一种用于晶体外缘的打磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及晶体加工设备技术领域，且公开了一种用于晶体外缘的打磨装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有固定块，所述固定块的顶部开设有滑槽，所述滑槽的内部活动安装有滑动柱，所述滑动柱的顶部固定安装有载板，所述载板的顶部开设有第一凹槽，所述第一凹槽的内部活动安装有活动块，所述活动块的顶部开设有第二凹槽，所述活动块的顶部且位于第二凹槽的背面固定安装有固定板，所述第二凹槽的内部活动安装有限位板。该用于晶体外缘的打磨装置，使待打磨晶体固定更紧固，防止在晶体外缘打磨过程中，出现因晶体发生移位而导致晶体打磨效果差的情况，极大的提高了晶体外缘的打磨加工效果。

A Grinding Device for Crystal Outer Edge

The utility model relates to the technical field of crystal processing equipment, and discloses a grinding device for crystal outer edge, including a base, the top of the base is fixed with a fixed block, the top of the fixed block is provided with a sliding groove, the internal movement of the sliding groove is installed with a sliding column, the top of the sliding column is fixed with a supporting plate, and the top of the supporting plate is provided with a first concave. A movable block is arranged in the inner activity of the first groove, and a second groove is arranged at the top of the movable block, a fixed plate is fixed on the top of the movable block and on the back of the second groove, and a finite position plate is fixed in the inner activity of the second groove. The grinding device used for the crystal outer edge makes the crystal to be grinded fixed more tightly and prevents the poor grinding effect caused by the crystal displacement during the grinding process of the crystal outer edge, which greatly improves the grinding effect of the crystal outer edge.

【技术实现步骤摘要】
一种用于晶体外缘的打磨装置
本技术涉及晶体加工设备
，具体为一种用于晶体外缘的打磨装置。
技术介绍
晶体是由大量微观物质单位按一定规则有序排列的结构，因此可以从结构单位的大小来研究判断排列规则和晶体形态，晶体按其结构粒子和作用力的不同可分为四类，离子晶体、原子晶体、分子晶体和金属晶体，在晶体加工中需要用到打磨设备对晶体外缘进行打磨，使晶体外缘保持平滑。传统的晶体外缘的打磨装置由于结构原因在进行晶体外缘打磨时，经常会出现晶体固定不稳定而移位的情况，从而导致晶体打磨效果较差，故而提出一种用于晶体外缘的打磨装置来解决上述提出的问题。
技术实现思路
（一）解决的技术问题针对现有技术的不足，本技术提供了一种用于晶体外缘的打磨装置，具备打磨效果好等优点，解决了传统的晶体外缘的打磨装置由于结构原因在进行晶体外缘打磨时，经常会出现晶体固定不稳定而移位的情况，从而导致晶体打磨效果较差的问题。（二）技术方案为实现上述打磨效果好的目的，本技术提供如下技术方案：一种用于晶体外缘的打磨装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有固定块，所述固定块的顶部开设有滑槽，所述滑槽的内部活动安装有滑动柱，所述滑动柱的顶部固定安装有载板，所述载板的顶部开设有第一凹槽，所述第一凹槽的内部活动安装有活动块，所述活动块的顶部开设有第二凹槽，所述活动块的顶部且位于第二凹槽的背面固定安装有固定板，所述第二凹槽的内部活动安装有限位板，所述载板的左侧插接有一端延伸至第一凹槽内部并与活动块活动连接的第一摇杆，所述第一摇杆的左侧固定安装有第一摇把，所述活动块的正面插接有一端延伸至第二凹槽内部并与限位板活动连接的第二摇杆，所述第二摇杆的底部固定安装有第二摇把，所述滑动柱的表面且位于固定块的上方套接有推杆，所述底座的顶部且位于固定块的左侧固定安装有支架，所述支架的顶部插接有一端贯穿支架的转轴，所述转轴的顶部固定安装有压板，所述转轴的顶部固定安装有转盘，所述转盘顶部的左侧固定安装有转柄，所述底座的顶部且位于固定块的右侧固定安装有液压伸缩杆，所述液压伸缩杆的顶部固定安装有防护罩，所述防护罩的内部固定安装有电机，所述电机的输出轴固定安装有一端贯穿防护罩内壁顶部的打磨轴，所述打磨轴的表面套接有打磨盘。优选的，所述底座的底部活动安装有滚轮，所述滚轮的数量为四个，且滚轮分布于底座的底部四角。优选的，所述第一摇把与第二摇把的表面均固定安装有增阻筋条，所述第一摇杆与第二摇杆分别与载板和活动块螺纹连接。优选的，所述支架呈L形，所述推杆的表面套接有橡胶套，所述压板的底部粘接有海绵垫。优选的，所述防护罩的顶部固定安装有位于打磨盘外部的安全罩，所述安全罩的左侧开设有打磨盘通过的通孔。优选的，所述载板的正面固定安装有防护板，所述防护板为透明强化玻璃，所述防护罩的左侧开设有通口，所述通口的内壁固定安装有出气格栅。（三）有益效果与现有技术相比，本技术提供了一种用于晶体外缘的打磨装置，具备以下有益效果：1、该用于晶体外缘的打磨装置，通过设置限位板，利用第二摇把摇动第二摇杆，可以使第二摇杆在活动块内部螺旋移动，从而使与第二摇杆活动连接的限位板在第二凹槽内移动，可以将待打磨晶体初步固定，通过转柄转动转盘可以使转轴在支架内部螺旋移动，可以使压板移动至将待打磨晶体再次压紧，使待打磨晶体固定更紧固，防止在晶体外缘打磨过程中，出现因晶体发生移位而导致晶体打磨效果差的情况，极大的提高了晶体外缘的打磨加工效果。2、该用于晶体外缘的打磨装置，通过设置第一摇杆，利用第一摇把摇动第一摇杆，可以使第一摇杆在载板内部螺旋移动，从而使与第一摇杆活动连接的活动块在第一凹槽内部移动，可以调节晶体外缘与打磨盘之间的间距，方便了晶体的打磨，利用液压伸缩杆伸缩的工作特性，使液压伸缩杆带动防护罩升降，从而达到调节安装在防护罩内部的电机等结构高度的目的，即可达到调节打磨盘高度的目的，方便了晶体外缘的打磨工艺。附图说明图1为本技术正面结构示意图；图2为本技术A处结构放大示意图。图中：1底座、2固定块、3滑槽、4滑动柱、5载板、6第一凹槽、7活动块、8第二凹槽、9固定板、10限位板、11第一摇杆、12第一摇把、13第二摇杆、14第二摇把、15推杆、16支架、17转轴、18压板、19转盘、20转柄、21液压伸缩杆、22防护罩、23电机、24打磨轴、25打磨盘。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-2，一种用于晶体外缘的打磨装置，包括底座，底座1的底部活动安装有滚轮，滚轮的数量为四个，且滚轮分布于底座1的底部四角，底座1的顶部固定安装有固定块2，固定块2的顶部开设有滑槽3，滑槽3的内部活动安装有滑动柱4，滑动柱4的顶部固定安装有载板5，载板5的正面固定安装有防护板，防护板为透明强化玻璃，防护罩22的左侧开设有通口，通口的内壁固定安装有出气格栅，载板5的顶部开设有第一凹槽6，第一凹槽6的内部活动安装有活动块7，活动块7的顶部开设有第二凹槽8，活动块7的顶部且位于第二凹槽8的背面固定安装有固定板9，第二凹槽8的内部活动安装有限位板10，载板5的左侧插接有一端延伸至第一凹槽6内部并与活动块7活动连接的第一摇杆11，第一摇杆11的左侧固定安装有第一摇把12，活动块7的正面插接有一端延伸至第二凹槽8内部并与限位板10活动连接的第二摇杆13，第二摇杆13的底部固定安装有第二摇把14，第一摇把12与第二摇把14的表面均固定安装有增阻筋条，第一摇杆11与第二摇杆13分别与载板5和活动块7螺纹连接，滑动柱4的表面且位于固定块2的上方套接有推杆15，底座1的顶部且位于固定块2的左侧固定安装有支架16，支架16呈L形，推杆15的表面套接有橡胶套，压板18的底部粘接有海绵垫，支架16的顶部插接有一端贯穿支架16的转轴17，转轴17的顶部固定安装有压板18，转轴17的顶部固定安装有转盘19，转盘19顶部的左侧固定安装有转柄20，底座1的顶部且位于固定块2的右侧固定安装有液压伸缩杆21，液压伸缩杆21的型号可为LX-XTL100，液压伸缩杆21的顶部固定安装有防护罩22，防护罩22的顶部固定安装有位于打磨盘25外部的安全罩，安全罩的左侧开设有打磨盘25通过的通孔，防护罩22的内部固定安装有电机23，电机23的型号可为XD-ZYC-110/11，电机23的输出轴固定安装有一端贯穿防护罩22内壁顶部的打磨轴24，打磨轴24的表面套接有打磨盘25，通过设置限位板10，利用第二摇把14摇动第二摇杆13，可以使第二摇杆13在活动块7内部螺旋移动，从而使与第二摇杆13活动连接的限位板10在第二凹槽8内移动，可以将待打磨晶体初步固定，通过转柄20转动转盘19可以使转轴17在支架16内部螺旋移动，可以使压板18移动至将待打磨晶体再次压紧，使待打磨晶体固定更紧固，防止在晶体外缘打磨过程中，出现因晶体发生移位而导致晶体打磨效果差的情况，极大的提高了晶体外缘的打磨加工效果，通过设置第一摇杆本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于晶体外缘的打磨装置，包括底座，其特征在于：所述底座（1）的顶部固定安装有固定块（2），所述固定块（2）的顶部开设有滑槽（3），所述滑槽（3）的内部活动安装有滑动柱（4），所述滑动柱（4）的顶部固定安装有载板（5），所述载板（5）的顶部开设有第一凹槽（6），所述第一凹槽（6）的内部活动安装有活动块（7），所述活动块（7）的顶部开设有第二凹槽（8），所述活动块（7）的顶部且位于第二凹槽（8）的背面固定安装有固定板（9），所述第二凹槽（8）的内部活动安装有限位板（10），所述载板（5）的左侧插接有一端延伸至第一凹槽（6）内部并与活动块（7）活动连接的第一摇杆（11），所述第一摇杆（11）的左侧固定安装有第一摇把（12），所述活动块（7）的正面插接有一端延伸至第二凹槽（8）内部并与限位板（10）活动连接的第二摇杆（13），所述第二摇杆（13）的底部固定安装有第二摇把（14），所述滑动柱（4）的表面且位于固定块（2）的上方套接有推杆（15），所述底座（1）的顶部且位于固定块（2）的左侧固定安装有支架（16），所述支架（16）的顶部插接有一端贯穿支架（16）的转轴（17），所述转轴（17）的顶部固定安装有压板（18），所述转轴（17）的顶部固定安装有转盘（19），所述转盘（19）顶部的左侧固定安装有转柄（20），所述底座（1）的顶部且位于固定块（2）的右侧固定安装有液压伸缩杆（21），所述液压伸缩杆（21）的顶部固定安装有防护罩（22），所述防护罩（22）的内部固定安装有电机（23），所述电机（23）的输出轴固定安装有一端贯穿防护罩（22）内壁顶部的打磨轴（24），所述打磨轴（24）的表面套接有打磨盘（25）。...

【技术特征摘要】
1.一种用于晶体外缘的打磨装置，包括底座，其特征在于：所述底座（1）的顶部固定安装有固定块（2），所述固定块（2）的顶部开设有滑槽（3），所述滑槽（3）的内部活动安装有滑动柱（4），所述滑动柱（4）的顶部固定安装有载板（5），所述载板（5）的顶部开设有第一凹槽（6），所述第一凹槽（6）的内部活动安装有活动块（7），所述活动块（7）的顶部开设有第二凹槽（8），所述活动块（7）的顶部且位于第二凹槽（8）的背面固定安装有固定板（9），所述第二凹槽（8）的内部活动安装有限位板（10），所述载板（5）的左侧插接有一端延伸至第一凹槽（6）内部并与活动块（7）活动连接的第一摇杆（11），所述第一摇杆（11）的左侧固定安装有第一摇把（12），所述活动块（7）的正面插接有一端延伸至第二凹槽（8）内部并与限位板（10）活动连接的第二摇杆（13），所述第二摇杆（13）的底部固定安装有第二摇把（14），所述滑动柱（4）的表面且位于固定块（2）的上方套接有推杆（15），所述底座（1）的顶部且位于固定块（2）的左侧固定安装有支架（16），所述支架（16）的顶部插接有一端贯穿支架（16）的转轴（17），所述转轴（17）的顶部固定安装有压板（18），所述转轴（17）的顶部固定安装有转盘（19），所述转盘（19）顶部的左侧固定安装有转柄（20），所述底座（1）的顶部且位于固定块（2...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄晓霞，
申请(专利权)人：福州腾企光电有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35