,又保证了密封脊与运动面之间的摩擦面积相对较小,以有效降低驱动机构的运动负载。当然,不同的物料清洗装置,其形状、规格、尺寸、要求不尽相同本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种物料清洗装置,其特征在于,包括:清洗腔体;运动件,设置在所述清洗腔体内,并能够相对所述清洗腔体运动;驱动机构,至少部分位于所述清洗腔体外,并与所述运动件相连接,用于驱动所述运动件运动;密封件,设置在所述驱动机构与所述清洗腔体之间,且其相对的两个侧壁分别与所述驱动机构及所述清洗腔体相接触,所述密封件包括环状主体和设置在所述环状主体的侧壁上且沿所述环状主体的径向方向延伸的密封脊;其中,所述驱动机构与所述密封件的侧壁的接触面和所述清洗腔体与所述密封件的侧壁的接触面中的一个为能够相对所述密封件运动的运动面,另一个为与所述密封件保持相对静止的静止面,所述环状主体套设在所述静止面上,所述密封脊与所述运动面相抵靠。

【技术特征摘要】
1.一种物料清洗装置,其特征在于,包括:清洗腔体;运动件,设置在所述清洗腔体内,并能够相对所述清洗腔体运动;驱动机构,至少部分位于所述清洗腔体外,并与所述运动件相连接,用于驱动所述运动件运动;密封件,设置在所述驱动机构与所述清洗腔体之间,且其相对的两个侧壁分别与所述驱动机构及所述清洗腔体相接触,所述密封件包括环状主体和设置在所述环状主体的侧壁上且沿所述环状主体的径向方向延伸的密封脊;其中,所述驱动机构与所述密封件的侧壁的接触面和所述清洗腔体与所述密封件的侧壁的接触面中的一个为能够相对所述密封件运动的运动面,另一个为与所述密封件保持相对静止的静止面,所述环状主体套设在所述静止面上,所述密封脊与所述运动面相抵靠。2.根据权利要求1所述的物料清洗装置,其特征在于,所述清洗腔体和/或所述驱动机构上设有支撑部,所述支撑部与所述密封件相配合,能够限制所述密封件向下运动。3.根据权利要求2所述的物料清洗装置,其特征在于,所述环状主体的底部设有凹槽,所述支撑部为与所述凹槽相适配的凸起,所述凸起插入所述凹槽内,以限制所述密封件向下运动;或者所述环状主体的底部设有凸起,所述支撑部为与所述凸起相适配的凹槽,所述凸起插入所述凹槽内,以限制所述密封件向下运动;或者所述环状主体背离所述密封脊的一侧的侧壁上设有凹槽,所述支撑部为与所述凹槽相适配的凸起,所述凸起插入所述凹槽内,以限制所述密封件向下运动;或者所述环状主体背离所述密封脊的一侧的侧壁上设有凸起,所述支撑部为与所述凸起相适配的凹槽,所述凸起插入所述凹槽内,以限制所述密封件向下运动。4.根据权利要求1至3中任一项所述的物料清洗装置,其特征在于,所述密封脊的厚度沿远离所述环状主体的方向逐渐减薄;和/或所述密封脊的平均厚度在0.2mm-0.5mm的范围内;和/或所述密封脊的顶部的厚度与其根部的厚度的比值大于或等于0.4且小于1;和/或所述密封脊的顶部为圆弧面。5.根据权利要求1至3中任一项所述的物料清洗装置,其特征在于,所述密封脊的纵截面呈等腰梯形,所述等腰梯形的高垂直于所述环状主体的侧壁,所述等腰梯形的下底边与所述环状主体相连;和/或所述密封脊的数量为多个,多个所述密封脊平行设置;和/或所述环状主体与所述静止面之间的干涉量在0.1mm-1.5mm的范围内;和...

【专利技术属性】
技术研发人员:潘典国杨保民何新华周忠宝周亚刘小力
申请(专利权)人:佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司
类型:新型
国别省市:广东,44

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