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一种地瓜的栽培方法技术

技术编号:21097434 阅读:197 留言:0更新日期:2019-05-15 22:37
本发明专利技术涉及一种地瓜的栽培方法。依次进行备垄、栽苗和覆膜。本发明专利技术使地瓜长在地表,一棵地瓜秧上大概接多少地瓜,差不多就能知道,顺着地瓜芽的方向拔起地瓜几乎就都能拔出,这样就不需要盲目的起地瓜了,也防止了在起地瓜的同时把地瓜撅断,且本技术减少的草的生长,也减少过多养分的流失从而还可以使地瓜增产,通过光合作用以及防止过多的水分进入,还可以使地瓜更香甜。

A Cultivation Method of Sweet Melon

The invention relates to a cultivation method of sweet potato. Ridge preparation, seedling cultivation and film mulching were carried out in turn. The invention enables the sweet potatoes to grow on the surface, and about how many sweet potatoes are connected to a sweet potato seedling. It can almost be known that the sweet potatoes can be pulled out by pulling them up along the direction of the sweet potato bud, so that the blind sweet potatoes are not needed, and the sweet potatoes are not broken at the same time as the sweet potatoes are lifted, and the growth of grass reduced by this technology can also reduce the loss of excessive nutrients, thereby increasing the yield of sweet potatoes. Through photosynthesis and preventing excessive water from entering, the sweet potato can also be made more fragrant.

【技术实现步骤摘要】
一种地瓜的栽培方法
:本专利技术涉及一种地瓜的栽培方法。
技术介绍
:现市面上,大都像玉米垄稍宽的垄台直接栽种地瓜苗,这样就使得地瓜秧在接瓜的时候大部分会向地下生长,秋天时,起地瓜就需要借助镢头等一些工具的撅垄起地瓜,这样还会导致在起地瓜的同时经常会抛断地瓜,且这样正常生长出的地瓜产量也不是很好,受外部因素影响地瓜生长层面较大。
技术实现思路
:本专利技术正是针对上述问题,提供了一种地瓜的栽培方法。为了实现上述目的,本专利技术采用如下技术方案,1、备垄首先在平整的地上起两个垄,接着在垄台底部放置底肥和农药,然后往回收土,再经一遍垄,完成了备垄;2、栽苗栽苗的同时放入化肥,然后等2~3天,观察成活率,没有成活的地瓜苗再补栽一遍;3、覆膜给补完苗的地瓜苗覆膜,覆膜所采用的膜为宽药膜,宽度为95cm,厚度为0.01~0.1mm。垄台的切面为梯形,上边长为30~35cm,高为20cm。备垄后需静置2~3天定型。如果不定型泥土松动,这样的空隙会较大,垄易变形,覆膜的时候也不好覆,而且栽完的地瓜芽上层土过厚,影响成活率。本专利技术的有益效果:通常地瓜的长势都是垂直纵向生长的,膜是采用黑色加厚的药膜,本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种地瓜的栽培方法,其特征在于,具体的栽培步骤为,(1)备垄首先在平整的地上起两个垄,接着在垄台底部放置底肥和农药,然后往回收土,再经一遍垄,完成了备垄;(2)栽苗栽苗的同时放入化肥,然后等2~3天,观察成活率,没有成活的地瓜苗再补栽一遍;(3)覆膜给补完苗的地瓜苗覆膜,覆膜所采用的膜为宽药膜,宽度为95cm,厚度为0.01~0.1mm。

【技术特征摘要】
1.一种地瓜的栽培方法,其特征在于,具体的栽培步骤为,(1)备垄首先在平整的地上起两个垄,接着在垄台底部放置底肥和农药,然后往回收土,再经一遍垄,完成了备垄;(2)栽苗栽苗的同时放入化肥,然后等2~3天,观察成活率,没有成活的地瓜苗再补栽一遍;(3)覆膜给补完苗的...

【专利技术属性】
技术研发人员:李袁鑫
申请(专利权)人:李袁鑫
类型:发明
国别省市:辽宁,21

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